相关申请的交叉引用
本申请要求2014年8月19日提交的美国临时专利申请no.62/039,228的优先权,在此该申请的全部内容通过引用并入本申请中。
背景技术:
聚合物底物,例如在循环过程中形成的塑料再研磨料,可能包括不合需要的涂层。例如,涂层可能包括油墨、标签、粘合剂、金属薄膜,等。在进一步使用这些底物例如用于塑料制品制造的再生原料之前,需要处理这些聚合底物以移除不合需要的涂层。现有工艺使用极苛性溶液、高温和/或高压,或者高成本试剂清除涂层。
本申请理解从聚合物底物清除涂层可能是挑战性尝试。
技术实现要素:
在一种实施方式中,提供单相水溶液。单相水溶液可用于清除聚合物底物的一个或多个涂层。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。
在另一种实施方式中,提供过程混合物。该过程混合物包括聚合物底物。该聚合物底物可包括一个或多个涂层。过程混合物可包括单相水溶液。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。
在另一实施方式中,提供使用单相水溶液清除聚合物底物的一个或多个涂层的方法。该方法可包括提供单相水溶液。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。该方法可包括提供聚合物底物。该聚合物底物可包括一个或多个涂层。该方法可包括使单相水溶液和聚合物底物接触以形成过程混合物。该方法可包括在可有效清除聚合物底物的一个或多个涂层的部分的条件下,形成过程混合物。
在一种实施方式中,提供试剂盒。试剂盒可用于制作单相水溶液用于清除聚合物底物的一个或多个涂层。该试剂盒可包括以下组分中的一种或多种:无机碱组分和表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。该试剂盒可包括说明。该说明可指导用户将无机碱组分以及表面活性剂组分和水混合以形成单相水溶液。
附图说明
结合进说明书并成为其一部分的附图阐明了示例性方法和装置并仅用于阐明示例性实施方式。
图1是描述示例性方法的流程图。
图2是描述示例性试剂盒的框图。
图3是基于实例2和3的结果报告表。
具体实施方式
本申请涉及用于清除聚合物底物的一个或多个涂层的组分、过程混合物和试剂盒。
在各种实施方式中,提供单相水溶液。该单相水溶液可用于清除聚合物底物的一个或多个涂层。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。
在一些实施方式中,单相水溶液可包括水,占单相水溶液的重量百分比(w/w)约为以下至少一种或多种:90%,91%,92%,93%,94%,95%,96%,97%,98%,98.1%,98.2%,98.3%,98.4%,98.5%,98.6%,98.7%,98.8%,和98.9%。例如,单相水溶性可包括至少约94%的重量的水。单相水溶液可包括水,其重量百分比在上述任意上述重量百分比之间。
在各种实施方式中,无机碱组分可包括以下一种或多种:碱金属氢氧化物、碱土金属氧化物、或碱土金属氢氧化物。进一步的,无机碱组分可由或主要由以下一种或多种组成:碱金属氢氧化物、碱土金属氧化物或碱土金属氢氧化物。如此处使用的,碱金属可包括例如锂、钠、钾、铷或铯。碱土金属可包括,例如铍、镁、钙、锶或钡。例如,无机碱组分可包括以下一种或多种:氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氧化镁、氧化钙、氢氧化镁或氢氧化钙。无机碱组分可由或主要由以下一种或多种组成:氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氧化镁、氧化钙、氢氧化镁或氢氧化钙。无机碱组分可包括氢氧化钠。无机碱组分可包括氢氧化钾。无机碱组分可由或主要由氢氧化钠组成。无机碱组分可由或主要由氢氧化钾组成。
