1.一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，包括以下按重量份数计的配方原料及组分，其特征在于：0.5-4.5份wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料、0.5-1.5份硅烷偶联剂、8-15份低密度聚乙烯、77-90份聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯、1-2份抗氧化剂。
2.根据权利要求1所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述抗氧化剂为抗氧剂1010。
3.根据权利要求1所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述硅烷偶联剂为乙烯基三乙氧基硅烷。
4.根据权利要求1所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料制备方法包括以下步骤：
(1)向两者体积比为22-28:1的乙醇和蒸馏水混合溶剂中加入有机蒙脱土，将溶液在40-50℃下进行超声分散处理40-60min，加入钛酸四丁酯，再加入冰醋酸调节溶液ph至2-4，将溶液置于恒温水浴锅中加热至30-40℃，匀速搅拌直至形成凝胶状静置20-30h，将凝胶状固体除去溶剂、研磨，置于电阻炉中，升温速率为2-4℃/min，升温至540-580℃，保温煅烧2-4h，煅烧产物即为纳米tio2负载有机蒙脱土。
(2)向蒸馏水溶剂中加入纳米tio2负载有机蒙脱土和agno3，在50-80℃下进行超声分散处理1-2h，再加入nah2po4，将溶液加热至40-60℃，反应4-8h，将溶液除去溶剂、洗涤固体产物并干燥，制备得到ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料。
(3)向蒸馏溶剂水中加入ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料、na2wo4和fecl3，将溶液在50-70℃下进行超声分散处理1-2h，加入盐酸调节溶液ph至1-2，将溶液转移至反应釜中，加热至180-200℃，反应12-18h，将溶液除去溶剂、洗涤固体产物并干燥，制得的fe掺杂wo3的wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料。
5.根据权利要求4所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述有机蒙脱土和钛酸四丁酯的质量比为1:2-5。
6.根据权利要求4所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述纳米tio2负载有机蒙脱土、agno3和nah2po4的质量比为1.2-1.8:1.35-1.45:1。
7.根据权利要求4所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料、na2wo4和fecl3的质量比为10-18:8-15:1。
8.根据权利要求4所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述恒温水浴锅包括柜体(1)，所述柜体(1)的内部设置有箱体(2)，所述柜体(1)的正面设置有档杆(3)，所述档杆(3)的上方设置有护板(4)，所述挡板(3)和护板(4)之间设置有连杆(5)，所述柜体(1)的顶部活动连接有电控箱(6)，所述电控箱(6)的正面设置有加水口(7)，所述加水口(7)的左侧分贝设置有排气管(8)和电源键(9)。
9.根据权利要求1所述的一种高强度改性pbat光催化抗菌薄膜，其特征在于：所述高强度改性pbat光催化抗菌薄膜制备方法包括以下步骤：
(1)向体积比为8-10:1的向蒸馏水和乙醇混合溶剂，加入0.5-1.5份硅烷偶联剂乙烯基三乙氧基硅烷，加入醋酸调节溶剂ph至4-5，加入0.5-4.5份wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料，将溶液在40-60℃下进行超声分散处理1-2h，将溶液加热至75-85℃，反应15-25h，将溶液除去溶剂、洗涤固体产物并干燥，制备得到硅烷偶联剂接枝的改性wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料。
(2)将改性wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料和8-15份低密度聚乙烯机械共混，置于双螺杆挤出机中，挤出温度为190-200℃，挤出的母粒即为聚乙烯包覆改性wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料。
(3)向三氯甲烷溶剂中加入聚乙烯包覆改性wo3-ag3po4-tio2-蒙脱土复合材料、77-90份聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯、1-2份抗氧化剂抗氧剂1010，将溶液加热至40-60℃，匀速搅拌10-15h，将溶液倒入成膜模具中，自然流延成膜并充分干燥，制备得到高强度改性pbat光催化抗菌薄膜。