一种自动清洗治具及清洗装置的制作方法

1.本技术涉及半导体加工的技术领域，尤其涉及一种自动清洗治具及清洗装置。


背景技术：

2.光刻版是用于半导体芯片生产的重要组件，大批量生产时每天都会用到大量不同型号的光刻版，手动清洗已不能满足生产要求。光刻版在进行清洗时，需要将光刻版固定在夹具上，目前的光刻版夹具仅适用于对同一型号的光刻版进行定位，清洗不同型号的光刻版时需要更换不同型号的夹具，操作比较繁琐。


技术实现要素：

3.本技术的目的在于提供一种自动清洗治具及清洗装置，该自动清洗治具可以适用于对不同型号的光刻版进行定位，操作简便。
4.为此，第一方面，本技术实施例提供了一种自动清洗治具，包括：支撑架，所述支撑架包括中心板以及四个等角度均匀设置于所述中心板外周侧的支撑臂，所述支撑臂远离所述中心板的一端设置有阶梯台面；支撑定位组件，设置于所述支撑架的阶梯台面上，用于支撑光刻版或者定位所述光刻版的端角。
5.在一种可能的实现方式中，所述阶梯台面包括依次升高的第一支撑面、第二支撑面、第三支撑面和第四支撑面；所述支撑定位组件包括：第一支撑定位组件，设置于所述第一支撑面上，用于支撑放置于所述第一支撑定位组件上的光刻版；第二支撑定位组件，设置于所述第二支撑面上，用于支撑放置于所述第二支撑定位组件上的光刻版，或者定位放置于所述第一支撑定位组件上光刻版的端角；第三支撑定位组件，设置于所述第三支撑面上，用于支撑放置于所述第三支撑定位组件上的光刻版，或者定位放置于所述第二支撑定位组件上光刻版的端角；第四支撑定位组件，设置于所述第四支撑面上，用于定位放置于所述第三支撑定位组件上光刻版的端角。
6.在一种可能的实现方式中，所述第一支撑定位组件的高度高于所述第二支撑面的高度。
7.在一种可能的实现方式中，所述第二支撑定位组件的高度高于所述第三支撑面的高度。
8.在一种可能的实现方式中，所述第三支撑定位组件的高度高于所述第四支撑面的高度。
9.在一种可能的实现方式中，所述支撑定位组件为两个特氟龙材质的定位柱。
10.第二方面，本技术实施例提供了一种清洗装置，包括：如前所述自动清洗治具；驱动组件，所述驱动组件的动力输出端与所述中心板连接，以使所述支撑架围绕所述中心板的轴向转动；清洗组件，设置于所述支撑架的上方，用于向光刻版上喷洒清洗液；以及吹干组件，设置于所述支撑架的上方，用于吹干所述光刻版上的清洗液。
11.在一种可能的实现方式中，所述清洗组件包括有机溶剂喷头和清水喷头，用于分
别向光刻版上喷洒有机溶剂和清水。
12.在一种可能的实现方式中，所述吹干组件包括氮气喷嘴，所述氮气喷嘴的输入端连通外部高压氮气源。
13.在一种可能的实现方式中，还包括设置于所述支撑架上方的防护罩，所述清洗组件和吹干组件均位于防护罩内，且所述防护罩上连通设置有抽气管。
14.根据本技术实施例提供的自动清洗治具，该自动清洗治具通过阶梯台面上同一高度上的四个支撑定位组件对光刻版的底部进行支撑，通过阶梯台面另一高度上的四个支撑定位组件对光刻版的四个端角进行定位，可以适用于对不同型号的光刻版进行定位，操作简便。
附图说明
15.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。另外，在附图中，相同的部件使用相同的附图标记，且附图并未按照实际的比例绘制。
16.图1示出本技术实施例提供的一种自动清洗治具的结构示意图；
17.图2示出本技术实施例提供的一种自动清洗治具和光刻版的结构示意图；
18.图3示出本技术实施例提供的阶梯台面和支撑定位组件的结构示意图；
19.图4示出本技术实施例提供的一种清洗装置的结构示意图。
20.附图标记说明：
21.a、光刻版；
22.1、支撑架；11、中心板；12、支撑臂；13、阶梯台面；131、第一支撑面；132、第二支撑面；133、第三支撑面；134、第四支撑面；
23.2、支撑定位组件；21、第一支撑定位组件；22、第二支撑定位组件；23、第三支撑定位组件；24、第四支撑定位组件；25、定位柱；