在各种实施方式中,无机碱组分可包含于单相水溶液中,其含量可在单相水溶液中有效建立以mol/l(m)计的以下氢氧化物浓度:约0.0125m至约1.25m;0.0125m至1m;0.025m至约0.75m;0.0625m至约0.625m;0.0625m至约0.563m;0.0625m至0.5m;0.0625m至约0.438m;0.125m至约0.375m;0.188m至约0.313m;约0.025m;约0.188m;约0.25m;或上述任意两个值之间的范围,例如约0.0125m至约1.25m,或任意上述值,例如约0.025m,约0.188m,或约0.25m。
无机碱组分在单相水溶液中与水的重量百分率(w/w)可为以下一种或多种:0.1%,0.2%,0.3%,0.4%,0.5%,0.6%,0.7%,0.75,0.8%,0.9%,1%,1.5%,2%,2.5%,3%,3.5%,4%,4.5%,5%,6%,7%,8%,9%,和10%。例如,无机碱组分可包括氢氧化钠,在单相水溶液中与水的重量百分率(w/w)约为1%,约0.75%等。
在一些实施方式中,表面活性剂组分可包括非离子型表面活性剂。表面活性剂组分可主要由,或由非离子型表面活性剂组成。例如,如此处使用的,该一种或多种烷基糖苷可以是非离子型表面活性剂。该表面活性剂组分可包括两种或更多种烷基糖苷。烷基糖苷,例如一种或多种烷基糖苷中的每个烷基可独立的选自以下一种:c4-c20烷基;c6-c18烷基;c6-c14烷基;c6-c12烷基;c8-c10烷基;或者c8和c10烷基。该一种或多种烷基糖苷可包括一个或多个烷基葡糖甙,例如两个或更多个烷基葡糖甙。烷基葡糖甙,例如一种或多种烷基葡糖甙中的每个烷基可独立的选自以下一种:c4-c20烷基;c6-c18烷基;c6-c14烷基;c6-c12烷基;c8-c10烷基;或者c8和c10烷基。该一种或多种烷基多糖苷可包括一个或多个癸酰基葡糖甙或癸基葡糖甙。表面活性剂组分可包括表面活性剂混合物。例如,表面活性剂组分可包括c8-c10烷基糖苷表面活性剂和c6-c12聚二醇烷基醚表面活性剂。
在几种实施方式中,表面活性剂组分还可包括以下一种或多种:聚二醇烷基醚,聚乙二醇烷基醚,聚丙二醇烷基醚,以及聚丙二醇聚乙二醇烷基醚。聚二醇烷基醚可指烷氧基化醇,例如乙氧基化醇、丙氧基化醇,其组合,等。聚二醇烷基醚可通过r1-(or2)x-oh表示。r1代表的基团可以是例如c6-c16烷基。r1可来自以下一种或多种:伯醇、仲醇、叔醇、线性烷基醇,以及支链烷基醇。r2代表的基团可以是c2-c4烷基,例如乙烯或被取代乙烯。变量x可以是1-10的整数。在一些实施方式中,r1代表的基团可以是c8-c12烷基;r2代表的基团可以是乙基;并且变量x可以为3-7的整数。
聚丙二醇聚乙二醇烷基醚可表示如下:r3-(or4)y-(or5)z-oh,r3-(or5)z-(or4)y-oh,r3-(or4)y-(or5)z-(or4)y-oh,r3-(or5)z-(or4)y-(or5)z-oh,其结合,等。或者,聚丙二醇聚乙二醇烷基醚可由ppg-z-r3-eth-y表示。r3可以为例如c6-c20烷基。r3可来自以下一种或多种:伯醇、仲醇、叔醇、线性烷基醇,以及支链烷基醇。r4表示的基团可为c2,例如乙烯。变量y/y’可以是1-12的整数。r5表示的基团可以是c3,例如用甲基取代的乙烯。变量z/z’可以是1-30,例如1-12的整数。在一些实施方式中,变量z可以是4-8的整数;变量y可以为1-5的整数;并且r3表示的基团可以为c10-c14烷基。
