单体、聚合物、补偿膜、光学膜和显示装置的制作方法

对相关申请的交叉引用

本申请根据35u.s.c.§119要求2016年1月7日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请no.10-2016-0002148的优先权、以及由其产生的所有权益，将其内容通过参考全部引入本文中。

公开单体、聚合物、补偿膜、光学膜、和显示装置。

背景技术：

平板显示器可分类为自身发射光的发光显示装置和需要独立的光源的非发射型显示装置，其中采用补偿膜以改善其图像品质。在可改善现有的补偿膜和光学膜的性质的新型聚合物方面仍然存在需要。

技术实现要素：

一个实施方式提供可应用于补偿膜中的新型单体。

另一实施方式提供通过所述新型单体的聚合获得的聚合物。

又一实施方式提供包括所述聚合物的补偿膜。

还一实施方式提供包括所述补偿膜的光学膜。

再一实施方式提供包括所述补偿膜或所述光学膜的显示装置。

根据一个实施方式，提供由化学式1表示的单体。

化学式1

在化学式1中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述单体可由化学式1-1或1-2表示。

在化学式1-1和1-2中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述单体可由化学式1-1a到1-2d之一表示。

在化学式1-1a到1-2d中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o。

根据另一实施方式，提供具有得自所述单体的结构单元的聚合物。

所述结构单元可得自所述单体与碳酸酯或其衍生物的反应产物。

根据另一实施方式，提供具有由化学式3表示的第一结构单元的聚合物。

化学式3

在化学式3中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述第一结构单元可由化学式3-1或3-2表示。

在化学式3-1和3-2中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述第一结构单元可由化学式3-1a到3-2d之一表示。

在化学式3-1a到3-2d中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o。

所述聚合物可进一步包括由化学式4表示的第二结构单元。

化学式4

在化学式4中，

l¹为单键、取代或未取代的c1-c20亚烷基、取代或未取代的c3-c20亚环烷基、取代或未取代的c6-c20亚芳基、取代或未取代的c3-c20二价杂环基团、o、c(＝o)、c(＝o)o、so2、或其组合，和

r¹¹和r¹²独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。

所述第一结构单元对所述第二结构单元的摩尔比可为约0.1:99.9-约10.0:90.0。

所述第一结构单元对所述第二结构单元的摩尔比可为约1:99-约5:95。

根据另一实施方式，补偿膜包括具有得自所述单体的结构单元的聚合物。

所述结构单元可得自所述单体与碳酸酯或其衍生物的反应产物。

所述补偿膜可为在单轴或双轴方向上伸长的。

根据另一实施方式，补偿膜包括具有由化学式3表示的第一结构单元的第一聚合物。

所述第一结构单元可由化学式3-1或3-2表示。

所述第一结构单元可由化学式3-1a到3-2d之一表示。

所述第一聚合物可进一步包括由化学式4表示的第二结构单元。

所述第一聚合物可以约0.1:99.9-约10.0:90.0的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。

所述第一聚合物可以约1:99-约5:95的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。

所述补偿膜可进一步包括具有由化学式5表示的结构单元的第二聚合物。

化学式5

在化学式5中，

l²为单键、取代或未取代的c1-c20亚烷基、取代或未取代的c3-c20亚环烷基、取代或未取代的c6-c20亚芳基、取代或未取代的c3-c20二价杂环基团、o、c(＝o)、c(＝o)o、so2、或其组合，和

r¹³和r¹⁴独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。

所述补偿膜可以约1:9-约3:7的摩尔比包括所述第一聚合物和所述第二聚合物。

所述补偿膜可为在单轴或双轴方向上伸长的。

所述补偿膜的在450纳米波长、550纳米波长、和650纳米波长处的延迟值可满足关系方程1到5之一。

关系方程1

r(450nm)≥r(550nm)>r(650nm)

关系方程2

r(450nm)>r(550nm)≥r(650nm)

关系方程3

r(450nm)＝r(550nm)＝r(650nm)

关系方程4

r(450nm)≤r(550nm)<r(650nm)

关系方程5

r(450nm)<r(550nm)≤r(650nm)

在关系方程1到5中,

r(450nm)为在450纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，

r(550nm)为在550纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和

r(650nm)为在650纳米波长处的面内延迟或厚度方向延迟。

根据另一实施方式，光学膜包括所述补偿膜和偏振器。

根据另一实施方式，显示装置包括所述补偿膜或所述光学膜。

附图说明

从结合附图考虑的实施方式的以下描述，这些和/或其它方面将变得明晰和更容易理解，在附图中：

图1为显示根据一个实施方式的光学膜的示意性横截面图，

图2为显示光学膜的外部光抗反射原理的示意图，

图3为偏振膜的实例的示意图，

图4为显示根据一个实施方式的有机发光装置的示意性横截面图，和

图5为显示根据一个实施方式的液晶显示器的示意性横截面图。

具体实施方式

本公开内容的示例性实施方式将在下文中被详细地描述，且可通过具有相关领域中的普通技能的人员容易地实施。然而，本公开内容可以许多不同的形式体现，并且不被解释为限于本文中阐述的示例性实施方式。

将理解，尽管术语第一、第二、第三等可在本文中用于描述各种元件、组分、区域、层、和/或部分，但这些元件、组分、区域、层、和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组分、区域、层或部分区别于另外的元件、组分、区域、层或部分。因此，在不背离本实施方式的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组分、区域、层或部分可称为第二元件、组分、区域、层或部分。

本文中使用的术语仅为了描述具体实施方式的目的且不意图为限制性的。如本文中使用的，单数形式“一个(种)(a，an)”和“所述(该)(the)”也意图包括复数形式，除非上下文清楚地另外指明。