24.3、驱动组件；
25.4、清洗组件；41、有机溶剂喷头；42、清水喷头；
26.5、吹干组件；
27.6、防护罩；61、抽气管。
具体实施方式
28.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
29.图1示出本技术实施例提供的一种自动清洗治具的结构示意图；图2示出本技术实施例提供的一种自动清洗治具和光刻版的结构示意图；图3示出本技术实施例提供的阶梯台面和支撑定位组件的结构示意图。
30.如图1至图3所示，本技术实施例提供一种自动清洗治具，包括：
31.支撑架1，支撑架1包括中心板11以及四个等角度均匀设置于中心板11外周侧的支撑臂12，支撑臂12远离中心板11的一端设置有阶梯台面13；以及
32.支撑定位组件2，设置于支撑架1的阶梯台面上，用于支撑光刻版a或者定位光刻版a的端角。
33.本技术中，通过阶梯台面13上同一高度上的四个支撑定位组件2对光刻版a的底部进行支撑，通过阶梯台面13另一高度上的四个支撑定位组件2对光刻版a的四个端角进行定位，可以适用于对不同型号的光刻版a进行定位，操作简便。
34.本技术实施例中，阶梯台面13包括依次升高的第一支撑面131、第二支撑面132、第三支撑面133和第四支撑面134；
35.支撑定位组件2包括：
36.第一支撑定位组件21，设置于第一支撑面131上，用于支撑放置于第一支撑定位组件21上的光刻版a；
37.第二支撑定位组件22，设置于第二支撑面132上，用于支撑放置于第二支撑定位组件22上的光刻版a，或者定位放置于第一支撑定位组件21上光刻版a的端角；
38.第三支撑定位组件23，设置于第三支撑面133上，用于支撑放置于第三支撑定位组件23上的光刻版a，或者定位放置于第二支撑定位组件22上光刻版a的端角；
39.第四支撑定位组件24，设置于第四支撑面134上，用于定位放置于第三支撑定位组件23上光刻版a的端角。
40.具体的，第二支撑定位组件22用于对4寸光刻版a的四个端角进行定位；第三支撑定位组件23用于对5寸光刻版a的四个端角进行定位，第四支撑定位组件24用于对6寸光刻版a的四个端角进行定位。
41.本技术中，实现上的光刻版a用于圆形晶圆的作业，所以，光刻版a一般都选用方形结构。
42.本技术实施例中，第一支撑定位组件21的高度高于第二支撑面132的高度。
43.具体的，在第一支撑定位组件21对光刻版a进行支撑时，光刻版a与第一支撑面131之间留有间隙，仅仅依靠四个第一支撑定位组件21对光刻版a进行支撑，减少支撑面积，防止在水渍在光刻版a上残留，而且方便对清洗后的光刻版a进行吹干。
44.本技术实施例中，第二支撑定位组件22的高度高于第三支撑面133的高度。
45.具体的，在第二支撑定位组件22对光刻版a进行支撑时，光刻版a与第二支撑面132之间留有间隙，仅仅依靠四个第二支撑定位组件22对光刻版a进行支撑，减少支撑面积，防止在水渍在光刻版a上残留，而且方便对清洗后的光刻版a进行吹干。
46.本技术实施例中，第三支撑定位组件23的高度高于第四支撑面134的高度。
47.具体的，在第三支撑定位组件23对光刻版a进行支撑时，光刻版a与第三支撑面133之间留有间隙，仅仅依靠四个第三支撑定位组件23对光刻版a进行支撑，减少支撑面积，防止在水渍在光刻版a上残留，而且方便对清洗后的光刻版a进行吹干。
48.本技术实施例中，支撑定位组件2为两个特氟龙材质的定位柱25。
49.本技术中，采用两个定位柱25，方便将光刻版a的端角卡入两个定位柱25之间，从而实现对光刻版a的限位。采用特氟龙材质，耐酸碱，保证使用寿命，而且不会对光刻版a造
成损伤。
50.图4示出本技术实施例提供的一种清洗装置的结构示意图。
51.如图4所示，本技术实施例提供了一种光刻版清洗装置，包括：
52.如前光刻版a夹具；
53.驱动组件3，驱动组件3的动力输出端与中心板11连接，以使支撑架1围绕中心板11的轴向转动；