在各种实施方式中,聚二醇烷基醚可以包括癸醇聚醚-x等级的非离子型表面活性剂,例如由r1-(or2)x-oh表示,其中r1代表的基团为癸基,r2表示的基团为乙基,变量x为1-10的整数。例如,合适的实例是癸醇聚醚-5。其他聚二醇烷基醚的实例可包括lps-t91tm(lps实验室,illinoistoolworks有限公司的部门,tucker,乔治亚州);ethylantm1005sa,ethylantm1206,ethylantmtd-60,ethylantm324,ethylantm954,ethylantm1008sa,ethylantm992,ethylantm995,ethylantmns500k,ethylantmns500lq,ethylantmsn-120,ethylantmsn-90,ethylantmtd-1407等(azkonobelsurfacechemistryllc,伊利诺斯州芝加哥);tergitoltm15-s-9,tergitoltm15-s-3,tergitoltm15-s-5,tergitoltm15-s-7,tergitoltm15-s-12,tergitoltm15-s-15,tergitoltm15-s-20,tergitoltm15-s-30,tergitoltm15-s-40等(dowchemicalcompany,密歇根州米德兰);
聚丙二醇聚乙二醇烷基醚的合适实例可包括ppg-z-月桂醇聚醚-y等级非离子型表面活性剂,例如由r3-(or4)y-(or5)z-oh或r3-(or5)z-(or4)y-oh表示,其中r3表示的基团是月桂酰,r4表示的是乙烯,变量y是1-12的整数,例如1-5;基团r5表示丙烯(丙二醇,ppg),即被甲基取代的乙烯,并且变量z可以是1-30的整数,例如1-12,或4-8。例如,合适的实例可以是ppg-6-月桂醇聚醚-3。
在一些实施方式中,表面活性剂组分可包括以下一种或多种:癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。表面活性剂组分可包括:癸酰基葡糖甙、癸基葡糖甙、癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。表面活性剂组分可主要由以下组成:癸酰基葡糖甙、癸基葡糖甙、癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。表面活性剂组分可由以下组成:癸酰基葡糖甙、癸基葡糖甙、癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。
在几种实施方式中,单相水溶液可包括表面活性剂组分,该表面活性剂组分与水的重量百分率(w/w)约为以下一种或多种:0.005%至2%;0.01%至1.5%;0.025%至1%;0.025%至0.75%;0.025%至0.5%;0.05%至0.25%;0.05%至0.15%;0.2%至0.1%。
在各种实施方式中,包括非离子型表面活性剂例如一种或多种烷基糖苷的合适的表面活性剂组分可包括例如烷基葡糖甙组分,以商标名
在一些实施方式中,单相水溶液可主要由,或由水、无机碱组分,以及包括一种或多种烷基糖苷的表面活性剂组分组成。
在各种实施方式中,提供过程混合物。该过程混合物包括聚合物底物。该聚合物底物可包括一个或多个涂层。过程混合物可包括单相水溶液。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。
在一些实施方式中,过程混合物的单相水溶液可包括此处描述的单相水溶液的任意方面。例如,过程混合物的单相水溶液可包括无机碱组分、表面活性剂组分,以及水,用于此处的单相水溶液。
在一些实施方式中,聚合物底物可以是块状或微粒状,例如作为塑料再研磨料的一部分,例如作为回收程序的一部分。该聚合物底物,例如塑料再研磨料,可以是块状或颗粒,并可以是以下的一种或多种:可回收的;未利用塑料;刚性的;柔韧的;纤维的;纤维增强树脂,其混合物等。该聚合物底物可包括以下一种或多种:聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚碳酸酯(pc)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(pc/abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯(pc/asa)等。该一个或多个涂层可包括以下中的一种或多种:油漆、油墨、染料、粉末涂层、纸标签、塑料标签、粘结剂、防护涂层、金属化涂层、或生物涂层。生物涂层可以是例如基于蛋白质、低聚糖等。金属化涂层可包括连续的膜或金属微粒。该描述的溶液、过程混合物、方法和试剂盒可对金属薄膜尤其有效。
