一种新型污水净化装置的制作方法

本实用新型涉及一种水处理领域，具体为一种新型污水净化装置。

背景技术：

随着经济和社会的发展，人们对水的污染和对水质量要求的越来越高，目前，现有技术的除垢过滤方法等，这些方法处理水的效果不理想，效率低，成本较高，有些产品功能单一。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种新型污水净化装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型污水净化装置，包括反应室、阳极、PLC单片机、进水阀、排污阀、滤板安装装置、滤板、上端盖、密封垫、排气阀、二级缓存区、活性炭板安装槽、三级缓存区、小分子陶瓷层、远红外负离子陶瓷层、四级缓存区、活性炭层板和出水阀，所述反应室内设置有阳极，外部左侧设置有PLC单片机，所述反应室一端设置有进水阀，另一端设置有排污阀，内壁两侧设置有滤板安装装置，所述滤板安装装置上设置有滤板，所述反应室上端设置有上端盖，所述上端盖下设置有密封垫，所述上端盖上设置有排气阀，所述滤板右侧从左向右依次设置有二级缓存区、活性炭板安装槽、三级缓存区、小分子陶瓷层、远红外负离子陶瓷层和四级缓存区，所述活性炭板安装槽内设置有活性炭层板，所述四级缓存区外部设置有出水阀。

优选的，所述出水阀、进水阀和排污阀为电动阀。

优选的，所述出水阀、进水阀和排污阀分别通过控制线缆与PLC单片机相连。

优选的，所述小分子陶瓷层由电气石和远红外粉，还含有稀有原矿材料组合制成。

优选的，所述远红外陶瓷球由远红外粉、电气石、麦饭石、优质粘土组合制成。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该新型污水净化装置采用电极间反应进行降解水中有机物，减少产生毒副产物，同时解决了活性炭类吸附杂质很容易饱和失效的问题，通过原矿释放的远红外线和负离子能量将自来水瞬间活性化处理，使水分子团变小，负离子含氧量增高。

附图说明

图1为本实用新型俯视结构示意图；

图2为本实用新型正面结构示意图。

图中：1、反应室，2、阳极，3、PLC单片机，4、进水阀，5、排污阀，6、滤板安装装置，7、滤板，8、上端盖，9、密封垫，10、排气阀，11、二级缓存区，12、活性炭板安装槽，13、三级缓存区，14、小分子陶瓷层，15、远红外负离子陶瓷层，16、四级缓存区，17、活性炭层板，18、出水阀。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种新型污水净化装置，包括反应室1、阳极2、PLC单片机3、进水阀4、排污阀5、滤板安装装置6、滤板7、上端盖8、密封垫9、排气阀10、二级缓存区11、活性炭板安装槽12、三级缓存区13、小分子陶瓷层14、远红外负离子陶瓷层15、四级缓存区16、活性炭层板17和出水阀18，所述反应室1内设置有阳极2，反应室1的内壁作为点解反映的阴极，利用电极表面产生强氧化性活性物质发生氧化反应而被转化，使指污染物在电极上直接被氧化或还原而从水中去除，外部左侧设置有PLC单片机3，所述出水阀18、进水阀4和排污阀5分别通过控制线缆与PLC单片机3控制开闭，所述反应室1一端设置有进水阀4，另一端设置有排污阀5，内壁两侧设置有滤板安装装置6，所述滤板安装装置6上设置有滤板7，所述反应室1上端设置有上端盖8，所述上端盖8下设置有密封垫9，所述上端盖8上设置有排气阀5，所述滤板7右侧从左向右依次设置有二级缓存区11、活性炭板安装槽12、三级缓存区13、小分子陶瓷层14、远红外负离子陶瓷层15和四级缓存区16，用最后程序的净化，所述活性炭板安装槽12内设置有活性炭层板17，用来吸附电解后水中的杂质，所述四级缓存区16）外部设置有出水阀18，净化过的水通过出水阀18排出。

工作原理：该新型污水净化装置由PLC单片机3控制，PLC单片机3打开进水阀4，污水进入反应室1，给电极通电，反应室1的内壁作为点解反映的阴极，利用电极表面产生强氧化性活性物质发生氧化反应而被转化，使指污染物在电极上直接被氧化或还原而从水中去除，反应室1中经过反应后通过滤板7进入二级缓存区11，再通过活性炭层板17进入三级缓存区13后，通过原矿释放的远红外线和负离子能量将自来水瞬间活性化处理进入四级缓冲区16，通过排水阀10排除经过净化的水，该装置净水分通过PLC单片机3控制间断性净化，净化一段时间后，自动打开排污阀18进行对反应室1冲洗，冲洗后继续继续净水程序。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。