1.本实用新型涉及清洗机技术领域,具体为一种全自动硅片超声波清洗机。
背景技术:2.半导体器件生产中硅片须经严格清洗,微量污染也会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面,严重影响少数载流子寿命和表面电导,同时引起严重漏电,硅片表面的灰尘会导致各种缺陷,现需要一种全自动硅片超声波清洗机对硅片表面进行清洗,但是现有的全自动硅片超声波清洗机存在很多问题或缺陷:
3.传统的全自动硅片超声波清洗机在实际使用中,不能对硅片进行及时的烘干,造成水渍长时间的停留在硅片表面容易生成水锈,严重影响硅片载流子寿命和表面电导,缩短了硅片的使用寿命。
技术实现要素:4.本实用新型的目的在于提供一种全自动硅片超声波清洗机,以解决上述背景技术中提出的不能进行及时烘干的问题。
5.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种全自动硅片超声波清洗机,包括箱体、清洗槽、过滤组件和烘干槽,所述箱体的顶部安装有顶盖,所述箱体的内部一侧焊接有清洗槽,所述箱体的内部远离清洗槽的一侧焊接有烘干槽,且烘干槽的内部通过挂钩等距安装有三组烘干篮,所述烘干槽的一侧通过螺栓安装有延伸至箱体外侧的烘干组件,所述箱体的内部设有底柜,所述底柜的内部一侧通过螺栓安装有过滤组件。
6.优选的,所述过滤组件内安装有过滤箱,过滤箱的内部等距设有过滤网板,且过滤箱的一侧通过管件安装有控制阀,过滤箱的另一侧通过管件安装有水泵。
7.优选的,所述烘干组件内安装有安装罩,安装罩的内部一侧等距设有加热管,且安装罩的内部安装有风机,且风机的正面通过螺栓安装有防护网。
8.优选的,所述箱体的底部两侧通过螺栓安装有滚轮,箱体的一侧设有电源线,且箱体的正面通过螺栓安装有控制器。
9.优选的,所述清洗槽的内部通过挂钩安装有清洗篮,且清洗槽的底部等距安装有换能器。
10.优选的,所述底柜的内部一侧放置有超声波发生器,底柜的正面通过合页安装有柜门,且底柜的两侧安装有散热窗。
11.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该全自动硅片超声波清洗机结构合理,具有以下优点:
12.(1)通过在箱体的内部设有烘干槽,在对硅片进行烘干时,先将硅片放置在烘干篮内,并将烘干篮通过两侧的挂环与挂钩配合悬挂在烘干槽的内部,同时通过加热管可将电能转化为热能,并通过风机运行产生的风力将加热管产生的热量带入烘干槽的内部,通过
热风可增加烘干槽内部温度和空气流通,从而可快速带走硅片表面的水分,实现对硅片进行快速烘干的目的,避免水渍残留,保证了硅片的安全性,延长了硅片的使用寿命;
13.(2)通过在底柜的内部安装有过滤组件,在对清洗槽内部水源进行过滤时,通过旋钮控制阀可将清洗槽内部的水源输送到过滤箱内部,通过过滤箱内部多组过滤网板可对水源进行有效的过滤,而过滤完成的水源通过水泵输出端的水管输送到清洗槽的内部,便于对清洗槽内部的水源进行循环过滤,从而实现了水源的循环利用,节约水资源,提高了装置节能减排的性能;
14.(3)通过在清洗槽的底部等距安装有换能器,在对清洗槽内部硅片进行清洗时,先将硅片放置在清洗篮中,并将清洗篮通过挂钩悬挂在清洗槽内部,通过超声波发生器产生高频振荡信号,并通过导线传递到换能器,通过换能器转换成每秒几万次的高频机械振荡,在清洗槽中的清洗液中形成超声波,对周围形成巨大冲击,从而对硅片表面不断进行冲击,使工作表面及缝隙中的污垢迅速剥落,从而达到硅片表面净化的目的。
附图说明
15.图1为本实用新型的正视剖面结构示意图;
16.图2为本实用新型的正视结构示意图;
17.图3为本实用新型的侧面结构示意图;
18.图4为本实用新型的过滤组件正视剖面结构示意图。
19.图中:1、顶盖;2、箱体;201、滚轮;202、电源线;203、控制器;3、清洗槽;301、清洗篮;302、换能器;4、底柜;401、超声波发生器;402、柜门;5、过滤组件;501、过滤箱;502、控制阀;503、水泵;504、过滤网板;6、烘干组件;601、安装罩;602、加热管;603、风机;604、防护网;7、烘干槽;701、烘干篮。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