在各种实施方式中,提供使用单相水溶液清除聚合物底物的一个或多个涂层的方法。图1使用单相水溶液清除聚合物底物的一个或多个涂层的示例性方法100的的流程图。方法100可包括102,提供单相水溶液。单相水溶液可包括无机碱组分。单相水溶液可包括表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。单相水溶液可包括水。方法100可包括104,提供聚合物底物。该聚合物底物可包括一个或多个涂层。方法100可包括106使单相水溶液和聚合物底物接触以形成过程混合物。该方法可包括在可有效清除聚合物底物的一个或多个涂层的部分的条件下,形成过程混合物。
在一些实施方式中,有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括加热过程混合物,例如维持或达到所需温度。例如,过程混合物可在约以下一种或多种的温度下加热:60℃-100℃;65℃-100℃;70℃-100℃;75℃-95℃;80℃-90℃;或85℃。过程混合物可加热一段时间,例如,包括以下一种或多种:约5min-约24h;约10min-约12h;约15min-约8h;约20min-约4h;约20min-约3h;约20min-约2h;或约20min-约1h。
在几种实施方式中,有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括确定起始涂层量。有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括搅动过程混合物。可通过传统方法完成搅动,例如搅拌、滚动、振动或超声处理,通过煮沸搅动,等。有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括加热和搅动过程混合物。有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的部分的条件可包括确定小于起始涂层量的一百分率的过程涂层量。该起始涂层量的百分率可为以下一种或多种:20%,15%,14%,13%,12%,11%,10%,9%,8%,7%,6%,5%,4%,3%,2%,或1%,例如,10%,或上述任意值之间的范围,如约20%-约1%。有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的部分的条件可包括在确定过程涂层量小于起始涂层量的该百分率时,回收聚合物底物。有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的每个条件可作为独立的方法步骤实施。例如,该方法可包括搅动过程混合物。
在各种实施方式中,该方法可包括在清除一个或多个涂层后清除聚合物底物。该方法可包括在清除一个或多个涂层的一部分后回收至少一部分单相水溶液。该方法,例如有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括分批操作。该方法,例如有效清除聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括连续操作。
在一些实施方式中,该方法的单相水溶液可包括此处描述的单相水溶液的任意方面。例如,该方法的单相水溶液可包括无机碱组分、表面活性剂组分,以及水,用于此处的单相水溶液。同样的,该方法的过程混合物可包括此处描述的过程混合物的任意方面。例如,该方法的过程混合物可包括此处描述的单相水溶液,例如用于过程混合物。同样的,该方法的聚合物底物可包括此处描述的聚合物底物的任意方面。例如,该方法的聚合物底物可包括此处描述的包括一个或多个涂层的聚合物底物,例如用于过程混合物。
