1.一种沉积机构，被配置成用于以逐层技术使用可流动树脂在构建区域内产生三维物体，所述沉积机构包括：
滑架，被配置用于相对于所述构建区域移动；
桶，安装在所述滑架上且被配置为容纳所述可流动树脂；
滚筒，被配置为部分浸没在所述桶中的所述可流动树脂中，其中所述滚筒可旋转地安装在所述滑架上，并且被配置为在所述滑架的移动期间通过所述构建区域，以及其中所述滚筒被配置用于旋转以将所述可流动树脂运送到所述构建区域内的涂覆部位，以用于在所述滑架通过所述构建区域时所述滚筒的直接涂覆以产生三维物体；以及
曝光装置，其安装在所述滑架上，并且被配置用于朝所述构建区域内的曝光部位发射电磁波，以使由所述滚筒涂覆的已涂覆树脂固化以产生所述三维物体。
2.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述曝光部位位于所述涂覆部位处。
3.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述曝光部位偏离所述涂覆部位。
4.根据权利要求1所述的沉积机构，还包括控制器，所述控制器被配置用于控制所述滑架和所述滚筒的移动并且用于控制所述曝光装置的激活以产生所述三维物体。
5.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述曝光装置包括从由dlp投影仪、led阵列和激光器构成的组中选择的装置。
6.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述滚筒对于所述电磁波是可穿透的，以及所述曝光装置具有被配置用于朝所述曝光部位发射所述电磁波的出口，其中所述出口被定位成使得所述电磁波在从所述出口行进到所述曝光部位的过程中穿过所述滚筒。
7.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述曝光装置具有被配置用于朝所述曝光部位发射所述电磁波的出口，以及所述沉积机构还包括定位在所述曝光装置的所述出口与所述曝光部位之间的透镜阵列，其中所述透镜阵列被配置为使离开所述出口的电磁波朝所述曝光部位聚焦。
8.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述沉积机构还包括多个光纤，所述多个光纤具有布置成阵列的出口端，其中所述光纤布置成使得：由所述曝光装置发射的所述电磁波行进穿过所述光纤，并且从所述光纤的指向所述曝光部位的出口端出射。
9.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述桶位于所述滚筒的第一侧，以及所述滚筒被定位成使得所述涂覆部位被配置为位于所述滚筒的与所述第一侧相对的第二侧。
10.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述桶位于所述滚筒的下方，以及所述滚筒被定位成使得所述涂覆部位被配置为位于所述滚筒的上方。
11.根据权利要求1所述的沉积机构，其中所述桶具有开口，以及所述滚筒定位在所述开口内，使得所述滚筒的第一部分位于所述开口的下方并且所述滚筒的第二部分位于所述开口的上方。
12.一种设备，包括：
具有构建平台的支撑组件，所述构建平台具有邻近于所述构建平台限定的构建区域；以及
沉积机构，其被配置用于以逐层技术使用可流动树脂在所述构建平台上产生三维物体，所述沉积机构包括：
滑架，被配置用于相对于所述构建平台移动；
桶，安装在所述滑架上且被配置为容纳所述可流动树脂；
滚筒，被配置为部分浸没在所述桶中的所述可流动树脂中，其中所述滚筒可旋转地安装在所述滑架上，并且被配置为在所述滑架的移动期间通过所述构建区域，以及其中所述滚筒被配置用于旋转以将所述可流动树脂运送到所述构建区域内的涂覆部位，以用于在所述滑架通过所述构建区域时所述滚筒的直接涂覆以产生三维物体；以及
