技术总结
本实用新型公开了一种适用于成形过程的温度及气氛控制系统，该系统包括定位固定单元、电阻接触加热单元、气体冷却保护单元和温度及图像监测单元，定位固定单元包括结构相同的上模组件和下模组件，电阻接触加热单元包括上电极、下电极和电源，上电极与上模组件中的上模芯组直接接触，下电极与下模组件中的下模芯组直接接触；气体冷却保护单元包括依次相连的储气瓶、进气通道、螺旋气流道和出气通道；温度及图像监测单元包括安装在下模芯组中的红外温度传感器和CCD图像传感器。本实用新型可实现微成形过程中温度和气氛的快速精确控制，具有结构简单、操作方便、控制精确等优点。
技术研发人员：王新云;张茂;金俊松;邓磊
受保护的技术使用者：华中科技大学
文档号码：201621127483
技术研发日：2016.10.16
技术公布日：2017.06.09