术语“或”意味着“和/或”。将进一步理解，术语“包括”和/或“包含”或者“含有”和/或“含”当用在本说明书中时，表明存在所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、和/或组分，但不排除存在或增加一种或多种另外的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组分、和/或其集合。

除非另外定义，在本文中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)的含义与本总的发明构思所属领域的普通技术人员通常理解的相同。将进一步理解，术语，例如在常用字典中定义的那些，应被解释为其含义与它们在本公开内容和相关领域的背景中的含义一致，并且将不以理想化或过度形式的意义进行解释，除非在本文中清楚地如此定义。

在本文中参照作为理想化实施方式的示意图的横截面图描述示例性实施方式。照这样，将预计到作为例如制造技术和/或公差的结果的与图的形状的偏差。因此，本文中描述的实施方式不应解释为限于如本文中所图示的区域的具体形状，而是包括由例如制造所导致的形状方面的偏差。例如，图示或描述为平坦的区域可典型地具有粗糙的和/或非线性的特征。而且，所图示的尖锐的角可被变圆。因此，图中所图示的区域在本质上是示意性的，并且它们的形状不意图图示区域的精确形状，且不意图限制本权利要求的范围。

在附图中，为了清楚起见，放大层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。将理解，当一个元件例如层、膜、区域、或基板被称为“在”另外的元件“上”时，其可直接在所述另外的元件上或者还可存在中间元件。相反，当一个元件被称为“直接在”另外的元件“上”时，则不存在中间元件。

如本文中使用的“约”或“大约”包括所陈述的值且意味着在如由本领域普通技术人员考虑到所讨论的测量和与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的限制)所确定的对于具体值的可接受的偏差范围内。例如，“约”可意味着相对于所述的值的偏差在一个或多个标准偏差范围内，或者在±30％、20％、10％、5％范围内。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“取代(的)”指的是用选自如下的至少一个取代基代替化合物或基团的氢而进行取代：卤素、羟基、烷氧基、硝基、氰基、氨基、叠氮基、脒基、肼基、腙基、羰基、氨基甲酰基、硫醇基、酯基、羧基或其盐、磺酸基团或其盐、磷酸基团或其盐、c1-c20烷基、c2-c20烯基、c2-c20炔基、c6-c30芳基、c7-c30芳烷基、c1-c30烷氧基、c1-c20杂烷基、c3-c20杂芳烷基、c3-c30环烷基、c3-c15环烯基、c6-c15环炔基、c3-c30杂环烷基、及其组合。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“烷基”指的是具有规定的碳原子数且具有一的化合价的得自直链或支链饱和脂族烃的基团。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“烷氧基”指的是“烷基-o-”，其中术语“烷基”具有与以上描述的相同的含义。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“环烷基”指的是具有一个或多个其中所有环成员为碳的饱和环的单价基团。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，单独或组合使用的术语“芳基”指的是包含至少一个环且具有规定的碳原子数的芳族烃基团。术语“芳基”可解释为包括具有稠合到至少一个环烷基环的芳族环的基团。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“杂环基团”指的是这样的单价基团：其具有一个或多个包括一到三个选自n、o、s、se、和p的杂原子环成员的饱和环，其中剩余的环成员为碳。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“甲硅烷基”指的是具有式–sir3的基团，其中r各自独立地选自如上定义的烷基和芳基。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“卤素”指的是氟、氯、溴、和碘。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“羟基”指的是“–oh”。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“硝基”指的是“–no2”。

如本文中使用的，术语“亚烷基”指的是具有至少二的化合价的直链或支化的饱和脂族烃基，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述亚烷基的化合价。

如本文中使用的，术语“亚环烷基”指的是具有至少二的化合价的环状烃基，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述亚环烷基的化合价。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“亚芳基”指的是通过除去芳族环中的两个氢而获得的具有二的化合价的官能团，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述亚芳基的化合价。

如本文中使用的，术语“二价杂环基团”指的是这样的环状基团：其具有至少二的化合价，且包括一到三个选自n、o、s、se、和p的杂原子环成员，其中剩余的环成员为碳，其任选地在所指示处被一个或多个取代基取代，条件是不超过所述二价杂环基团的化合价。

当包含规定数量的碳原子的基团被在前面的段落中列举的任意基团取代时，所得“取代的”基团中的碳原子数定义为原始的(未取代的)基团中包含的碳原子和取代基中包含的碳原子(如果有的话)之和。例如，当术语“取代的c1-c30烷基”指的是被c6-c30芳基取代的c1-c30烷基时，所得芳基取代的烷基中的碳原子总数为c7-c60。

如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“杂”指的是其包括1-3个选自n、o、s、se、和p的杂原子。

在下文中，描述根据一个实施方式的单体。

根据一个实施方式的单体由化学式1表示。

化学式1

在化学式1中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述单体具有在一个方向上连续地连接的苯基乙炔基团，且可由于所述苯基乙炔基团的存在而有效地吸收在预定波长区域中的光。因此，它可用在需要良好的光学性质的各种装置中。