54.清洗组件4，设置于支撑架1的上方，用于向光刻版a上喷洒清洗液；以及
55.吹干组件5，设置于支撑架1的上方，用于吹干光刻版a上的清洗液。
56.本技术中，驱动组件3采用伺服电机，通过伺服电机带动支撑架1转动，通过清洗组件4向光刻版a上喷洒清洗液，通过吹干组件5向光刻版a上吹送干燥空气用于吹干光刻版a上的水渍。
57.具体作业时，将光刻版a固定在支撑架1上匹配的高度，然后通过驱动组件3带动支撑架1转动，同时通过清洗组件4向旋转的光刻版a上喷洒清洗液，对光刻版a进行清洗，清洗结束后，通过光刻版a的旋转进行甩干，同时通过吹干组件5对光刻版a进行吹干，最后将吹干后的光刻版a取下即可。
58.具体的，清洗组件4包括有机溶剂喷头41和清水喷头42，用于分别向光刻版a上喷洒有机溶剂和清水。
59.其中有机溶剂喷头41和清水喷头42均为伞状喷头，喷出的清洗液为扇面结构，配合光刻版a的旋转，保证清洗液可以覆盖整个光刻版a。
60.本技术中，首先通过有机溶剂喷头41向光刻版a上喷洒有机溶剂(具体为丙酮)，溶解光刻版a上的有机杂质，在清洁的过程中，可以通过清洗刷放在旋转的光刻版a上，保证对光刻版a的清洁效果，然后通过清水对光刻版a上的有机溶剂进行冲洗。
61.具体的，有机溶剂喷头41连通外部的有机溶剂供给泵，清水喷头42连通外部的清水供给泵。
62.本技术实施例中，吹干组件5包括氮气喷嘴，氮气喷嘴的输入端连通外部高压氮气源。
63.本技术中，通过高压氮气源通过氮气喷嘴喷出，对光刻版a进行吹干。
64.可选的，吹干组件5还可以选用干燥空气喷嘴，连通外部的干燥洁净空气。
65.本技术实施例中，还包括设置于支撑架1上方的防护罩6，清洗组件4和吹干组件5均位于防护罩6内，且防护罩6上连通设置有抽气管61。
66.本技术中，通过防护罩6可以在清洗的时候防止清洗液被甩出，而且有机溶剂喷头41喷出的有机溶剂具有一定的挥发性，通过防护罩6可以对有机溶剂进行收集，然后通过抽气管61将挥发的有机溶剂及时抽走处理，防止对工作环境造成污染。
67.具体地，清洗组件、吹干组件和防护罩安装在机架上即可。
68.该一种自动清洗治具，通过阶梯台面13上同一高度上的四个支撑定位组件2对光刻版a的底部进行支撑，通过阶梯台面13另一高度上的四个支撑定位组件2对光刻版a的四个端角进行定位，可以适用于对不同型号的光刻版a进行定位，操作简便。
69.应当指出，在说明书中提到的“一个实施例”、“实施例”、“示例性实施例”、“一些实施例”等表示所述的实施例可以包括特定特征、结构或特性，但未必每个实施例都包括该特
定特征、结构或特性。此外，这样的短语未必是指同一实施例。此外，在结合实施例描述特定特征、结构或特性时，结合明确或未明确描述的其他实施例实现这样的特征、结构或特性处于本领域技术人员的知识范围之内。
70.应当容易地理解，应当按照最宽的方式解释本公开中的“在
……
上”、“在
……
以上”和“在
……
之上”，以使得“在
……
上”不仅意味着“直接处于某物上”，还包括“在某物上”且其间具有中间特征或层的含义，并且“在
……
以上”或者“在
……
之上”不仅包括“在某物以上”或“之上”的含义，还可以包括“在某物以上”或“之上”且其间没有中间特征或层(即，直接处于某物上)的含义。
71.此外，文中为了便于说明可以使用空间相对术语，例如，“下面”、“以下”、“下方”、“以上”、“上方”等，以描述一个元件或特征相对于其他元件或特征的如图所示的关系。空间相对术语意在包含除了附图所示的取向之外的处于使用或操作中的器件的不同取向。装置可以具有其他取向(旋转90度或者处于其他取向上)，并且文中使用的空间相对描述词可以同样被相应地解释。
72.需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
73.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的范围。