用于基板玻璃清洗机的加热系统及清洗机和TFT‑LCD生产线的制作方法

本发明涉及LCD制造领域，具体地，涉及一种用于基板玻璃清洗机的加热系统及应用该加热系统的清洗机和应用该清洗机的TFT-LCD生产线。

背景技术：

LCD是目前应用最广泛的显示装置之一。在生产LCD的过程中，需要对用于LCD的基板玻璃进行清洗，如果清洗不彻底，基板玻璃上残留的颗粒或污渍等异物将会影响产品的品质。用于清洗基板玻璃的清洗方法中较常用的方法是用一定温度的超纯水冲洗基板玻璃，根据生产的需要，还可以使用酸性或碱性化学溶液来代替超纯水。无论是使用超纯水还是化学溶液作为清洗剂，都需要对清洗剂的温度进行控制，如果温度过低，可能会导致清洗效果下降，如果温度过高，可能会导致基板玻璃被腐蚀，从而也会导致产品不良率上升；或者导致化学溶液过度分解，从而导致化学溶液的使用周期缩短，增加生产成本。因此，在LCD制程中使用的清洗设备需要能够稳定且精确控制清洗剂温的加热系统。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种用于基板玻璃清洗机的加热系统，该加热系统能够在需要的温度范围内稳定且精确地控制清洗液的温度。

根据本发明的另一方面，还提供一种应用所述加热系统的清洗机，该清洗机能够稳定地控制其清洗液的温度，即能保证生产的品质，又能够最大化地延长清洗液的使用周期，从而能够节省生产成本。

根据本发明的另一方面，还提供一种应用所述清洗机的TFT-LCD生产线，该生产线能够有效去除基板玻璃上的异物，保证其所生成的TFT-LCD的品质。

为了实现上述目的，本发明提供一种用于基板玻璃清洗机的加热系统，其特征在于，该加热系统包括：加热器，用于对清洗液进行加热，所述加热器可以设置于清洗液中；功率控制模块，用于控制所述加热器启动或停止；温度检测模块，用于检测清洗液的温度；以及控制模块，用于根据所述清洗液的温度，并将该清洗液的温度与预设温度范围进行比较，在该清洗液的温度高于预设温度范围的情况下，控制所述功率控制模块停止对清洗液加热；在该清洗液温度低于预设温度范围的情况下，控制所述功率控制模块开启对清洗液加热。

其中，为了进一步改进所述加热系统的功能，所述加热系统还可以包括：液面检测装置，用于检测容器内清洗液的液面高度；报警装置，用于在所述控制模块的控制下，在加热系统的参数超出预定范围时发出警报；输入和显示装置，用于输入和显示加热系统的参数，所述参数例如可以是预设温度的范围。

其中，所述温度检测模块可以使用热电阻，或者其他温敏传感器也可以应用于此处。

其中，所述报警装置可以使用声光报警器。声光报警器能够同时发出声音和光，更容易引起设备技术人员的注意，因而具有更好的提示效果，也可以单独使用发出声音的装置，例如蜂鸣器实现报警功能，但其提示效果不如声光报警器。

其中，所述输入和显示装置为触摸屏，触摸屏可以同时实现控制和显示参数等功能。也可以采用普通的显示器和键盘来代替触摸屏。

其中，所述液面检测装置包括液面上限检测装置和液面下限检测装置。也可以根据实际控制需要，在不同的液面设置多个液面检测装置，液面检测装置可以是液面检测传感器，液面检测传感器可以是利用电容变化原理的浮动式液面检测传感器，也可以是光电传感器，使用前者时，可以将其设置于水箱中，使用后者时，可以设置于水箱外部，例如在水箱外侧设置与水箱内部容间连通的透明排管，然后将光电传感器设置在透明排管上。

其中，该加热系统还包括冷却装置，用于当需要使清洗液降温时，对清洗液进行冷却。冷却装置可以是工业冷凝水系统。

其中，该加热系统还可以包括：给水泵，用于向水箱中供给清洗用的清洗液；以及排水泵，用于排出水箱中的清洗液。

根据本发明的另外两个方面，还提供一种应用上述加热系统的清洗机，以及应用该清洗机的TFT-LCD生产线。

通过上述技术方案，所述加热系统能够将清洗液的温度控制在稳定的范围内，并在该加热系统发生温度或液面异常等故障时，及时提醒设备技术人员进行维修；所述应用该加热系统的清洗机以及应用该清洗机的TFT-LCD生产线能够有效清洗基板玻璃，去除其表面的异物，从而保产品的品质，并能够最大化地利用清洗液，从而能够提高生产效率并节省生产成本。

本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1是根据本发明实施例一的用于基板玻璃清洗机的加热系统的结构图；