例如，所述单体可与脂族或芳族介晶(mesogen)化合物反应且可用作具有合乎需要的光学性质的液晶材料。

例如，所述单体可与碳酸酯或其衍生物例如三光气反应以形成聚碳酸酯。聚碳酸酯膜可例如用作具有合乎需要的光学性质的补偿膜。

另外，所述单体可具有改善的溶解性且可相对容易地合成。

例如，在化学式1中，x¹和x²可相同或不同。

例如，在化学式1中，n1和n2可独立地为0。

例如，在化学式1中，n1和n2可独立地为0或1。

所述单体可例如由化学式1-1或1-2表示。

在化学式1-1和1-2中，x¹、x²、r¹-r¹⁰、n1、和n2与以上描述的相同。

例如，在化学式1-1或1-2中，x¹和x²可相同或不同。

例如，在化学式1-1或1-2中，n1和n2可独立地为0。

例如，在化学式1-1或1-2中，n1和n2可独立地为0或1。

所述单体可例如由化学式1-1a到1-2d之一表示，但不限于此。

在化学式1-1a到1-2d中，x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o。

所述单体可形成均聚物或与另外的单体形成共聚物。聚合物可具有得自由化学式1表示的单体的结构单元。

所述单体可在聚合期间与碳酸酯或其衍生物反应以形成包括得自由化学式1表示的单体的结构单元的聚碳酸酯。

所述聚合物可包括由化学式3表示的第一结构单元。

化学式3

在化学式3中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述第一结构单元可包括通过所述单体与碳酸酯或其衍生物的反应获得的主链部分和相对于主链部分在基本上垂直的方向上排列的苯基乙炔基团。所述苯基乙炔基团可对称地或不对称地位于所述聚合物的主链的两侧，且通过控制所述苯基乙炔基团的位置和数量，可改变取决于波长的光吸收特性和折射率。因此，所述聚合物可用在需要良好的光学性质的各种领域中。例如，所述聚合物可通过改变在主链方向上的折射率和在所述苯基乙炔基团的排列方向上的折射率而控制取决于波长的双折射。

所述第一结构单元可例如由化学式3-1或3-2表示。

在化学式3-1和3-2中，x¹、x²、r¹-r¹⁰、n1、和n2与以上描述的相同。

例如，在化学式3-1或3-2中，x¹和x²可相同或不同。

例如，在化学式3-1或3-2中，n1和n2可独立地为0。

例如，在化学式3-1或3-2中，n1和n2可独立地为0或1。

所述第一结构单元可例如由化学式3-1a到3-2d之一表示，但不限于此。

在化学式3-1a到3-2d中，x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o。

所述聚合物可通过共聚由化学式1表示的单体与至少一种另外的单体而获得，且可进一步包括得自所述至少一种另外的单体的至少一种结构单元。所述另外的单体可在聚合期间与碳酸酯或其衍生物反应以具有能够形成具有碳酸酯基团的聚碳酸酯的反应位点。所述另外的单体可为例如具有羟基的单体，且可为例如双酚或其衍生物，但不限于此。

例如，当使双酚或其衍生物一起聚合时，所述聚合物可进一步包括由化学式4表示的第二结构单元。

化学式4

在化学式4中，

l¹为单键、取代或未取代的c1-c20亚烷基、取代或未取代的c3-c20亚环烷基、取代或未取代的c6-c20亚芳基、取代或未取代的c3-c20二价杂环基团、o、c(＝o)、c(＝o)o、so2、或其组合，和

r¹¹和r¹²独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。

所述第二结构单元可具有通过双酚或其衍生物与碳酸酯或其衍生物的反应获得的主链部分。

当所述第一聚合物包括所述第一结构单元和所述第二结构单元时，可以约0.1:99.9-约10.0:90.0的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。尽管不希望受理论束缚，但理解，在以上范围内，柔性可改善且可获得合乎需要的光学性质，且因此所述聚合物可被容易地转变成膜。尽管不希望受理论束缚，但理解，在以上范围内，可例如以约0.5:99.5-约10:90、或约1:99-约5:95的摩尔比包括所述第一和第二结构单元。

所述聚合物可例如以膜的形式制备，且因此可用作聚合物膜。所述聚合物膜可为例如透明的，且因此可用在任何需要透明性的装置中。所述聚合物膜可用于多种应用例如基底、保护膜、补偿膜、光学膜、介电层、绝缘层、粘合层等。

在下文中，描述根据一个实施方式的补偿膜。

根据一个实施方式的补偿膜可包括第一聚合物，所述第一聚合物为由化学式1表示的单体的均聚物或者由化学式1表示的单体与至少一种另外的单体的共聚物。因此，所述第一聚合物可具有得自由化学式1表示的单体的第一结构单元，且所述第一结构单元可得自由化学式1表示的单体与碳酸酯或其衍生物的反应。

所述第一聚合物可包括由化学式3表示的第一结构单元。

化学式3

在化学式3中，

x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o，

r¹-r¹⁰独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1和n2独立地为范围0-3的整数。

所述第一结构单元可包括通过所述单体与碳酸酯或其衍生物的反应获得的主链部分和相对于主链在基本上垂直的方向上排列的苯基乙炔基团。所述苯基乙炔基团可对称地或不对称地位于所述聚合物的主链的两侧，且第一结构单元可通过控制所述苯基乙炔基团的位置和数量而改变取决于波长的光吸收特性和折射率且可具有延迟。例如，所述第一聚合物可通过改变在主链方向上的折射率和在所述苯基乙炔基团的排列方向上的折射率而控制取决于波长的双折射。