21.请参阅图1-4,本实用新型提供的一种实施例:一种全自动硅片超声波清洗机,包括箱体2、清洗槽3、过滤组件5和烘干槽7,箱体2的底部两侧通过螺栓安装有滚轮201,箱体2的一侧设有电源线202,且箱体2的正面通过螺栓安装有控制器203,控制器203可采用plc控制器,控制器203通过导线与超声波发生器401,水泵503,加热管602和风机603电性连接,便于控制装置内部电器设备的运行,实现装置的智能化运行,箱体2的顶部安装有顶盖1,箱体2的内部一侧焊接有清洗槽3,箱体2的内部远离清洗槽3的一侧焊接有烘干槽7,且烘干槽7的内部通过挂钩等距安装有三组烘干篮701,箱体2的内部设有底柜4,底柜4的内部一侧放置有超声波发生器401,底柜4的正面通过合页安装有柜门402,且底柜4的两侧安装有散热窗,底柜4的内部一侧通过螺栓安装有过滤组件5,过滤组件5内安装有过滤箱501,过滤箱501的内部等距设有过滤网板504,且过滤箱501的一侧通过管件安装有控制阀502,控制阀502的顶部通过水管与清洗槽3的底部连接,过滤箱501的另一侧通过管件安装有水泵503;
22.具体的,在对清洗槽3内部水源进行过滤时,通过旋钮控制阀502可将清洗槽3内部的水源输送到过滤箱501内部,通过过滤箱501内部多组过滤网板504可对水源进行有效的过滤,而过滤完成的水源通过水泵503输出端的水管输送到清洗槽3的内部,便于对清洗槽3内部的水源进行循环过滤,从而实现了水源的循环利用,节约水资源,提高了装置节能减排的性能;
23.烘干槽7的一侧通过螺栓安装有延伸至箱体2外侧的烘干组件6,烘干组件6内安装有安装罩601,安装罩601的内部一侧等距设有加热管602,且安装罩601的内部安装有风机603,且风机603的正面通过螺栓安装有防护网604;
24.具体的,在对硅片进行烘干时,先将硅片放置在烘干篮701内,并将烘干篮701通过两侧的挂环与挂钩配合悬挂在烘干槽7的内部,同时通过加热管602可将电能转化为热能,并通过风机603运行产生的风力将加热管602产生的热量带入烘干槽7的内部,通过热风可增加烘干槽7内部温度和空气流通,从而可快速带走硅片表面的水分,实现对硅片进行快速烘干的目的,避免水渍残留,保证了硅片的安全性,延长了硅片的使用寿命;
25.箱体2的内部一侧焊接有清洗槽3,清洗槽3的内部通过挂钩安装有清洗篮301,且清洗槽3的底部等距安装有换能器302;
26.具体的,在对清洗槽3内部硅片进行清洗时,先将硅片放置在清洗篮301中,并将清洗篮301通过挂钩悬挂在清洗槽3内部,通过超声波发生器401产生高频振荡信号,并通过导线传递到换能器302,通过换能器302转换成每秒几万次的高频机械振荡,在清洗槽3中的清洗液中形成超声波,对周围形成巨大冲击,从而对硅片表面不断进行冲击,使工作表面及缝隙中的污垢迅速剥落,从而达到硅片表面净化的目的。
27.工作原理:使用时,首先,先将硅片放置在清洗篮301中,并将清洗篮301通过挂钩悬挂在清洗槽3内部,通过超声波发生器401产生高频振荡信号,并通过导线传递到换能器302,通过换能器302转换成每秒几万次的高频机械振荡,在清洗槽3中的清洗液中形成超声波,对周围形成巨大冲击,从而对硅片表面不断进行冲击,使工作表面及缝隙中的污垢迅速剥落,从而达到硅片表面净化的目的;
28.其次,先将硅片放置在烘干篮701内,并将烘干篮701通过两侧的挂环与挂钩配合悬挂在烘干槽7的内部,同时通过加热管602可将电能转化为热能,并通过风机603运行产生的风力将加热管602产生的热量带入烘干槽7的内部,通过热风可增加烘干槽7内部温度和空气流通,从而可快速带走硅片表面的水分,实现对硅片进行快速烘干的目的,避免水渍残留,保证了硅片的安全性,延长了硅片的使用寿命;
29.最后,通过旋钮控制阀502可将清洗槽3内部的水源输送到过滤箱501内部,通过过滤箱501内部多组过滤网板504可对水源进行有效的过滤,而过滤完成的水源通过水泵503输出端的水管输送到清洗槽3的内部,便于对清洗槽3内部的水源进行循环过滤,从而实现了水源的循环利用,节约水资源,提高了装置节能减排的性能。
30.对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制
所涉及的权利要求。