在几个实施方式中,该方法可包括形成单相水溶液的步骤,该单相水溶液可包括此处描述的单相水溶液的任意方面。例如,假如单相水溶液可包括形成一单相水溶液,该单相水溶液包括以下摩尔浓度的氢氧化钠:约0.0125m-约1.25m;0.0125m-约1m;0.025m-约0.75m;0.0625m-约0.625m;0.0625m-约0.563m;约0.0625-约0.5m;0.0625m-约0.438m;0.125m-约0.375m;0.188m-约0.313m;约0.025m;约0.188m;约0.25m;或者上述任意两个值之间的范围,例如,约0.0125m-约1.25m,或者上述任意值,例如约0.025m,约0.188m,或约0.25m。假设单相水溶液可包括形成包含氢氧化钠的单相水溶液,其中氢氧化钠与水的重量百分数(w/w)为以下一种或多种:约0.0125m至约1.25m;0.0125m至1m;0.025m至约0.75m;0.0625m至约0.625m;0.0625m至约0.563m;0.0625m至0.5m;0.0625m至约0.438m;0.125m至约0.375m;0.188m至约0.313m;约0.025m;约0.188m;约0.25m;或上述任意两个值之间的范围,例如约0.0125m至约1.25m,或任意上述值,例如约0.025m,约0.188m,或约0.25m。假设单相水溶液可包括形成包括氢氧化钠的单相水溶液,其中氢氧化钠与水的重量百分数(w/w)为以下一种或多种:0.1%,0.2%,0.3%,0.4%,0.5%,0.6%,0.7%,0.75,0.8%,0.9%,1%,1.5%,2%,2.5%,3%,3.5%,4%,4.5%,5%,6%,7%,8%,9%,和10%。例如,无机碱组分可包括氢氧化钠,在单相水溶液中与水的重量百分率(w/w)约为1%,约0.75%等。而且,例如,该方法可包括形成单相水溶液,该单相水溶液可主要由,或由水、无机碱组分,以及包括一种或多种烷基糖苷的表面活性剂组分组成。
进一步的,例如,在几种实施方式中,该方法可包括形成包含表面活性剂组分的单相水溶液,该表面活性剂组分与水的重量百分率(w/w)约为以下一种或多种:0.005%至2%;0.01%至1.5%;0.025%至1%;0.025%至0.75%;0.025%至0.5%;0.05%至0.25%;0.05%至0.15%;0.2%;和0.1%。
在一些实施方式中,该方法可包括形成单相水溶液,其中水占单相水溶液的重量百分比(w/w)约为以下至少一种或多种:94%,95%,96%,97%,98%,98.1%,98.2%,98.3%,98.4%,98.5%,98.6%,98.7%,98.8%,或98.9%,或上述任意值之间的范围,如约94%-约98.9%。
在各种实施方式中,提供试剂盒。图2是用于提供单相水溶液用于清除聚合物底物的一个或多个涂层的示例性试剂盒200的块状图。该试剂盒可包括202以下组分中的一种或多种:无机碱组分和表面活性剂组分。表面活性剂组分可包括一种或多种烷基糖苷。该试剂盒可包括说明204。该说明204可指导用户将无机碱组分以及表面活性剂组分和水混合以形成单相水溶液。
在一些实施方式中,试剂盒可包括无机碱组分和表面活性剂组分。该试剂盒可包括无机碱干组分。该试剂盒可包括无机碱组分和表面活性剂组分一起作为以下一种:净混合物;水性浓缩物;或者单相水溶液,例如即用型。
在各种实施方式中,该说明可进一步指导用户通过将单相水溶液和包括至少一个或多个涂层的聚合物底物接触形成过程混合物。该说明可指导用户使用包括以下一种或多种的聚合物底物:聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚碳酸酯(pc)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(pc/abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯(pc/asa)等。该说明可指导用户使用聚合物底物,该一个或多个涂层包括以下一种或多种:油漆、油墨、染料、粉末涂层、纸标签、塑料标签、粘结剂、防护涂层、金属化涂层、或生物涂层。