所述第一结构单元可例如由化学式3-1或3-2表示。

在化学式3-1和3-2中，x¹、x²、r¹-r¹⁰、n1、和n2与以上描述的相同。

例如，在化学式3-1或3-2中，x¹和x²可相同或不同。

例如，在化学式3-1或3-2中，n1和n2可独立地为0。

例如，在化学式3-1或3-2中，n1和n2可独立地为0或1。

所述第一结构单元可例如由化学式3-1a到3-2d之一表示，但不限于此。

化学式3-2d

在化学式3-1a到3-2d中，x¹为o、c(＝o)、或oc(＝o)，且x²为o、c(＝o)、或c(＝o)o。

所述第一聚合物可通过共聚由化学式1表示的单体与至少一种另外的单体而获得，且可进一步包括得自所述至少一种另外的单体的至少一种结构单元。所述至少一种另外的单体可在聚合期间与碳酸酯或其衍生物反应以形成具有碳酸酯基团的聚碳酸酯。所述另外的单体可在聚合期间与碳酸酯或其衍生物反应以具有能够形成具有碳酸酯基团的聚碳酸酯的反应位点。所述另外的单体可为例如具有羟基的单体，且可为例如双酚或其衍生物，但不限于此。

例如，当使双酚或其衍生物一起聚合时，所述第一聚合物可进一步包括由化学式4表示的第二结构单元。

化学式4

在化学式4中，

l¹为单键、取代或未取代的c1-c20亚烷基、取代或未取代的c3-c20亚环烷基、取代或未取代的c6-c20亚芳基、取代或未取代的c3-c20二价杂环基团、o、c(＝o)、c(＝o)o、so2、或其组合，和

r¹¹和r¹²独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。

所述第二结构单元可具有通过双酚或其衍生物与碳酸酯或其衍生物的反应获得的主链部分。

当所述第一聚合物包括所述第一结构单元和所述第二结构单元时，可以约0.1:99.9-约10.0:90.0的摩尔比包括所述第一结构单元和所述第二结构单元。尽管不希望受理论束缚，但理解，在所述范围内，柔性可改善且可获得合乎需要的光学性质，且因此所述聚合物可被容易地转变成膜。尽管不希望受理论束缚，但理解，在以上范围内，可例如以约0.5:99.5-约10:90、或约1:99-约5:95的摩尔比包括所述第一和第二结构单元。

除所述第一聚合物之外，所述补偿膜可进一步包括至少一种第二聚合物。通过包括所述第二聚合物，所述补偿膜可具有进一步改善的光学物理特性。

所述第二聚合物可为起到使所述补偿膜更好的作用的任何聚合物且没有特别限制，并且可具有例如拥有取代或未取代的亚芳基和碳酸酯基团的结构单元。

所述第二聚合物可具有例如由化学式5表示的结构单元。

化学式5

在化学式5中，

l²为单键、取代或未取代的c1-c20亚烷基、取代或未取代的c3-c20亚环烷基、取代或未取代的c6-c20亚芳基、取代或未取代的c3-c20二价杂环基团、o、c(＝o)、c(＝o)o、so2、或其组合，和

r¹³和r¹⁴独立地为氢、取代或未取代的c1-c20烷基、取代或未取代的c1-c20烷氧基、取代或未取代的c3-c20环烷基、取代或未取代的c6-c20芳基、取代或未取代的c3-c20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。

可例如以约1:9-约9:1、例如约1:9-约2:8、或约1:9-约3:7的摩尔比包括所述第一聚合物和所述第二聚合物。尽管不希望受理论束缚，但理解，在这些范围内，柔性可改善并可获得合乎需要的光学性质，且因此所述聚合物可被容易地转变成膜。

所述补偿膜可为例如在单轴或双轴方向上伸长的。例如，所述补偿膜可为在单轴方向上伸长的。

如上所述，所述补偿膜可具有预定的延迟，其可通过改变取决于波长的光吸收特性和折射率而获得。

所述补偿膜的延迟(r)可表示为面内延迟(ro)和厚度方向延迟(rth)。所述补偿膜的面内延迟(ro)为在所述补偿膜的平面内方向上产生的延迟且由方程ro＝(nx-ny)d表示。所述补偿膜的厚度方向延迟(rth)为所述补偿膜的在厚度方向上产生的延迟且由方程rth＝{[(nx+ny)/2]-nz}d表示。在这里，nx为在补偿膜的平面中具有最高折射率的方向(在下文中称为“慢轴”)上的折射率，ny为在所述补偿膜的平面中具有最低折射率的方向(在下文中称为“快轴”)上的折射率，nz为在与补偿膜的慢轴和快轴垂直的方向上的折射率，且d为补偿膜的厚度。

通过改变nx、ny、nz、和/或厚度(d)，所述补偿膜可具有在预定范围内的面内延迟和厚度方向延迟。

取决于波长，所述补偿膜可具有相同或不同的延迟。

例如，所述补偿膜可具有其中在较短波长处的光的延迟大于在较长波长处的光的延迟的正波长色散相位延迟。当550纳米(nm)波长为参比波长时，例如所述补偿膜的在450nm波长、550nm波长、和650nm波长处的延迟值(r)可满足关系方程1或2。

关系方程1

r(450nm)≥r(550nm)>r(650nm)

关系方程2

r(450nm)>r(550nm)≥r(650nm)

例如，所述补偿膜可具有其中在较长波长处的光的延迟和在较短波长处的光的延迟基本上相等的平(flat)波长色散相位延迟。例如，所述补偿膜的在450nm波长、550nm波长、和650nm波长处的延迟值(r)可满足关系方程3。

关系方程3

r(450nm)＝r(550nm)＝r(650nm)

例如，所述补偿膜可具有其中在较长波长处的光的延迟大于在较短波长处的光的延迟的反波长色散相位延迟。例如，所述补偿膜的在450nm波长、550nm波长、和650nm波长处的延迟值(r)可满足关系方程4或5。

关系方程4

r(450nm)≤r(550nm)<r(650nm)

关系方程5

r(450nm)<r(550nm)≤r(650nm)

