一种硅片清洗机的制作方法

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，尤其涉及一种硅片清洗机。

背景技术：

硅片在完成化学机械抛光后，硅片表面会形成一层活跃的单晶硅原子，活跃的硅原子将有一个未配对的电子，会吸附正、负电荷等外来杂质，故要对硅片进行清洗，现有的硅片清洗是将硅片有序排列在清洗篮中，在放入清洗池中进行清洗。在清洗后通常需要对清洗篮中的硅片进行换料以进行下次清洗，现有的换料方式通常是工作人员将清洗篮中的硅片依次取出，再将未清洗的硅片放入清洗篮中，效率极为低下。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种清洁效果好，上料方便的硅片清洗机，

本实用新型是通过以下技术方案予以实现：一种硅片清洗机，其特征在于：包括传送机构,所述传送机构的传送轨迹上依次设置有进料机构、导向机构、机械清洁机构、喷淋机构和干燥机构；所述进料机构包括进料架、翻转装置和驱动装置，所述翻转装置设置在进料架上，所述驱动装置固定在所述进料架上且所述驱动装置的动力输出端与转轴连接，若干个所述翻转装置套设在所述转轴外侧，所述翻转装置与硅片的接触面上设置有若干个用来固定硅片的吸附件。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述翻转装置为矩形杆,所述矩形杆中央开有与所述转轴直径相适应的通孔,所述矩形杆与硅片的接触面上设置有若干个所述吸附件。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述矩形杆上的所述吸附件有两组，两组所述吸附件中心对称，两组所述吸附件以所述矩形杆的重心为中心。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述导向机构包括沿硅片清洗机宽度方向设置的若干组导向件，所述导向件包括一对相对倾斜设置的导向条和设置在所述导向条顶部的导向轮，沿硅片行进方向上所述导向条之间距离逐渐减小。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述喷淋机构包括若干根喷淋管，所述喷淋管设置在所述传送机构上方，所述喷淋管上均匀分布有多个喷淋头。所述喷淋管有两组，一组喷淋管连接纯水管路，另一组喷淋管通过回水管与所述循环纯水管路连接。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述机械清洁机构包括若干个沿硅片行进方向上下交错设置的毛刷辊和传动皮带，所述毛刷辊包括转动辊和设置在所述转动棍上的毛刷，所述机械清洁机构沿传送机构宽度方向上有设置有若干组。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述干燥机构设置在所述传送机构上方，所述干燥机构包括若干个沿硅片行进方向上下交错设置的风刀，所述风刀出风口朝向硅片。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述传送机构包括传送皮带和传动杆，所述传送皮带沿硅片清洗机宽度方向设置有若干组，所述传动杆设置在所述导向机构和所述干燥机构处，所述传动杆的轴向方向与硅片清洗机宽度方向平行。

本实用新型的有益效果是：进料机构通过驱动装置带动翻转装置，翻转装置将硅片通过吸附件固定，翻转装置将硅片翻转至导向机构上，通过吸附件减缓了硅片与翻转装置之间的冲击，避免硅片损伤降低产品质量，吸附件增加了硅片与翻转装置之间的静摩擦力，硅片跟随翻转装置翻转时不易脱落，导向机构引导硅片调整方向便于后续机械清洁机构对硅片上下表面进行清洁，喷淋机构对硅片进行喷淋冲洗，通过干燥机构对硅片进行干燥得到清洁的硅片，提高了清洁效率改善了硅片清洁度降低了硅片的次品率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型干燥机构局部放大图；

图3为本实用新型进料机构局部放大图；

图4为本实用新型导向机构局部放大图；

图5为本实用新型长度方向剖面示意图；

图6为本实用新型机械清洁结构机构局部示意图；

图7为本实用新型正视图；

图中：1、进料机构；2、导向机构；3、机械清洁结构；4、喷淋机构；5、干燥机构；6、传送机构；7、翻转装置；8、吸附件；9、导向件；10、导向轮；11、毛刷辊；12、风刀；13、传动杆；。

具体实施方式

为了使本技术领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

参照图1～7，本实用新型为一种硅片清洗机，包括传送机构6、进料机构1、导向机构2、机械清洁机构、喷淋机构4、干燥机构5；传送机构6的传送轨迹上自传送方向依次设置进料机构1、导向机构2、机械清洁机构、喷淋机构4、干燥机构5。进料机构1包括进料架、翻转装置7和驱动装置，驱动装置为旋转电机，进料架上设置有转轴，转轴轴向平行于传送机构6的宽度方向，电机的动力输出轴驱动转轴转动，转轴上套设有若干个翻转装置7，翻转装置7为矩形杆，所述矩形杆中央开有通孔，通孔形状与转轴相适应，矩形杆上设置用来固定硅片的吸附件8，吸附件8有两组，每组设置在矩形杆端部至矩形杆中央形成的面上，两组吸附件8以矩形杆的重心为中心作中心对称设置，吸附件8为多个线性排列的吸盘，吸盘起到接触硅片减缓矩形杆对硅片的冲击避免硅片破损的作用,吸盘与硅片之间静摩擦力大,硅片不易滑动。转轴旋转，矩形杆旋转接触硅片，硅片接触吸盘，硅片随着矩形杆旋转180度落至导向机构2一侧的传送机构6上，硅片受传送机构6带动继续行进，另一组吸附件8吸附进料架的硅片，矩形杆继续旋转180度，硅片随着矩形杆旋转180度落至导向机构2一侧的传送机构6上，硅片受传送机构6带动继续行进，翻转装置7完成一个工作周期。本实用新型外侧设置有壳体，用来防止灰尘杂质的进入。