在各种实施方式中,说明可指导用户从聚合物底物有效清除一个或多个涂层,包括以下一种或多种:加热过程混合物、搅动过程混合物、在清除该一个或多个涂层的一部分后回收聚合物底物,或者回收单相水溶液的至少一部分。该说明可指导用户清除聚合物底物上的一个或多个涂层,包括在以下一种或多种温度条件下加热过程混合物:60℃-100℃;65℃-100℃;70℃-100℃;75℃-95℃;80℃-90℃;82℃;和85℃。该说明可指导用户清除聚合物底物的一个或多个涂层,包括以下一种:分批操作或连续操作。
在一些实施方式中,该说明可指导用户清除聚合物底物的一个或多个涂层,包括以下一种或多种:确定起始涂层量;加热并搅动过程混合物;确定过程涂层量少于起始涂层量的一百分率;并在确定过程涂层量少于起始涂层量的该百分率时回收聚合物底物。该起始涂层量的百分率可为以下一种或多种:20%,15%,14%,13%,12%,11%,10%,9%,8%,7%,6%,5%,4%,3%,2%,和1%。
在几种实施方式中,该说明可指导用户形成包含无机碱组分的单相水溶液,该无机碱组分的含量可在单相水溶液中有效建立以mol/l(m)计的以下氢氧化物浓度:约0.0125m至约1.25m;0.0125m至1m;0.025m至约0.75m;0.0625m至约0.625m;0.0625m至约0.563m;0.0625m至0.5m;0.0625m至约0.438m;0.125m至约0.375m;0.188m至约0.313m;0.05m;0.025m;0.188m;和0.25m。例如,该说明可指导用户形成包含无机碱组分的单相水溶液,该无机碱组分包括氢氧化钠,与水的重量百分比(w/w)约为1%。例如,该方法可指导用户形成包含表面活性剂组分的单相水溶液,该表面活性剂组分与水的重量百分率(w/w)约为以下一种或多种:0.005%至2%;0.01%至1.5%;0.025%至1%;0.025%至0.75%;0.025%至0.5%;0.05%至0.25%;0.05%至0.15%;0.2%至0.1%;例如,该说明可指导用户形成单相水溶液,其中水占单相水溶液的重量百分比(w/w)约为以下至少一种或多种:95%,96%,97%,98%,98.1%,98.2%,98.3%,98.4%,98.5%,98.6%,98.7%,98.8%,和98.9%。例如,该说明可指导用户形成单相水溶液,该单相水溶液可主要由,或由水、无机碱组分,以及包括一种或多种烷基糖苷的表面活性剂组分组成。
在一些实施方式中,该试剂盒的单相水溶液可包括此处描述的单相水溶液的任意方面。例如,该试剂盒的单相水溶液可包括无机碱组分、表面活性剂组分,以及水,用于此处的单相水溶液。同样的,该试剂盒的过程混合物可包括此处描述的过程混合物的任意方面。例如,该方法的过程混合物可包括此处描述的单相水溶液,例如用于过程混合物。同样的,该方法的聚合物底物可包括此处描述的聚合物底物的任意方面。例如,该方法的聚合物底物可包括此处描述的包括一个或多个涂层的聚合物底物,例如用于过程混合物。进一步的,该试剂盒的说明可包括操作此处说明的任意方法步骤的说明。
在此,各实施方式可列举术语“包括”或者在权利要求中的术语“包含”及其语法变体。对于每种实施方式,对应的另外实施方式可清楚的预计术语“包含”被“由...主要组成”和“由...组成”替代。
实例
实例1
将约11,793kg的85℃热水加入搅拌桶中。约4,990kg聚丙烯片状底物按重量分析的加入水中,并混合形成悬浮液。聚丙烯片状底物是刚性塑料再研磨料,约0.953cm尺寸,并包括墨水和金属化涂层的混合物。起始涂层污染确定为约35%。一旦确定混合率是正确的,按下述顺序分步加入试剂至悬浮液中。总计加入试剂制作下述重量百分率(通过每种试剂重量除以水重量确定)的单相水溶液。因此,加入236kg氢氧化钠的50%水溶液形成1%w/w氢氧化钠浓度。进一步的,加入11.8kg