在关系方程1到5中，

r(450nm)为在450nm波长处的面内延迟或厚度方向延迟，

r(550nm)为在550nm波长处的面内延迟或厚度方向延迟，和

r(650nm)为在650nm波长处的面内延迟或厚度方向延迟。

所述补偿膜的合乎需要的延迟可通过改变波长而获得。

由于高的双折射，所述补偿膜可具有相对低的厚度。所述补偿膜可具有例如约3微米(μm)-约200μm、例如约5μm-约150μm、或约5μm-约100μm的厚度。

所述补偿膜包括基本上透明的聚合物，且因此可用作基板。因此，可省略在所述补偿膜下面的独立的基板。从而，可进一步减小所述补偿膜的厚度。因此，所述补偿膜可适合于在柔性显示装置例如可折叠显示装置或可弯曲显示装置中的应用且可具有改善的光学性质和显示特性。

所述补偿膜可通过包括例如如下的方法制造：准备单体，使所述单体聚合以制备聚合物，制备膜形式的聚合物，和使所述膜伸长。

所述补偿膜可例如在约50℃-约500℃的温度下以约110％-约1,000％的伸长率伸长。伸长率指的是所述补偿膜的在伸长之后对伸长之前的长度比，且为在单轴伸长之后所述补偿膜的伸长程度的度量。

所述补偿膜可单独地或与其它补偿膜一起使用。

所述补偿膜可与偏振器一起使用，其可用作光学膜以防止显示装置的外部光的反射。所述光学膜可例如为抗反射膜，但不限于此。

图1为显示根据一个实施方式的光学膜的示意性横截面图，图2为显示光学膜的外部光抗反射原理的示意图，且图3为偏振膜的实例的示意图。

参照图1，根据一个实施方式的光学膜100包括偏振器110和补偿膜120。补偿膜120可使通过偏振器110的光圆偏振以产生延迟，且可影响光的反射和/或吸收。

例如，光学膜100可安装在显示装置的一侧或两侧上，且特别地，可防止从外部流入所述显示装置的显示部分中的光(在下文中称为“外部光”)被反射。因此，光学膜100可防止由外部光反射引起的可视性恶化。

图2为显示光学膜的外部光抗反射原理的示意图。

参照图2，当从外部进入的入射的非偏振光通过偏振器110，且经偏振的光经由通过补偿膜120而被转变成圆偏振光时，仅作为两个偏振垂直分量中的一个偏振垂直分量的第一偏振垂直分量被透射。当圆偏振光在包括基板、电极等的显示面板50中被反射，并改变圆偏振方向，且圆偏振光再次通过补偿膜120时，仅作为所述两个偏振垂直分量中的另一偏振垂直分量的第二偏振垂直分量可被透射。当第二偏振垂直分量不通过偏振器110且光不存在于外部时，可提供防止外部光反射的效果。

偏振器110可为例如偏振片或偏振膜。

参照图3，偏振器110可为由例如聚合物71和二色性染料72的熔融共混物制成的自集成(self-integrated)偏振膜。

聚合物71可为例如疏水聚合物，例如聚烯烃例如聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、及其共聚物；聚酰胺例如尼龙和芳族聚酰胺；聚酯例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(petg)、和聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)；聚丙烯酰基例如聚(甲基)丙烯酸甲酯；聚苯乙烯类例如聚苯乙烯(ps)和丙烯腈-苯乙烯共聚物；聚碳酸酯；氯乙烯聚合物；聚酰亚胺；砜聚合物；聚醚砜；聚醚-醚酮；聚苯硫醚；乙烯醇聚合物；偏氯乙烯聚合物；乙烯醇缩丁醛聚合物；烯丙基化物聚合物；聚甲醛；环氧聚合物；其共聚物；或其组合。

在一个实施方式中，聚合物71可为例如聚烯烃、聚酰胺、聚酯、聚丙烯酰基、聚苯乙烯、其共聚物、或其组合，且可为例如聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(petg)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、尼龙、其共聚物、或其组合。

在一个实施方式中，聚合物71可为聚烯烃。所述聚烯烃可为例如选自聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚乙烯和聚丙烯的共聚物(pe-pp)的两种或更多种的混合物，例如聚丙烯(pp)和聚乙烯-聚丙烯共聚物(pe-pp)的混合物。

聚合物71在约400nm-约780nm的波长区域内可具有大于或等于约85％的透射率。聚合物71可在单轴方向上伸长。所述单轴方向可与随后将描述的二色性染料72的长度方向相同。

二色性染料72可分散在聚合物71中，且可在聚合物71的伸长方向上定向。二色性染料72透射预定波长区域中的两个垂直偏振分量中的一个垂直偏振分量。

基于100重量份的聚合物71，可以约0.01-约5重量份的量包括二色性染料72。尽管不希望受理论束缚，但理解，在以上范围内，可获得充足的偏振特性而不使偏振膜的透射率恶化。在以上范围内，基于100重量份的聚合物71，可以约0.05-约1重量份的量包括所述二色性染料。

偏振器110可具有小于或等于约100μm、例如约30μm-约95μm的相对低的厚度。尽管不希望受理论束缚，但理解，当偏振器110具有在以上范围内的厚度时，偏振器110比需要保护层例如三乙酰基纤维素(tac)的聚乙烯醇偏振片相对薄，且因此可实现薄的显示装置。

补偿膜120与以上描述的相同。

光学膜100可进一步包括位于补偿膜120的一侧上的校正层(未示出)。所述校正层可为例如抗颜色偏移层，但不限于此。

光学膜100可进一步包括沿着边缘延伸的光阻挡层(未示出)。所述光阻挡层可以沿着光学膜100的周围的条形成，且例如，可位于偏振器110和补偿膜120之间。所述光阻挡层可包括不透明材料例如黑色材料。例如，所述光阻挡层可由黑色墨制成。

