一种防爆膜的制作方法

技术领域：

本发明涉及保护膜产品技术领域，特指一种用于玻璃背板内的防爆膜。

背景技术：
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目前的移动通讯终端产品中，产品的背板也开始采用的玻璃材料，由于玻璃材料通常为透明材料，所以为了产品的美观，需要在玻璃背盖的内表喷涂或者印刷各种颜色或图案。但是，由于3d造型的玻璃表面会形成一定的弯曲曲面，所以如果要在这种3d玻璃背盖内表面通过喷涂、转印印刷等方式形成图案难度较大。另外，使用3d玻璃背盖取代传统的金属或者塑胶背盖，也会带来令一个问题，就是玻璃材料即便经过钢化处理，其抗摔能力仍较弱，在受到外力冲击时，玻璃背盖容易爆裂，可能会对使用者造成一定的伤害。针对于此，目前采用玻璃背板的产品中，都会在玻璃背板内粘贴一防爆膜。这种防爆膜通常采用pet或者tpu为基材的复合材料。具体而言包括：目前防爆膜自上而下包括：离型膜层61、粘胶层62、基材层63和电镀层64。使用时，将离型膜层61揭去，然后通过粘胶层62将防爆膜粘贴在玻璃背板的内表面。最后，通过激光雕刻的方式，由玻璃背板的外表面进行对应图案的成型。激光穿过玻璃背板、粘胶层62、基材层63后，在电镀层64上雕刻呈图案。例如雕刻条形码、产品商标图样等。电镀层64可采用铝粉涂层、银镜涂层等。通过这种方式无需通过喷涂、印刷等方式在玻璃背板上形成图案。但是其也存在一个问题。由于目前的镭射雕刻机其强度过高，容易出现镭射强度过高，击穿整个防爆膜的情况。但是，如果通过其他方式降低镭射强度，不仅实施麻烦，并且容易造成雕刻图案不连续，出现断点。

基于以上问题，本发明人提出了以下技术方案。

技术实现要素：
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本发明所要解决的技术问题在于提供一种用于激光雕刻的防爆膜。

为了解决上述技术问题，本发明采用了下述技术方案：一种防爆膜，其包括：基材层，于所述的基材层的上表面依次附着光学胶层和离型膜，于所述的基材层下表面依次附着有电镀层和保护层；所述的光学胶层采用热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层中加入有抗紫外线阻隔剂；所述的保护层为黑色膜层。

进一步而言，上述技术方案中，所述的基材层采用pet光学基材膜，或者tpu光学基材膜。

进一步而言，上述技术方案中，所述的光学胶层中抗紫外线阻隔剂的含量为：5-10％。

进一步而言，上述技术方案中，所述的光学胶层中抗的组分及各组分的重量配比为：丙烯酸酯86-92％；抗紫外线阻隔剂5-10％；改性剂2-8％；固化剂0.4-0.8％。

进一步而言，上述技术方案中，所述的保护层为黑色tpu膜层。

采用上述技术方案后，本发明与现有技术相比较具有如下有益效果：本发明在所述的光学胶层中加入了抗紫外线阻隔剂，这样在镭射雕刻图案时，即便镭射的强度过高，其可以对镭射形成一定的阻隔，确保不会击穿防爆膜，同时，也可以保证不会应为激光强度过低而造成图案不连续。另外，本发明在电路层的外增加了一层黑色保护层，通过黑色保护层不仅可以作为底色，令镭射的图案更加鲜明，同时还可以起到对电镀层的保护。

本发明可以应用在手机等电子产品的玻璃背板上，其不仅具有对玻璃背板进行保护的功效，同时也可以作为玻璃背板的图案形成载体，通过镭射雕刻的图案可以直接通过玻璃背板透射出来。

附图说明：

图1是现有技术的结构示意图；

图2是本发明的结构示意图；

具体实施方式：

下面结合具体实施例和附图对本发明进一步说明。

本发明为一种可用于手机等电子产品玻璃背板的防爆膜，见图1所示，本发明包括：基材层1、光学胶层2、离型膜3、电镀层4和保护层5。

所述的基材层1作为本发明的主要承载体，其可以采用pet材料的光学膜，或者tpu光学基材膜，厚度在40-200微米。于所述的基材层1的上表面依次附着光学胶层2和离型膜3，于所述的基材层1下表面依次附着有电镀层4和保护层5。

所述的光学胶层2采用亚克力热固化光学胶涂层，并且于该光学胶层2中加入有抗紫外线阻隔剂。具体而言，所述的光学胶层4中的组分及各组分的重量配比为：

具体而言，所述的丙烯酸酯采用环氧甲基丙烯酸酯，改性剂采用甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羟乙酯中的任意一种，固化剂采用异氰酸酯。

所述的离型膜3厚度为80-120微米。

所述的电镀层采用铝粉涂层，所述的保护层为黑色tpu膜层厚度在40-100微米。

使用时，将离型膜3揭去后，将本发明通过光学胶层2粘接在玻璃背板的内表面，这样本发明就会对玻璃背板形成一种强化保护，即便玻璃背板因外力冲击发生破裂或爆裂，其也不会形成碎裂的碎片飞溅，而是被本发明防爆膜粘结。这样就避免了碎片可能对人体的伤害，也确保碎片不会进入移动通讯产品内部，对内部电路等器件造成损伤。同时，待光学胶层2固化后，通过镭射雕刻机对防爆膜进行镭射雕刻图案。由于本发明在所述的光学胶层2中加入了抗紫外线阻隔剂，这样在镭射雕刻图案时，即便镭射的强度过高，其可以对镭射形成一定的阻隔，确保不会击穿防爆膜，同时，也可以保证不会应为激光强度过低而造成图案不连续。另外，本发明在电镀层4的外增加了一层黑色保护层5，黑色保护层5不仅可以作为底色，令镭射的图案更加鲜明，同时还可以起到对电镀层4的保护。

实施例1：

所述的基材层1采用tpu光学基材膜，厚度在100微米。

所述的光学胶层2中的组分及各组分的重量配比为：

丙烯酸酯采用环氧甲基丙烯酸酯，改性剂采用甲基丙烯酸，固化剂采用异氰酸酯。

所述的离型膜3厚度为100微米的pet离型膜。所述的电镀层采用铝粉涂层，所述的保护层为黑色油墨层。

在通过镭射雕刻机进行雕刻时，采用波长为300nm–400nm的激光，通过抗紫外线阻隔剂可以阻隔75％的激光，从而大大的减低激光的强度，同时也可以保证穿过光学胶层2的激光可以完成对电镀层4的雕刻。

所述的产品如下

整个产品的总厚度：230um±5um

基材厚度：50±5um

涂胶厚度：25±5um

离型膜厚度：125±5um

保护膜厚度：30um±5um

粘性：＞17n/inch

与所述产品对应的镭射雕刻机参数如下：

功率：＜1250w

脉冲：50/60hz

速度：0-400mm/s

波长：355nm

所述光学胶2能阻隔镭射激光，阻隔率约为65％，本光学胶层2在贴覆玻璃板4小时后，趋于稳定。本光学胶层2还具有耐酸碱(ph＝4，ph＝6.5,ph＝10)耐高温(55℃±2℃，湿度95％rh条件下)，耐老化等特点

当然，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并非来限制本发明实施范围，凡依本发明申请专利范围所述构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括于本发明申请专利范围内。