从第2小时开始每隔30min取样,直至平面印刷的聚丙烯片状底物基本从丝网印刷油墨涂层脱离。在约第2.5小时,测定96%聚丙烯片状底物是干净的。在约第3.5小时,大于测定98%聚丙烯片状底物是干净的。使用传统技术将悬浮液脱水,洗涤和干燥,以分离经洗涤的片状物和不需要的产物,收集用于下一步应用,例如,回收。单相水溶液可使用过滤技术进行回收重新用于试剂回收。
实例2
在搅拌桶中加入约2.72kg的水并加热至约82℃。当水达到82℃并在约800rpm条件下搅拌,在搅拌桶中加入0.75%(w/w)的50%(w/v)naoh溶液,0.10%(w/w)
实例3
在搅拌桶中加入约3.63kg的水并加热至约82℃。当水达到82℃并在约1200rpm条件下搅拌,在搅拌桶中加入0.75%(w/w)的50%(w/v)naoh溶液,0.10%(w/w)
当用作权利要求的过渡词时,本发明说明书或权利要求中使用的术语“包括”、“包括”,其包含类似于术语“包含”的方式进行解释。而且,使用的术语“或”(例如a或b),其欲表达的意思是“a或b或二者”。但申请人想表达“仅a或b但非二者”时,将使用术语“仅a或b但非二者”。因此,此处使用术语“或”是包含的,而非排除性使用。见bryana.garner,adictionaryofmodernlegalusage624(2d.ed.1995)。并且,说明书或权利要求中使用的术语“在...里面”或“至...里面”,也表达“在...上面”或“至...上”的意思。说明书或权利要求中使用的术语“选择性”,是指组分的条件,其中装置使用者在使用过程中如有必要或需要,可激活或停用组分的特征或功能。说明书和权利要求中使用的术语“操作性耦合”或“操作性连接”,表达的意思是特定组分用某种方式连接执行指定功能。说明书和权利要求中使用的术语“实质性”,表达的意思是特定组分具有的关系或数量的误差在主体行业中是可接受的。
本说明书及权利要求中使用的单数形式“一(a)”、“一(an)”和“该(the)”包括复数形式,除非另有明确说明是单数。例如,涉及“一化合物”可包括两种或更多种化合物的混合物以及单种化合物。
如此处使用的,术语“约”连同一数字表达的意思是包括该数字±10%。换而言之,“约10”可指9-11。
如此处使用的,术语“可选的”和“可选地”指随后表述的情况可能发生,也可能不发生,因此,该表述包括情况发生或不发生的情形。
如上所述,尽管本申请通过实施方式进行描述,并且尽管实施方式用相当细节进行描述,申请人并非想以任何方式限制或限定后附的权利要求范围至该细节。在本发明教导下,另外的优势和改进对于本领域技术人员而言是显而易见的。因此,本发明在其最宽范围内,并不限于特定细节、显示的示例性实例或涉及的任何装置。在不违背通用发明概念的情形下,可出现对该细节、实例和装置的偏差。
如此处使用的,“替代的”是指如下定义的有机基团(例如烷基基团)其中一个或多个与其中的氢原子连接的键可被非氢或非碳原子键取代。被取代的基团也可包括多个基团,其中一个或多个连接至碳或氢原子的键可被一个或多个连接至杂原子的键,包括双键或三键取代。被取代基团也可被一个或多个取代基取代,除非另有说明。在一些实施方式中,被取代基团可被1、2、3、4、5或6个取代基取代。取代基实例包括:卤原子(即f、cl、br和i);羟基、烷氧基、烯氧基、芳氧基、芳烷氧基、杂环氧基、以及杂环烷氧基;金属羰基合物(oxo);羧基;酯基;聚氨酯橡胶;肟;羟胺;烷氧胺;芳基烷氧基胺;巯基;硫化物;亚砜;砜类;磺酰基;胍;胺类;n-氧化物;肼;酰肼类;腙;叠氮化物;酰胺;尿素酶;脒;胍;烯胺;酰亚胺;异氰酸酯;异硫氰酸酯;氰酸酯;硫氰酸酯;亚胺;硝基;或腈类(即cn)。“过”取代化合物或基团是指所有或实质上所有的可取代位置被指定取代基取代的化合物或基团。例如,1,6-二碘全氟己烷表明了式c6f16i2,其中所有的可取代氢被氟原子取代。