光学膜100可应用于多种显示装置。

根据一个实施方式的显示装置包括显示面板和位于所述显示面板的一侧上的光学膜。所述显示面板可为液晶面板或有机发光面板，但不限于此。

在下文中，描述有机发光装置作为显示装置的一个实例。

图4为显示根据一个实施方式的有机发光装置的示意性横截面图。

参照图4，根据一个实施方式的有机发光装置包括有机发光面板400和位于有机发光面板400的一侧上的光学膜100。

有机发光面板400可包括基础基板410、下部电极420、有机发射层430、上部电极440、和封装基板450。

基础基板410可由玻璃或塑料制成。

下部电极420和上部电极440的至少一个可为阳极，且另一个可为阴极。阳极为注入有空穴的电极，且可由具有高的功函的透明导电材料制成以将发射的光透射到外部，例如ito或izo。阴极是注入有电子的电极，并可由具有低的功函且不影响有机材料的导电材料制成，且可选自例如铝(al)、钙(ca)、和钡(ba)。

有机发射层430包括当向下部电极420和上部电极440施加电压时可发射光的有机材料。

可进一步在下部电极420和有机发射层430之间以及在上部电极440和有机发射层430之间设置辅助层(未示出)。所述辅助层用于平衡电子和空穴，且可包括空穴传输层、空穴注入层(hil)、电子注入层(eil)、和电子传输层。

封装基板450可由玻璃、金属、或聚合物制成，且可密封下部电极420、有机发射层430、和上部电极440以防止水分和/或氧气从外部流入。

光学膜100可设置在发光侧上。例如，当底部发射结构在基础基板410一侧发射光时，光学膜100可设置在基础基板410的外侧上。另一方面，当顶部发射结构在封装基板450一侧发射光时，光学膜100可设置在封装基板450的外侧上。

光学膜100包括自集成偏振器110和自集成补偿膜120。偏振器110和补偿膜120分别与以上描述的相同，且可防止显示装置具有由从外部流入的光在通过偏振器110且被有机发光面板400中的金属例如电极等反射之后引起的可视性恶化。因此，所述有机发光装置的显示特性可改善。

在下文中，描述液晶显示器(lcd)作为显示装置的一个实例。

图5为显示根据一个实施方式的液晶显示器的示意性横截面图。

参照图5，根据一个实施方式的液晶显示器(lcd)包括液晶面板500、和位于液晶面板500的一侧或两侧上的光学膜100。

液晶面板500可为扭曲向列(tn)模式面板、垂直定向(pva)模式面板、面内切换(ips)模式面板、光学补偿弯曲(ocb)模式面板等。

液晶面板500可包括第一显示面板510、第二显示面板520、以及介于第一显示面板510和第二显示面板520之间的液晶层530。

第一显示面板510可包括例如形成于基板(未示出)上的薄膜晶体管(未示出)和连接至其的第一电场产生电极(未示出)，且第二显示面板520可包括例如形成于基板(未示出)上的滤色器(未示出)和第二电场产生电极(未示出)。然而，其不限于此，且所述滤色器可被包括在第一显示面板510中，而所述第一电场产生电极和第二电场产生电极可与其一起设置在第一显示面板510上。

液晶层530可包括多个液晶分子。所述液晶分子可具有正的或负的介电各向异性。当所述液晶分子具有正的介电各向异性时，在未施加电场时其主轴可基本上平行于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向，且当施加电场时所述主轴可基本上垂直于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向。另一方面，当所述液晶分子具有负的介电各向异性时，在未施加电场时所述主轴可基本上垂直于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向，且在施加电场时所述主轴可基本上平行于第一显示面板510和第二显示面板520的表面定向。

光学膜100可设置在液晶面板500的外侧上。尽管在图中光学膜100被显示成设置于液晶面板500的下部部分和上部部分两者上，但是其不限于此，且其可在液晶面板500的下部部分和上部部分的仅一个上形成。

在下文中，参照实施例更详细地说明本公开内容。然而，这些实施例是示例性的，且本公开内容不限于此。

实施例

单体的合成

合成实施例1

1)步骤1

反应方案1

将9.72克(g)2,5-二溴对苯二甲酸(mw＝323.92克/摩尔(g/mol)，30毫摩尔(mmol)，1.0当量(eq))置于260ml甲苯中，并且搅拌混合物。随后，向其添加18.74gpcl5(mw＝208.24g/mol，90mmol，3.0eq)和一滴吡啶，并且将所获得的混合物在80到90℃下加热。在晶体完全溶解之后，将混合物另外搅拌一小时。随后，将反应溶液蒸馏，以获得黄色油状化合物。然后，向其添加50毫升(ml)n,n-二甲基乙酰胺，并且将所获得的混合物均匀地搅拌(混合溶液a)。在独立的容器中，将对苯二酚(mw＝110.11g/mol，300mmol，10.0eq)添加到50mln,n-二甲基乙酰胺并且加热直至固体完全溶解。然后，向溶液添加12.14g三乙胺(mw＝101.19g/mol，120mmol，4.0eq)并将其混合(混合溶液b)。将混合溶液b缓慢地添加到混合溶液a，并且将混合物在室温下搅拌1小时。当反应完成时，将反应溶液倒入1,600ml净化水中以形成晶体。然后将结晶溶液加热约1小时并且在加热的同时过滤，以获得粉色晶体。另外，向其添加1,000ml水，并将混合物加热和搅拌约1小时。将所得物在加热的同时过滤，并且将由其获得的晶体在干燥烘箱(60℃)中真空干燥大于或等于12小时，以获得11.12g灰色化合物i-1(73％的产率)。化合物i-1在没有另外的纯化的情况下用在后面的反应中。