曝光装置，其安装在所述滑架上，并且被配置用于朝所述构建区域内的曝光部位发射电磁波，以使由所述滚筒涂覆的已涂覆树脂固化以产生所述三维物体。
13.根据权利要求12所述的设备，其中所述曝光部位位于所述涂覆部位处。
14.根据权利要求12所述的设备，其中所述曝光部位偏离所述涂覆部位。
15.根据权利要求12所述的设备，还包括垂直定位机构，所述垂直定位机构可操作地连接到所述支撑组件并且被配置用于调节所述支撑组件相对于所述沉积机构的高度。
16.根据权利要求12所述的设备，还包括控制器，所述控制器被配置用于控制所述滑架和所述滚筒的移动并且用于控制所述曝光装置的激活以产生所述三维物体。
17.根据权利要求12所述的设备，其中所述曝光装置包括从由dlp投影仪、led阵列和激光器构成的组中选择的装置。
18.根据权利要求12所述的设备，其中所述滚筒对于所述电磁波是可穿透的，以及所述曝光装置具有被配置用于朝所述曝光部位发射所述电磁波的出口，其中所述出口被定位成使得所述电磁波在从所述出口行进到所述曝光部位的过程中穿过所述滚筒。
19.根据权利要求12所述的设备，其中所述曝光装置具有被配置用于朝所述曝光部位发射所述电磁波的出口，以及所述沉积机构还包括定位在所述曝光装置的所述出口与所述曝光部位之间的透镜阵列，其中所述透镜阵列被配置为使离开所述出口的电磁波朝所述曝光部位聚焦。
20.根据权利要求12所述的设备，其中所述沉积机构还包括多个光纤，所述多个光纤具有布置成阵列的出口端，其中所述光纤布置成使得：由所述曝光装置发射的所述电磁波行进穿过所述光纤，并且从所述光纤的指向所述曝光部位的出口端出射。
21.根据权利要求12所述的设备，还包括轨道，其延伸穿过所述构建区域；其中所述沉积机构安装在所述轨道上，使得所述滑架与所述轨道接合并且被配置用于沿所述轨道移动。
22.根据权利要求12所述的设备，其中所述桶位于所述滚筒的第一侧，以及所述构建平台位于所述滚筒的与所述第一侧相对的第二侧。
23.根据权利要求12所述的设备，其中所述桶位于所述滚筒的下方，以及所述构建平台位于所述滚筒的上方。
24.根据权利要求12所述的设备，其中所述桶具有开口，以及所述滚筒定位在所述开口内，使得所述滚筒的第一部分位于所述开口的下方并且所述滚筒的第二部分位于所述开口的上方。
25.一种设备，包括：
容纳可流动材料的桶；
构建平台，其位于所述桶内且位于所述可流动材料的水平面的下方，具有邻近于所述构建平台限定的构建区域；以及
沉积机构，其被配置用于通过以逐层技术使所述可流动材料固化而在所述构建平台上产生三维物体，所述沉积机构包括滚筒，所述滚筒具有位于所述可流动材料的水平面下方的表面，其中所述沉积机构还包括曝光装置，所述曝光装置被配置用于通过出口而朝所述构建区域内的曝光部位发射电磁波，以使位于所述滚筒的表面和所述构建平台之间的可流动材料固化以产生所述三维物体，其中所述滚筒对于所述电磁波是可穿透的并且所述曝光装置的出口位于所述曝光部位上方，使得所述电磁波在从所述出口行进到所述曝光部位时穿过所述滚筒。
26.一种设备，包括：
具有构建平台的支撑组件，所述构建平台具有邻近于所述构建平台限定的构建区域；以及
沉积机构，其可操作地连接到所述支撑组件，并且被配置用于以逐层技术使用可流动材料在所述构建平台上产生三维物体，所述沉积机构包括：静态表面，其限定用于涂覆所述可流动材料的涂覆部位；以及涂覆器，其包括连续膜，所述连续膜与所述可流动材料的供应部连通并且被配置用于在静态表面上移动以将所述可流动材料运送到构建区域内的涂覆部位，以用于涂覆以产生所述三维物体，其中所述沉积机构还包括曝光装置，所述曝光装置被配置用于通过出口而朝所述构建区域内的曝光部位发射电磁波，以使由所述涂覆器涂覆的已涂覆可流动材料固化以产生所述三维物体。