表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件（下面，有 时也称"光学用膜"）的表面的表面保护膜。更详细而言，提供一种在切裁时难W出现因粘 结剂引起的异物（胶块）且对表面具有凹凸的光学用膜的适应性（con化rm油ility)(润湿 性）也良好，并对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的 表面保护膜，还具有无经时劣化（不随着时间推移而发生劣化）的优良的抗剥离静电性能 的表面保护膜，W及贴合有该表面保护膜的光学部件。
【背景技术】
[0002] 目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面 板用透明导电膜等的光学用膜、W及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用 膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染和刮伤。为了节省对表面保护膜进 行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查 而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。
[0003] W往W来，为了在光学产品的制造工序中防止伤痕和污垢的附着，通常使用在基 材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴合 于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜从 光学用膜表面剥离而去除时，能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作 为被粘附体的产品的光学用膜上（所谓的防止粘结剂残留的发生）的现象。
[0004] 作为微粘结力的粘结剂，大多采用丙締酸类粘结剂，但在根据显示器的尺寸将光 学用膜切裁成规定的尺寸时，存在粘结剂在切裁刀下破碎而易于产生小片状异物（也称为 "胶块"）的问题。若产生运样的异物，则会导致工序污染、或被按压在光学用膜上产生痕迹 等问题。因此，要求有一种对贴合有表面保护膜的光学用膜进行化裂或切裁时异物的产生 少的表面保护膜。另外，还要求一种对棱镜片、防眩光处理过的偏光板等表面具有凹凸形状 的光学用膜的适应性（con化rm油ility)(润湿性）也良好，且在将表面保护膜贴合于光学 用膜上时气泡难W进入的表面保护膜。
[0005] 如此地，对应于在化裂或切裁时难W产生胶块，并对各种光学用膜的适应性良好 的表面保护膜的需求，采用使用了聚氨醋类粘结剂的表面保护膜。
[0006] 另外，近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保 护膜剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示器的显示画面的驱动1C 等电路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然运些现象发生的件数少但也在发生。
[0007] 另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动1C 的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+0. 7kV~一0. 7kV的范围内。
[0008] 为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高所引 起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电剂的 粘结剂层。
[0009] 例如，专利文献1中公开了一种由具有締化氧（a化yleneoxide)链的聚氨醋、离 子性化合物和Ξ官能异氯酸醋化合物所构成的抗静电粘结剂。另外，在专利文献2中公开 了一种表面保护膜用聚氨醋粘结剂组合物，其特征在于，含有超强酸的碱金属盐类、碱±金 属盐类中的至少一种盐。并且，专利文献3中公开了一种粘结剂组合物和使用了该粘结剂 组合物的表面保护膜，其中，该粘结剂组合物是由含氣有机阴离子的离子液体W及数均分 子量5000W上的聚氨醋组成。
[0010] 上述专利文献1~3中，是在粘结剂层的内部添加有抗静电剂。但是，粘结剂层的 厚度越厚，并且随着贴合于被粘附体之后的时间推移，抗静电剂从粘结剂层向表面保护膜 所贴合的被粘附体移动的量会越多。若抗静电剂向被粘附体移动的量多，则存在作为被粘 附体的光学用膜的外观品位降低、或者表面保护膜的粘结特性会发生经时劣化的可能性。
[0011] 若为了减少抗静电剂从粘结剂层向被粘附体移动的运种经时变化而减少粘结剂 的厚度，则会产生其它问题。例如，当用于为了防眩目而施加了防眩光处理的偏光板等表面 具有凹凸的光学用膜时，会存在：粘结剂无法迎合（追随）于光学用膜表面的凹凸而混入气 泡，或者，由于光学用膜与粘结剂的粘接面积减少而使粘结力降低，且在使用中表面保护膜 发生浮起或剥落的问题。
[0012] 现有技术文献 阳〇1引专利文献
[0014] 专利文献1 :日本特开2005-154491号公报
[0015] 专利文献2 :日本特开2006-182794号公报
[0016] 专利文献3 :日本特开2007-277484号公报
【发明内容】
[0017] 发明要解决的课题
[0018] 本发明就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于，提供一种在切裁时也难W出现 因粘结剂引起的异物（胶块）且对表面具有凹凸的光学用膜的适应性（con化rm油ility) (润湿性）也良好，并对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变 化的表面保护膜，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，W及贴合有 该表面保护膜的光学部件。
[0019] 解决课题的方法
[0020] 本发明人等对该课题进行了精屯、研究。
[0021] 为了减少对被粘附体的污染并且也减少污染性的经时变化，需要降低被推测对被 粘附体造成污染的抗静电剂的量。但是，当降低抗静电剂的量时，会导致从被粘附体上剥离 表面保护膜时的剥离静电压变高。本发明人等研究了在不增加抗静电剂的绝对量的情况下 较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方法。
[0022] 其结果发现，不在粘结剂中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而是涂布 不包含抗静电剂的粘结剂组合物并进行干燥而层叠成粘结剂层，然后W使粘结剂层与剥离 剂层接触的方式贴合具有含抗静电剂的剥离剂层的剥离膜，将适量的抗静电剂从剥离膜侧 转移而赋予粘结剂层的表面，由此获得了能够抑制剥离时的带电量的表面保护膜，并基于 上述发现完成了本发明。
[0023] 目P，本发明提供一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单 面上形成有聚氨醋类粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保 护膜，其中，该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，前述剥离剂层包含剥离剂和 不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，前述抗静电剂的成分从前述剥离膜向前述粘结剂层的 表面转移，减少将前述粘结剂层从被粘附体剥离时的剥离静电压。
[0024] 另外，优选前述抗静电剂为离子性化合物。
[00巧]另外，优选前述抗静电剂为W碱金属作为阳离子的离子性化合物。
[00%]另外，从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kv~一 0.化V。
[0027] 优选前述粘结剂层是使聚氨醋类粘结剂交联而成。
[0028] 优选前述剥离膜从前述粘结剂层上剥下时的剥离力为0. 005~0. 3N/50mm。
[0029] 另外，本发明提供一种光学部件，其贴合有上述表面保护膜。
[0030] 发明效果
[0031] 本发明的表面保护膜是一种在切裁时也难W出现因粘结剂引起的异物（胶块）且 相对于表面具有凹凸的光学用膜的适应性（润湿性）也良好，并对被粘附体的污染少、对被 粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，还是具有无经时劣化的优良的 抗剥离静电性能的表面保护膜。本发明还提供贴合有该表面保护膜的光学部件。
[0032] 基于本发明的表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜表面，因此能够实现生产效 率的提高和成品率的提高。
【附图说明】
[0033] 图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。
[0034] 图2是表示从本发明的表面保护膜剥下剥离膜的状态的剖面图。
[0035] 图3是表示本发明的光学部件的一实施例的剖面图。
[0036] 附图标记的说明
[0037] 1……基材膜；2……粘结剂层；3……树脂膜；4……剥离剂层； 阳〇3引5……剥离膜；7……抗静电剂；8……被粘附体（光学部件）；
[0039] 10……表面保护膜；11……剥下剥离膜后的表面保护膜； W40] 20……贴合了表面保护膜的光学部件。
【具体实施方式】
[0041] 下面，基于实施方式详细说明本发明。
[0042] 图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。该表面保护膜10,是在透明的 基材膜1的单面的表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥离膜5,该剥 离膜