¹hnmr(dmso-d6)300mhz，δ，ppm：6.8(d，4h)，7.2(d，4h)，8.4(s，2h)，9.6(s，2h)。

2)步骤2

反应方案2

将5.08g化合物i-1(mw＝508.118g/mol，10mmol，1.0eq)和140mln,n-二甲基乙酰胺在氮气气氛下搅拌并且缓慢加热约30分钟。随后，向其添加苯基乙炔(mw＝102.14g/mol，30mmol，3.0eq，m＝3.006g)、氯化钯(ii)(pdcl2)(mw＝177.33g/mol，0.50mmol，0.05eq，m＝0.09g)、碘化亚铜(i)(cui)(mw＝190.45g/mol，1.89mmol，0.19eq，m＝0.36g)、三苯基膦(pph3，mw＝262.45g/mol，3.62mmol，0.36eq，m＝5.25g)、和70ml三乙胺，并且将混合物在约80到100℃下加热20小时以实施反应。当反应完成时，向其倒入1,500ml水以沉淀出晶体，并且使用弱的盐酸溶液以将其ph调节到1-2。随后，将晶体过滤以获得深棕色晶体。然后，将棕色晶体置于60ml水和700ml甲醇的混合溶液中，并且在加热混合物一小时之后将未溶解的晶体过滤和除去。然后，将经过滤的结晶溶液冷却至室温以收集所获得的晶体，再次向所收集的晶体添加500ml氯仿，并且将混合物加热以使棕色晶体溶解。随后，将溶液冷却至室温，以获得1.3g黄色结晶化合物1-1aa(24％的产率)。

¹hnmr(dmso-d6)300mhz，δ，ppm：6.8-6.9(d，4h)，7.1-7.2(d，4h)，7.4-7.6(m，10h)，8.4-8.5(s，2h)，9.5-9.6(s，2h)。

聚合物的合成和聚合物膜的制备

合成实施例2

反应方案3

将氢氧化钠(mw＝40.0g/mol，5.69mmol，5.0eq，m＝1.14g)置于装备有机械搅拌器的200ml烧瓶中。将17ml水、1.70g化合物m1、和0.0395g化合物1-1aa置于其中。在这里，化合物m1和化合物1-1aa以99:1的摩尔比供应。随后，向其添加溶解在17ml二氯甲烷中的0.84g三光气，并将所获得的混合物搅拌15分钟。然后，向其添加6mg三乙胺，并且将所获得的混合物在室温下搅拌90分钟。然后，向其添加17mln,n-二甲基乙酰胺，并且将混合物在室温下搅拌大于或等于12小时。当反应完成时，将所得物用二氯甲烷稀释，随后用1％盐酸和水洗涤，用甲醇再沉淀，并且在60℃下真空干燥12小时，以获得1.68g作为棕色固体的聚合物pc-1。

将聚合物pc-1溶解在四氢呋喃和二氧六环(1/1，体积对体积(体积/体积))的混合溶剂中，以制备具有20重量％(wt％)的浓度的聚合物溶液。随后，将聚合物溶液涂覆在玻璃基底上并且在40℃下干燥1小时且在80℃下干燥1小时以形成聚合物膜。然后，将聚合物膜从玻璃基底剥去以制造96微米(μm)厚的聚合物膜。

合成实施例3

通过如下制造83μm厚的聚合物膜：根据与合成实施例2相同的方法形成聚合物pc-1，除了供应1.70g化合物m1和0.125g化合物1-1aa(97:3的摩尔比)之外。

合成实施例4

通过如下制造97μm厚的聚合物膜：根据与合成实施例2相同的方法形成聚合物pc-1，除了供应1.70g化合物m1和0.214g化合物1-1aa(95:5的摩尔比)之外。

合成实施例5

通过如下制造63μm厚的聚合物膜：根据与合成实施例2相同的方法形成聚合物pc-1，除了供应1.61g化合物m1和0.291g化合物1-1aa(93:7的摩尔比)之外。

合成实施例6

通过如下制造32μm厚的聚合物膜：根据与合成实施例2相同的方法形成聚合物pc-1，除了供应1.40g化合物m1和0.427g化合物1-1aa(90:10的摩尔比)之外。

合成实施例7

反应方案4

将1.14g氢氧化钠(mw＝40.0g/mol，5.69mmol，5.0eq)、17ml水、1.00g化合物m2、和0.304g化合物1-1aa置于装备有机械搅拌器的200ml烧瓶中。在这里，化合物m2和化合物1-1aa以90:10的摩尔比供应。随后，向其添加溶解在17ml二氯甲烷中的0.84g三光气，并且将混合物搅拌15分钟。然后，向其添加6mg三乙胺，并且将所获得的混合物在室温下搅拌90分钟。然后，向其添加17mln,n-二甲基乙酰胺，并且将所获得的混合物在室温下搅拌大于或等于12小时。当反应完成时，将所得物用二氯甲烷稀释，用1％的盐酸和水洗涤，用甲醇再沉淀，并且在60℃下真空干燥12小时，以获得1.82g作为棕色固体的聚合物pc-2。

将聚合物pc-2溶解在四氢呋喃和二氧六环(1/1，体积/体积)的混合溶剂中以制备具有20重量％的浓度的聚合物溶液。随后，将聚合物溶液涂覆在玻璃基底上并在40℃下干燥1小时且然后在80℃下干燥1小时以形成聚合物膜。然后，将聚合物膜从玻璃基底剥离以制造33μm厚的聚合物膜。