参照图4，导向机构2包括若干组导向件9，导向件9设置在传送机构6上，导向件9包括一对相对倾斜设置的导向条和设置在导向条顶部的导向轮10，导向轮10有多个,一对导向条之间的距离沿着硅片行进方向逐渐减小,导向条之间的距离大于硅片的宽度。硅片随着传送机构6行进受导向条上设置的导向轮10引导，设置导向轮10避免硅片与导向条碰撞产生缺损降低硅片质量。

参照图6，机械清洁机构包括若干个沿硅片行进方向上下交错设置的毛刷辊11和传动皮带，在硅片行进方向上，毛刷辊11设置在硅片上表面时，对应的硅片下表面处设置传动皮带，毛刷辊11设置在硅片下表面时，对应的硅片上表面处设置传动皮带，毛刷辊11和传动皮带上下交错设置保证了硅片上下表面的清洁。毛刷辊11包括转动辊和设置在所述转动棍上的毛刷，毛刷对硅片表面进行清洁,毛刷辊11将硅片上下表面较硬的杂质颗粒去除。机械清洁机构沿传送机构6宽度方向上有设置有若干组，进而可以同时对多块硅片的上下表面进行清洁。

喷淋机构4包括若干根喷淋管，喷淋管设置在所述传送机构6上方，所述喷淋管上均匀分布有多个喷淋头。喷淋管有两组，一组喷淋管连接纯水管路，另一组喷淋管通过回水管与所述循环纯水管路连接。喷淋装置启动，喷淋管通过喷淋头先用循环纯水喷洒在硅片上进行清洁，此时硅片上的药液浓度较大，循环纯水内药液的浓度相对硅片上的药液浓度较小，因此可达到清洗的效果，循环纯水冲洗后，喷淋管通过喷淋头喷淋纯水在硅片上进行二次冲洗，二次冲洗将硅片上相对浓度较低的药液再冲洗去除，进而达到清洗的效果。采用此种冲洗方式，可节约用水，提高清水利用率，降低投入成本。清洁后，干燥装置对硅片进行干燥，干燥机构5包括若干个沿硅片行进方向上下交错设置的风刀12，所述风刀12出风口朝向硅片，风刀12出风口宽度在0.05mm到0.01mm的范围，风刀12采用压缩空气、涡流风机或高压离心风机驱动风刀12产生出强力风幕，用于吹除硅片表面的杂质、迅速吹干硅片表面水分，风刀12材质可以选用铝合金或不锈钢制成。不锈钢风刀12适用高温高腐蚀环境。硅片受传送机构6带动出料。传送机构6包括传送皮带和传动杆13，传送皮带沿硅片清洗机宽度方向设置有若干组，所述传动杆13设置在所述导向机构2和所述干燥机构5处，所述传动杆13的轴向方向与硅片清洗机宽度方向平行，传动杆13转动带动硅片移动，导向机构2的导向件9设置在传动杆13下方，干燥机构5的风刀12交错设置在传动杆13的上方和下方。进一步的实施方案中，进料架处设置有传动杆13，传动杆13轴向方向与转轴垂直，传动杆13转动将硅片向翻转装置7的矩形杆处横向移动。

进一步的实施方案中，吸附件8为真空吸盘，吸盘与矩形杆内部连通，转轴与矩形件连通，转轴远离驱动装置一端设置有负压装置用来为吸盘提供负压。转轴旋转，矩形杆旋转接触硅片，吸附件8吸附硅片，硅片随着矩形杆旋转180度落至导向机构2一侧的传送机构6上，负压装置停止工作，硅片落至传送机构6，开启负压机构，吸附件8吸附进料架的硅片，矩形杆继续旋转180度，关闭负压装置，翻转装置7完成一个工作周期。通过使用真空吸盘对硅片进行负压吸附，吸附效果好，硅片不易脱落。

本实用新型的有益效果是：进料机构1通过驱动装置带动翻转装置7，翻转装置7将硅片通过吸附件8固定，翻转装置7将硅片翻转至导向机构2上，通过吸附件8减缓了硅片与翻转装置7之间的冲击，避免硅片损伤降低产品质量，吸附件8增加了硅片与翻转装置7之间的静摩擦力，硅片跟随翻转装置7翻转时不易脱落，导向机构2引导硅片调整方向便于后续机械清洁机构对硅片上下表面进行清洁，喷淋机构4对硅片进行喷淋冲洗，通过干燥机构5对硅片进行干燥得到清洁的硅片，提高了清洁效率改善了硅片清洁度降低了硅片的次品率。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。