1.一种石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)浆料的制备；(2)磁场下涂布。
2.根据权利要求1所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
(1)浆料的制备：在预先加入球磨珠的球磨罐中加入石墨烯、导热助剂和粘结助剂，再滴加粘结剂，随后加入溶剂，进行球磨，球磨结束后取出浆料通过搅拌除去气泡，备用；
(2)磁场下涂布：将经过乙醇处理后的基材置于磁场上，通过涂布线棒将步骤(1)制备得到的浆料涂布在基材上，随后在磁场存在下进行干燥即得。
3.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中，磁场设置在距离基材0～3cm处，磁场的强度为10mT～1000mT。
4.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，所述石墨烯为水溶性石墨烯或油溶性改性石墨烯；所述导热助剂为纳米陶瓷颗粒、纳米氧化锌、炭黑、碳纳米管或氮化硼；所述粘结助剂为纤维素、纤维素衍生物、聚乙烯醇或气相二氧化硅，所述粘结剂为环氧树脂，聚氨酯树脂或丁苯树脂，所述溶剂为水、乙醇、多元醇、丙酮、丁酮或N-甲基吡咯烷酮。
5.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，按照质量比，石墨烯︰导热助剂︰粘结助剂＝30～60︰200～500︰40～120。
6.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，按照质量比，粘结剂︰粘结助剂＝1～10︰3～80。
7.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，按照质量体积比，石墨烯的质量︰溶剂的体积＝A g︰B mL，其中0<A≤10,0<B≤800。
8.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，球磨时长为1～36h，球磨珠的重量为0.5kg～5kg，不同粒径球磨珠的质量比为：1mm粒径球磨珠︰5mm粒径球磨珠︰10mm粒径球磨珠＝1～20︰1～10︰1～8。
9.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，搅拌的转速为100～3000rpm，时间为0.1～12h。
10.根据权利要求2所述的石墨烯基膜产品的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中，基材为铜箔、铝箔或PET薄膜，所述涂布线棒的涂布湿膜厚度为10～250微米，所述干燥是在45℃～150℃下干燥。