合成实施例8

反应方案5

将氢氧化钠(mw＝40.0g/mol，5.69mmol，5.0eq，1.14g)置于装备有机械搅拌器的200ml烧瓶中。将17ml水、1.20g化合物m3、和0.363g化合物1-1aa置于其中。在这里，化合物m3和化合物1-1aa以90:10的摩尔比供应。然后，向其添加溶解在17ml二氯甲烷中的0.84g三光气，并且将所获得的混合物搅拌15分钟。然后，向其添加6mg三乙胺，并且将所获得的混合物在室温下搅拌90分钟。然后，向其添加17mln,n-二甲基乙酰胺，并且将所获得的混合物在室温下搅拌大于或等于12小时。当反应完成时，将所得物用二氯甲烷稀释，用1％的盐酸和水洗涤，用甲醇再沉淀，且在60℃下真空干燥12小时以获得1.82g作为棕色固体的聚合物pc-3。

将聚合物pc-3溶解在四氢呋喃和二氧六环(1/1，体积/体积)的混合溶剂中以制备具有20重量％的浓度的聚合物溶液。随后，将聚合物溶液涂覆在玻璃基底上并在40℃下干燥1小时且在80℃下干燥1小时以形成聚合物膜。然后，将聚合物膜从玻璃基底分离以制造33μm厚的聚合物膜。

合成实施例9

将根据合成实施例6的聚合物pc-1和具有由化学式5a表示的结构单元的聚合物以1:9的摩尔比溶解在四氢呋喃和二氧六环(1/1，体积/体积)的混合溶剂中以制备具有20重量％的浓度的聚合物溶液。将聚合物溶液涂覆在玻璃基底上并在40℃下干燥1小时且在80℃下干燥1小时以制造74μm厚的聚合物膜。

化学式5a

合成实施例10

根据与合成实施例9相同的方法制造83μm厚的聚合物膜，除了将根据合成实施例6的聚合物pc-1和具有由化学式5a表示的结构单元的聚合物以2:8的摩尔比混合之外。

合成实施例11

根据与合成实施例9相同的方法制造80μm厚的聚合物膜，除了将根据合成实施例6的聚合物pc-1和具有由化学式5a表示的结构单元的聚合物以3:7的摩尔比混合之外。

评价1

评价根据合成实施例2-11的聚合物膜的光透射率。

通过使用konicaminolta分光光度计cm-3600测量光透射率。

结果提供于表1中。

表1

根据合成实施例2-11的聚合物膜具有大于或等于约60％的令人满意的光透射率。

补偿膜的制备

实施例1

将根据合成实施例2的聚合物膜切割成1×1平方厘米(cm²)的尺寸以制备样品，并且通过如下制造54μm厚的伸长补偿膜：将样品的长边固定在金属框架上，将样品在烘箱中在氮气气氛下以10摄氏度/分钟(℃/min)加热至145℃1小时并且使其伸长3.6倍。

实施例2

通过如下制造约44μm厚的伸长补偿膜：将根据合成实施例3的聚合物膜切割成1×1cm²的尺寸以制备样品，将样品的一个长端固定在金属框架上，将样品在烘箱中在氮气气氛下以10℃/min加热至145℃1小时，并且使其伸长4.0倍。

实施例3

通过如下制造约51μm厚的伸长补偿膜：将根据合成实施例4的聚合物膜切割成1×1cm²的尺寸以制备样品，将样品的一个长端固定在金属框架上，将样品在烘箱中在氮气气氛下以10℃/min加热至145℃1小时，并且使其伸长3.4倍。

实施例4

通过如下制造约57μm厚的伸长补偿膜：将根据合成实施例9的聚合物膜切割成1×1cm²的尺寸以制备样品，将样品的一个长端固定在金属框架上，将样品在烘箱中在氮气气氛下以10℃/min加热至145℃1小时，并且使其伸长3.2倍。

实施例5

通过如下制造约58μm厚的伸长补偿膜：将根据合成实施例10的聚合物膜切割成1×1cm²的尺寸以制备样品，将样品的一个长端固定在金属框架上，将样品在烘箱中在氮气气氛下以10℃/min加热至145℃1小时，并且使其伸长3.2倍。

实施例6

通过如下制造约68μm厚的伸长补偿膜：将根据合成实施例11的聚合物膜切割成1×1cm²的尺寸以制备样品，将样品的一个长端固定在金属框架上，将样品在烘箱中在氮气气氛下以10℃/min加热至145℃1小时，并且使其伸长1.8倍。

评价2

评价根据实施例1-6的补偿膜的面内延迟值、厚度方向延迟值、和波长色散。

使用axoscan设备(axometrics，inc.)测量面内延迟值和厚度方向延迟值。

面内延迟值的波长色散和面内延迟值示于表2中。

表2

厚度方向延迟值的波长色散和厚度方向延迟值示于表3中。

表3

参照表2和3，根据实施例1-6的补偿膜具有其中在较短波长处的光的延迟大于在较长波长处的光的延迟的正波长色散相位延迟，或其中在较长波长处的光的延迟大于在较短波长处的光的延迟的反波长色散相位延迟。由所述结果，理解，通过控制多种因素例如聚合物的性质和含量比率、以及膜的伸长率，可实现具有合乎需要的延迟值和波长色散的补偿膜。

尽管已经关于目前被认为是实践性的示例性实施方式的内容描述了本公开内容，但是将理解，本发明不限于所公开的实施方式，而是相反，意图涵盖包括在所附权利要求的精神和范围内的各种变型和等同布置。