本实用新型涉绝缘子加工设备，尤其涉及一种自动上釉机的吸盘结构。
背景技术：
绝缘子在电力系统中应用很广，一般在大气条件下工作，用于架空输电线路、发电厂或变电所的母线和各种电气设备的外部带电导体之间，并使之与大地或其它有电位差的导体绝缘，绝缘子作为输电线路的重要设备之一，它担负着悬挂导线和对铁塔绝缘的重要任务，为世界各地的高压、超高压和特高压输电线路的安全运行提供了可靠的保障。
上釉是陶瓷绝缘子生产的一道重要工序，一般采用石英、长石、硼砂或黏土作原料涂履在绝缘子的表面，起到保护和装饰作用；现有上釉操作，一般采用在釉池上方设置可升降的支架，并在支架下端卡接绝缘子，通过升降支架将绝缘子置入釉池内进行上釉或脱离釉池。
现有上釉操作方式存在如下不足：①支架与绝缘子采用卡接的方式，一般由人工进行安装，劳动强度大，生产效率低下；②绝缘子上釉与拆装不能同时进行，必须拆下上完釉的绝缘子，然后再安装下批绝缘子上釉，导致上釉工期长。
技术实现要素：
针对上述情况，本实用新型的目的在于提供一种自动上釉机的吸盘结构，它采用设置可倾斜旋转的吸盘结构从而克服现有技术生产效率低的缺陷，能减轻劳动强度，节约上釉工期，且上釉均匀质量好，整体结构科学合理、简单紧凑，使用和安装方便，市场前景广阔，便于推广使用。
为了实现上述目的，一种自动上釉机的吸盘结构，它包括倾斜设置的主轴和吸盘，所述主轴与竖直方向的倾斜角θ为5～10°，且主轴可驱动吸盘旋转；所述吸盘的外缘连接有数根分配管，每根分配管的末端设有吸爪，所述吸爪的内缘设有胶圈。
为了实现结构、效果优化，其进一步的措施是：所述主轴与竖直方向的倾斜角θ为5°。
所述每根分配管上分别设有阀门。
所述吸盘连接真空泵。
所述吸爪经焊接固定在分配管的末端。
所述吸盘的外缘连接有4～6根分配管并围绕吸盘的轴向中心均匀分布。
本实用新型相比现有技术所产生的有益效果：
(Ⅰ)本实用新型采用吸爪吸附绝缘子端部的安装方式，绝缘子安装方便快捷，便于实现自动拆装绝缘子，减轻了人工劳动强度，大幅提高了生产效率；
(Ⅱ)本实用新型采用吸爪内缘设有胶圈，能提高吸附力从而保障绝缘子不易掉落，同时可防止损坏绝缘子；
(Ⅲ)本实用新型采用设置可倾斜旋转的吸盘结构，当吸盘低位的绝缘子浸入釉池内进行上釉的同时可对吸盘高位的绝缘子进行拆装，从而显著降低上釉的生产工期；
(Ⅳ)本实用新型采用设置可倾斜旋转的吸盘结构从而克服现有技术生产效率低的缺陷，能减轻劳动强度，节约上釉工期，生产成本大幅降低，并且整体结构科学合理、简单紧凑，使用和安装方便，具有显著的经济效益和社会效益。
本实用新型广泛适用于陶瓷上釉工序配套使用。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图中：1-主轴，2-吸盘，3-分配管，4-阀门，5-吸爪，6-胶圈，7-绝缘子，θ-倾斜角。
具体实施方式
参考图1，本实用新型是这样实现的：一种自动上釉机的吸盘结构，它包括倾斜设置的主轴1和吸盘2，所述主轴1与竖直方向的倾斜角θ为5～10°，且主轴1可驱动吸盘2旋转；所述吸盘2的外缘连接有数根分配管3，每根分配管3的末端设有吸爪5，所述吸爪5的内缘设有胶圈6。
如图1所示，本实用新型中主轴1与竖直方向的倾斜角θ一般为5°，有利于方便主轴1和吸盘2的安装，且可保障运转平稳、安全可靠；所述吸盘2连接真空泵用于产生负压，从而实现吸附绝缘子7；所述每根分配管3上分别设有阀门4，所述阀门4用于单独控制分配管3与吸盘2的气路连接，打开阀门4则联通气路可实现吸附绝缘子7，关闭阀门4则断开气路可拆下绝缘子7，采用该结构方便每个绝缘子7的单独拆装；所述吸爪5经焊接固定在分配管3的末端，采用焊接的安装方式快捷、方便，且连接牢固可靠；所述吸盘2的外缘一般连接有4～6根分配管3并围绕吸盘2的轴向中心均匀分布，可保障各分配管3的每次旋转角度保持一致，方便实现自动上釉和自动装卸。
结合图1所示，本实用新型的工作原理为：工作时，经真空泵与吸盘连接对吸盘以及分配管进行抽真空产生负压，经吸爪将绝缘子吸附，吸爪内设胶圈可提高吸附力，同时胶圈可实现吸爪与绝缘子之间的软接触，防止绝缘子发生损坏；主轴经驱动装置驱动旋转从而带动吸盘跟随倾斜旋转，可实现将待上釉的绝缘子旋转到釉池内进行自动上釉，而上釉完的绝缘子经吸盘旋转带至高位，经关闭阀门将绝缘子拆卸下来，接着打开阀门再吸附待上釉的绝缘子；采用本实用新型的吸盘结构，工作过程中不会损坏绝缘子的产品外观，并且能保障绝缘子产品的定位准确，上釉快捷方便。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化；凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。