高选择性氧化二羟甲基吡啶中一个羟甲基的方法与流程

文档序号:12756158阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种将式II化合物氧化为式I化合物的方法,式I和式II中,R为羟基保护基团;其特征是:1)采用DMP或IBX为氧化剂;2)原料式II化合物与氧化剂的摩尔比为1:1~10;R选自三甲基硅基、叔丁基二甲基硅基、环戊基或苄基。2.权利要求1所述的方法,氧化反应完毕后,采用结晶方式分离产物;所述结晶是加入疏水溶剂使式I化合物析出结晶。3.权利要求1所述的方法,原料式II化合物与氧化剂的摩尔比为1:1~7。4.权利要求1所述的方法,其特征是反应温度为10℃~150℃。5.权利要求1所述的方法,其特征是反应溶剂为苯、甲苯、二甲苯、二氯乙烷、二氯甲烷或DMSO。
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