一种自动上料不同密度粒子落料均匀装置的制作方法

本实用新型涉及EVA涂层加工技术领域，特别涉及一种自动上料不同密度粒子落料均匀装置。

背景技术：

现有EVA涂层设备采用粒子,不同材料的粒子和密度以及形状大小都不同,经过自动螺杆上料机进入五米高的料筒中,粒子在下落过程中,因为落料位置会形成小山状,造成轻密度大颗粒的粒子会滚动到四周,密度大粒子小的颗粒会集中在中间位,明显出现材料分层,造成后续进入螺杆挤料机中，挤料不均匀,涂层厚度以及克重波动很大,不合格产品率上升。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种自动上料不同密度粒子落料均匀装置，以解决现有技术中导致的等上述多项缺陷。

为实现上述目的，本实用新型提供以下的技术方案：一种自动上料不同密度粒子落料均匀装置，包括进料螺杆、料筒和锥形罩，所述进料螺杆的排料口位于料筒内，所述锥形罩设置在料筒内，并位于进料螺杆的排料口的正下方，所述锥形罩上均匀设有若干个圆孔，所述料筒的内壁设有防静电涂层。

优选的，所述锥形罩与料筒可拆卸连接。

优选的，所述料筒的内壁均匀设有若干个滑轨，所述锥形罩的底部设有一圈连接板，所述连接板上设有与滑轨相对应的滑槽，所述滑槽和滑轨通过定位螺栓连接。

优选的，所述滑轨上设有腰孔，所述滑槽上设有小孔，所述滑槽和滑轨通过定位螺栓依次穿过小孔和腰孔通过螺母锁紧连接。

优选的，所述圆孔的内壁上设有若干V形缺口。

采用以上技术方案的有益效果是：通过观察粒子下料过程,保证料能在出口相对均匀洒落,不形成陡坡,落料高度尽量减低,减少冲击,在料筒内安装一个锥形罩，锥形罩位于进料螺杆的排料口的正下方，锥形罩上均匀分布有若干个圆孔，保证不同部位下料量基本一致,这样粒子经过锥形罩，由于圆孔的限位，粒子通过圆孔掉落下去，就能够保证粒子下落均匀平坦,轻质粒子不会再滚动到四周,这样整个料筒内的粒子就分布均匀,同时料筒的内壁采用防静电涂层处理，解决粒子摩擦产生静电的问题,彻底解决了粒子不均匀问题，此设计，结构简单合理，能够使不同密度的粒子落料均匀，不会产生分层现象，后续进入螺杆挤料机中，挤料均匀,不会形成吐料波动，涂层厚度以及克重保证一致性,产品的不合格率大大降低,经济效益显著。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型锥形罩与料筒连接的俯视图；

图3是本实用新型滑轨的侧视图；

图4是本实用新型滑槽的侧视图；

图5是本实用新型锥形罩上局部圆孔的示意图。

其中，1-料筒，2-进料螺杆，3-锥形罩，4-圆孔，5-连接板，6-滑槽，7-滑轨，8-定位螺栓，9-腰孔，10-小孔，11-V形缺口，12-防静电涂层。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施方式。

图1-图5出示本实用新型的具体实施方式：一种自动上料不同密度粒子落料均匀装置，包括进料螺杆2、料筒1和锥形罩3，所述进料螺杆2的排料口位于料筒1内，所述锥形罩3设置在料筒1内，并位于进料螺杆2的排料口的正下方，所述锥形罩3上均匀设有若干个圆孔4，所述料筒1的内壁设有防静电涂层12。

本实施例中，所述锥形罩3与料筒1可拆卸连接，方便对锥形罩3的清洁或维护，方便使用。

本实施例中，所述料筒1的内壁均匀设有若干个滑轨7，所述锥形罩3的底部设有一圈连接板5，所述连接板5上设有与滑轨7相对应的滑槽6，所述滑槽6和滑轨7通过定位螺栓8连接，锥形罩3通过滑槽6与料筒1内壁上的滑轨7连接，滑槽6可在滑轨7上上下滑动，并通过定位螺栓8进行定位，可实现锥形罩3在料筒1内的高度调节，扩大适用范围，方便使用。

本实施例中，所述滑轨7上设有腰孔9，所述滑槽6上设有小孔10，所述滑槽6和滑轨7通过定位螺栓8依次穿过小孔10和腰孔9通过螺母锁紧定位，滑槽6和滑轨7的连接方式结构稳固，操作便捷。

本实施例中，所述圆孔4的内壁上设有若干V形缺口11，增加粒子与圆孔4内壁的接触面积，增大摩擦，使得轻质粒子不易反弹出圆孔4，具有很好的限位作用。

基于上述，通过观察粒子下料过程,保证料能在出口相对均匀洒落,不形成陡坡,落料高度尽量减低,减少冲击,在料筒1内安装一个锥形罩3，锥形罩3位于进料螺杆2的排料口的正下方，锥形罩3上均匀分布有若干个圆孔4，保证不同部位下料量基本一致,这样粒子经过锥形罩3，由于圆孔4的限位，粒子通过圆孔4掉落下去，就能够保证粒子下落均匀平坦,轻质粒子不会再滚动到四周,这样整个料筒1内的粒子就分布均匀,同时料筒1的内壁采用防静电涂层12处理，解决粒子摩擦产生静电的问题,彻底解决了粒子不均匀问题，此设计，结构简单合理，能够使不同密度的粒子落料均匀，不会产生分层现象，后续进入螺杆挤料机中，挤料均匀,不会形成吐料波动，涂层厚度以及克重保证一致性,产品的不合格率大大降低,经济效益显著。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。