图2是根据本发明实施例二的用于基板玻璃清洗机的加热系统的结构图；以及

图3是根据本发明实施例三的用于基板玻璃清洗机的加热系统的结构图。

附图标记说明

10：加热器 20：功率控制模块

30：温度检测模块 40：控制模块

41：PLC 42：远程I/O控制模块

43：温控仪 50：液面检测装置

51：液面上限检测装置 52：液面下限检测装置

60：输入和显示装置 61：触摸屏

70：报警装置 71：声光报警器

80：工业冷凝水系统 90：水箱

91：给水泵 92：排水泵

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

图1是根据本发明实施例一的用于基板玻璃清洗机的加热系统的结构图。如图1所示，所述加热系统包括：加热器10，用于对清洗液进行加热，该加热器可以设置于清洗液中；功率控制模块20，用于控制所述加热器启动或停止；温度检测模块30，用于检测清洗液的温度；以及控制模块40，用于根据所述清洗液的温度，并将该清洗液的温度与预设温度范围进行比较，在该清洗液的温度高于预设温度范围的情况下，控制所述功率控制模块停止对清洗液加热，在该清洗液的温度低于预设温度范围的情况下，控制所述功率控制模块开启对清洗液加热。

图2是根据本发明实施例二的用于基板玻璃清洗机的加热系统的结构图。如图2所示，在实施例一的基础上，所述加热系统还可以包括：液面检测装置50，用于检测容器内清洗液的液面高度；报警装置70，用于在所述控制模块的控制下，在加热系统的参数超出预定范围时发出警报；输入和显示装置60，用于输入和显示加热系统的参数。

图3是根据本发明实施例三的用于基板玻璃清洗机的加热系统的结构图。如图3所示，在实施例三中，控制模块40包括PLC41、远程I/O控制模块42和温控仪43。当需要开启所述加热系统时，可以按下触摸屏61的控制画面的相应开关控制按钮，PLC接收来自触摸屏的启动指令，控制温控仪43开启。温控仪43与热电阻31连接，接收热电阻检测到的清洗液的温度，并将所述清洗液的温度与预设温度进行对比，当所述清洗液的温度高于预设温度的范围时，向晶闸管功率控制器21发出停止加热的控制信号，使其控制加热器10关闭，从而停止加热功能；当所述清洗液的温度低于预设温度的范围时，向晶闸管功率控制器21发出开始加热的控制信号，从而对清洗液加热，使清洗液的温度稳定在预设的范围内。

例如，假设清洗液的理想清洗温度是55℃，允许的波动范围为55±5℃，可以通过触摸屏设置温度的下限值为50℃，上限值为60℃。当热电阻检测到的清洗液的温度为60.1摄氏度时，温控仪43比较该温度值与预设温度的上下限值时，因为该温度值超过了上限值，将向晶闸管功率控制器21发出停止加热的信号，从而使晶闸管功率控制器控制加热器10停止加热。当热电阻检测到的清洗液的温度为49.8℃时，因此该温度值低于预设温度的下限值，温控仪43将向晶闸管功率控制器发出开始加热的信号，从而使其控制加热器开始加热。预设的温度值可以根据控制需要设置多个范围，从而在保证加热系统正常运行的前替下，使清洗液的温度稳定在正常范围内。

进一步地，为了当水箱90中的清洗液的温度超出预设温度的上限值时，或当设备需要维护，需要使清洗液恢复常温从而方便作业时，及时对其降温，所述加热系统还包括工业冷凝水系统80，清洗液的温度超出上限值时，可通过温控仪向PLC发送相关信号，从而通过PLC开启工业冷凝水系统，从而对清洗液降温，或者需要对清洗液手动降温时，也可以通过触摸屏手动输入降温指令，从而使PLC控制工业冷凝水系统80开启。当然，没有工业冷凝水系统80也不影响系统的整体功能，只是在需要降温时会耗费更多的时间，从而会影响该系统的使用效率，例如在应于用清洗机时，会降低清洗机的稼动率。

如图3所示，为了有效控制水箱中的液面，可以在水箱中或其外部设置液面检测装置，在图3中，液面检测装置包括液面上限检测装置51和液面下限检测装置52。液面检测装置检测到的液面信号可以通过远程I/O控制模块42发送至PLC，当PLC接收到液面下限检测装置52的信号时，将控制给水泵91开启，从而向水箱中供给清洗液，当PLC接收到液面上限检测装置51的信号时，将控制排水泵92开启，从而排出水箱中过量的清洗液，当液面低于预设液面的上限值，而高于预设液面的下限值时，可以关闭给水泵91和排水泵92。此外，清洗基板玻璃的过程中，随着基板玻璃的搬运，不可避免地会有清洗液流失的现象，因而液面会出现逐渐下降，为了保证液面稳定也可以通过PLC设定在一定的时间间隔内，周期性地控制给水泵开启，从而定时为水箱补充新的清洗液，以保证水箱中的液面稳定。

在实施例三中，还设置了与PLC连接的声光报警器71，当系统中出现异常时，PLC可以控制声光报警器发出警报，从而提醒设备技术人员及时处理。例如，当清洗液的温度超过极限值或持于高于预设温度的上下限值时，或当液面超过极限值，或持续低于最低液面或高于最高液面，或者给水泵或排水泵无法正常开启或关闭时，都可以通过声光报警器提醒设备技术人员。

上述实施例中的加热系统可以应用于TFT-LCD生产线中的清洗机中，该清洗机使用的清洗液可以是超纯水，也可以是酸性或碱性溶液，或者也可以在超纯水中添加其它清洗剂。

以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。

另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。

此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。