被取代的环基如被取代的环烷基、芳基、杂环和杂芳基也包括环和环系统,其中氢原子被连接至碳原子的键取代。被取代的环烷基、芳基、杂环和杂芳基可被已被取代或未被取代的烷基、烯基和炔基取代,如下所述。
烷基包括直链和支链基团,具有1-12个碳原子,并通常为1-10个碳原子,在一些实例中,是1-8、1-6或1-4个碳原子。直链烷基的实例包括基团如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基和正辛基。支链烷基的实例包括但不限于异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、新戊基、异戊基和2,2二甲基丙基。代表性被取代烷基可被取代基取代一次或多次,如上述所列取代基,包括但不限于卤烷基(例如三氟甲基)、羟烷基、巯烷基、氨烷基、烷基氨烷基、二烷基氨烷基、烷氧基烷基、或羧烷基。
环烷基包括单、二或三环烷基,该一个或多个环上具有3-12个碳原子,或者在一些实施方式中,环上具有3-10、3-8或3-4、3-5或3-6个碳原子。示例性单环环烷基包括但不限于环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基和环辛基。在一些实施方式中,环烷基具有3-8个环构件,而在其他实施方式中,环碳原子的数量为3-5、3-6或3-7个。双环和三环系统包括桥接环烷基和稠环,例如但不限于双环[2.1.1]己烷、金刚烷基、或十氢萘基(decalinyl)。被取代的环烷基可被非氢和非碳基团取代一次或多次,如上文所定义的。然而,被取代的环烷基也包括被直链或支链烷基取代的环,如上文所定义的。代表性被取代环烷基可以是单取代或多取代的,例如但不限于2,2-,2,3-,2,4-2,5-或2,6双取代环己基,其可以被上文所列取代基取代。
芳基可以为不含杂原子的环芳香烃基。此处的芳基包括单环、双环和三环系统。芳基包括但不限于苯基、薁基、庚搭烯基(heptalenyl)、联苯、茐基、菲基(phenanthrenyl)、蒽基、茚基、二氢茚基、戊搭烯基(pentalenyl)、和萘基。在一些实施方式中,芳基包含6-14个碳原子,在其他实施方式中,为6-12或甚至6-10个碳原子在基团的环上。在一些实施方式中,芳基可以是苯基或萘基。尽管术语“芳基”可包括含稠环基团,例如稠芳香-脂肪环系统(例如二氢茚基或四氢萘基)。“芳基”不具有结合至环构件的其他基团,例如烷基或卤基。当然,基团例如甲苯基可视为被取代的芳基。代表性的被取代芳基可为单取代或多取代的。例如,单取代芳基包括但不限于2-、3-、4-、5-或6-取代苯基或萘基,其可被上述取代基取代。
芳烷基可以是上述定义的烷基,其中烷基的一个氢或碳键被如上所述的芳基的键取代。在一些实施方式中,芳烷基包括7-16个碳原子、7-14个碳原子、或7-10个碳原子。被取代的芳烷基可在烷基、芳基或同时在二者位置被取代。代表性芳烷基包括但不限于苯基和苯乙基和稠合(环烷基芳基)烷基如4-二氢茚基乙基。被取代的芳烷基可被上述取代基取代一次或多次。
此处描述的本技术的基团在化合物内具有两个或多个连接点(即二价、三价或多价),可通过后缀“ene”命名。例如,二价烷基可以是烯烃基,二价芳基可以是亚芳基,二价杂芳基可以是杂亚芳基,等等。特别的,某些聚合物可通过使用后缀“ene”结合表述聚合物重复单元的术语进行描述。
烷氧基可以是羟基(-oh),其中结合至氢原子的键被经取代或未经取代烷基的碳原子上的键取代,如上所述的。线性烷氧基的实例包括,但不限于,甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、或己氧基。支链烷氧基的实例包括但不限于异丙氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、或异己氧基。环烷氧基的实例包括但不限于环丙氧基、环丁氧基、环戊氧基、或环己氧基。代表性的被取代的烷氧基可被上述所列取代基取代一次或多次。
此处公开的各种方面和实施方式用于解释说明目的,并没意图限制下述权利要求表明的真实范围和精神。