1.用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，包括下输送装置（1）和处于所述下输送装置（1）上部的上输送装置（2），所述下输送装置（1）上输送陶瓷基板（3），所述上输送装置（2）上输送覆膜（4）。
2.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，所述下输送装置（1）和上输送装置（2）的输送速度使陶瓷基板（3）和覆膜（4）对应贴合。
3.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，所述上输送装置（2）为倾斜设置，包括前部设置的前输送带（21）和处于前输送带（21）后部的后输送辊（22）；所述下输送装置（1）平面设置，为一输送带结构形式。
4.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，所述下输送装置（1）上还设置有处于所述上输送装置（2）后部的切割装置。
5.根据权利要求1所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，所述下输送装置（1）上设置有处于所述上输送装置（2）后部的喷气装置（5），所述喷气装置（5）倾斜设置，倾斜方向为上输送装置（2）、下输送装置（1）的运动方向。
6.根据权利要求5所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，所述喷气装置（5）包括长条形的气箱（51），以及位于所述气箱（51）下部的若干均匀设置的喷嘴（52）。
7.根据权利要求6所述的用于陶瓷膜生产的覆膜装置，其特征在于，所述喷气装置（5）还包括向下延伸的挡板（53），所述挡板（53）将所述喷嘴（52）喷出的气体限制在下输送装置（1）所处的区域之内。