本实用新型涉及顶升装置技术领域,特别涉及一种竖直顶升机构。
背景技术:
顶升是机械作业中的常见操作,广泛运用在各种加工场合。顶升可以通过气缸完成,但提升力受到气缸负载限制;为了提高负载也可能采用成本更高的提升设备或复杂的机械。成本与负载往往无法兼得。
因此,有必要开发一种新的竖直顶升机构来解决以上问题。
技术实现要素:
本实用新型的主要目的在于提供一种竖直顶升机构,能够低成本地实现高负荷短距离的升降动作。
本实用新型通过如下技术方案实现上述目的:一种竖直顶升机构,包括固定部、顶升驱动部和升降部,固定部包括基板,升降部包括平行于基板的升降板,升降板的下部设有同向的若干滑轨,顶升驱动部包括可沿滑轨活动的若干滑块,滑块分为左滑块和右滑块,左滑块上设有左滑槽,右滑块上设有右滑槽,左滑槽与右滑槽形状对称;基板上设有与滑块一一对应的限位装置,限位装置穿入滑槽内并提供滑块向上的升力;左滑块固定于左连杆上,左连杆受到一水平移动装置驱动沿滑轨水平移动,右滑块固定于右连杆上,右连杆受到另一水平移动装置驱动沿滑轨水平移动;水平移动装置固定于升降板上。
具体的,所述左滑块有两个并固定于左连杆的两端,所述右滑块有两个并固定于右连杆的两端,四个滑块支撑升降板的四角。
进一步的,所述基板上立设有若干穿过升降板的导柱。
进一步的,所述升降板上固定有套在导柱上的套筒。
具体的,所述限位装置上设有能在滑槽内滑动的凸轮。
进一步的,所述滑槽包括提升段,提升段的中心线相对水平面的斜度小于1。
进一步的,所述滑槽包括位于提升段末端的水平段。
采用上述技术方案,本实用新型技术方案的有益效果是:
本实用新型通过两个限位装置分别对左右滑块提供斜向上的接触力,两个接触力的合力向上,使升降板会竖直升降,适合短距离升降驱动。
附图说明
图1为实施例竖直顶升机构的立体图;
图2为实施例竖直顶升机构去除升降板后的俯视图。
图中数字表示:
1-基板,
11-限位装置,
111-凸轮,
12-导柱;
2-升降板,
21-滑轨,
22-套筒;
3a-左滑块,
31a-左滑槽;
3b-右滑块,
31b-右滑槽;
4a-左连杆,
4b-右连杆;
5-水平移动装置。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
实施例:
如图1和图2所示,本实用新型的一种竖直顶升机构,包括固定部、顶升驱动部和升降部,固定部包括基板1、升降部包括平行于基板1的升降板2,升降板2的下部设有同向的若干滑轨21,顶升驱动部包括可沿滑轨21活动的若干滑块,滑块分为左滑块3a和右滑块3b,左滑块3a上设有左滑槽31a,右滑块3b上设有右滑槽31a,左滑槽31a与右滑槽31b形状对称;基板1上设有与滑块一一对应的限位装置11,限位装置11穿入滑槽内并提供滑块向上的升力;左滑块3a固定于左连杆4a上,左连杆4a受到一水平移动装置5驱动沿滑轨21水平移动,右滑块3b固定于右连杆4b上,右连杆4b受到另一水平移动装置5驱动沿滑轨21水平移动;水平移动装置5固定于升降板2上。水平移动装置5可以是气缸、直线轴承等实现直线驱动的部件。两个水平移动装置5会驱动左滑块3a和右滑块3b接近或远离,因为左右滑块均受到限位装置11的限制,所以左右滑块会带着升降板2升降。因为左滑槽31a与右滑槽31b形状对称,所以限位装置11对左右滑块的接触力在水平方向的分力总是等大反向的,所以理论上说升降板2会竖直升降。本实用新型通过两个限位装置11分别对左右滑块3a、3b提供斜向上的接触力,两个接触力的合力向上,使升降板会竖直升降,适合短距离升降驱动。
如图1和图2所示,左滑块3a有两个并固定于左连杆4a的两端,右滑块3b有两个并固定于右连杆4b的两端,四个滑块支撑升降板2的四角。这种四点提升的结构会让升降更为稳定。
如图1所示,基板1上立设有若干穿过升降板2的导柱12。因为左右滑块与限位装置11之间尚有很高的自由度,所以升降板2存在晃动的可能,采用导柱12就可以提高升降板2升降的平行度。
如图1所示,升降板2上固定有套在导柱12上的套筒22。套筒22会增加与导柱12的接触面,提高升降的稳定性。
如图1所示,限位装置11上设有能在滑槽(左滑槽31a或右滑槽31b)内滑动的凸轮111。凸轮111与滑槽之间的摩擦力是滑动摩擦,一方面降低运动力,另一方面避免过大的噪音。
如图1所示,滑槽(左滑槽31a或右滑槽31b)包括提升段,提升段的中心线相对水平面的斜度小于1。按照力的分解规则,在水平移动装置5输出的驱动力相同的情况下,斜度越小,提升力越大。这使本装置可以适用低驱动高负载的场合。
如图1所示,滑槽(左滑槽31a或右滑槽31b)包括位于提升段末端的水平段。水平段可以限制升降的最高位置或最低位置,实现工作高度的准确控制。
以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。