技术总结
本发明公开了一种针对3D光学玻璃、蓝宝石半导体的高精清洗工艺，包括步骤：真空超声波皂化清洗、真空碳氢切水、真空超声波碳氢清洗、蒸汽浴洗与真空干燥、等离子清洗，其中，碳氢清洗剂均为CnH2n+2饱和链烃类清洗剂，真空超声波皂化清洗、真空碳氢切水、真空超声波碳氢清洗、蒸汽浴洗与真空干燥步骤均重复两次。本发明采用无污染的碳氢清洗剂对工作进行清洗，可以避免对环境的影响，而通过各个工艺步骤真空超声波皂化清洗‑真空碳氢切水‑真空超声波碳氢清洗‑蒸汽浴洗与真空干燥‑等离子清洗的配合，以及各个工艺步骤中参数的设定，从而将不良率控制在2％以内，提高良品率，保持清洗品质稳定，同时该工序简单，无污染，成本低。
技术研发人员：李辉;丁玉清;邝文轩;胡俊;张远东;刘展波;张文录;肖波
受保护的技术使用者：深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司
文档号码：201710221624
技术研发日：2017.04.06
技术公布日：2017.06.20