一种糖醇储罐的清理装置的制作方法

文档序号:12693227阅读:348来源:国知局
一种糖醇储罐的清理装置的制作方法

本实用新型涉及设备清理领域,具体涉及一种糖醇储罐的清理装置。



背景技术:

糖醇是单糖经催化氢化及硼氢化钠还原为相应的多元醇,虽不是糖但具有某些糖的属性,故其广泛应用于低热值食品工业中。目前,在糖醇的生产流程中,一般将半成品糖醇存储于糖醇储罐中,为保证糖醇生产过程中的卫生质量,需定期对糖醇储罐进行维护清理,现有的糖醇储罐的清理方法为:保障人员通过梯子进入储罐内部,进行人工清理,由于物料罐较大,且滋生物挂壁较为牢固,造成清理速度较慢,影响正常生产;同时由于物料罐直径及深度较大,保障人员需在储罐内部搭接梯子进入到在储罐内部进行清理,存在较大的安全隐患。



技术实现要素:

为解决现有技术存在的不足,本实用新型公开了一种糖醇储罐的清理装置,应用于糖醇储罐的清理过程中,消除了以往员工需到储罐内清理的安全隐患,同时提高了清理效率,加快了生产进度,本系统具有操作简单、清洁效率高、清洁效果好、无安全隐患等优点。

为实现上述目的,本实用新型的具体方案如下:

一种糖醇储罐的清理装置,包括搅拌电机、升降台、搅拌轴、搅拌翅、搅拌翅固定装置、毛刷及喷头,所述搅拌电机位于糖醇储罐的罐口上部,搅拌电机下方与罐口之间设有一升降台,所述搅拌电机下方连接搅拌轴,所述搅拌轴为管状结构,其长度与储罐深度相等,所述管状结构的下端口封闭,所述搅拌轴的上方设有注水口,下端设有搅拌翅固定装置,所述搅拌翅的一端安装在搅拌翅固定装置上,另一端安装有喷头及毛刷,所述搅拌翅的长度可调。

优选地,所述搅拌翅为3个,均匀分布在搅拌轴的周围,所述喷头为一个,设在所述3个搅拌翅的其中一个上,所述喷头的位置与所述搅拌翅上的毛刷相邻。

优选的,所述升降台包括基座、伸缩机构和支撑台,所述基座上设有一通孔,所述通孔的形状及大小均与所述罐口的外壁相同,所述支撑台用于承载搅拌电机。

优选地,所述搅拌电机与所述升降台的支撑台螺纹连接。

本实用新型的有益效果:

1)本实用新型加设有搅拌装置,搅拌高度可通过升降台随时进行调整,同时搅拌装置中的搅拌翅末端设有喷头,在清理过程中,采用毛刷对罐内壁的滋生物进行刷洗,同时喷头能及时喷水进行清洗,喷消毒剂进行消毒,清洁效果好,同时也明显提高了清洗效率,加快了生产进度;

2)本实用新型可代替人工高处作业,可实现对储罐内部的自动清理,消除了以往员工需到储罐内清理的安全隐患,且操作简单。

附图说明

图1为本实用新型的结构图;

图2为本实用新型的升降台结构简图;

图中,1-搅拌电机,2-升降台,3-罐口,4-搅拌轴,5-注水口,6-搅拌翅固定装置,7-搅拌翅,8-喷头,9-毛刷,10-水管,11-支撑台,12-通孔,13-伸缩机构,14-基座。

具体实施方式:

下面结合附图对本实用新型进行详细说明:

如图1所示,一种糖醇储罐的清理装置,包括搅拌电机1、升降台2、搅拌轴4、搅拌翅7、搅拌翅固定装置6、毛刷9及喷头8,所述搅拌电机1位于糖醇储罐的罐口3上部,搅拌电机下方与罐口之间设有一升降台2,所述搅拌电机1下方连接搅拌轴4,所述搅拌轴4为管状结构,其长度与储罐深度相等,所述管状结构的下端口封闭,所述搅拌轴4的上方设有注水口5,下端设有搅拌翅固定装置6,所述搅拌翅7的一端安装在搅拌翅固定装置6上,另一端安装有喷头8及毛刷9,所述搅拌翅7的长度可调。

优选地,所述搅拌翅7为3个,均匀分布在搅拌轴4的周围,所述喷头8为一个,设在所述3个搅拌翅7的其中一个上,与所述搅拌翅7上的毛刷9相邻。

优选地,所述升降台2包括基座14、支撑台11和伸缩机构13,所述升降台2的基座14上设有一通孔12,所述通孔12的大小及形状与所述罐口3的外壁相同,所述支撑台11用于承载搅拌电机1。

优选地,所述搅拌电机1与所述升降台2的支撑台11螺纹连接。

本实用新型的工作流程为:

将升降台2基座14上的通孔12卡装在需清理的糖醇储罐的罐口3的外侧,调整清理装置中3个搅拌翅7的直径,使其小于糖醇储罐罐口3的内径,将搅拌装置伸入至罐口2中,再次调整搅拌翅7的长度至三个搅拌翅7上的毛刷9均与储罐内壁贴合,将水管10穿过升降台2上的通孔12连接至注水口5处,调整搅拌电机1的位置,通过螺丝将搅拌电机1安装在升降台2的支撑台上11;

开启搅拌电机1的电源及水管10的阀门,同时上下调整升降台2的高度,使搅拌翅7跟随搅拌轴4旋转并上下移动,实现喷头8的全方位喷水;

与此同时,间接性的控制水管10进水,使搅拌翅7带动毛刷9对糖醇储罐的内壁进行全方位的刷洗。

上述虽然结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了描述,但并非对本实用新型保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本实用新型的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本实用新型的保护范围以内。

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