电磁除垢仪的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及除垢和防垢设备领域，具体是一种电磁除垢仪。
【背景技术】
[0002] 电磁除垢仪主要用于解决化工、石油、工业锅炉及管道等各种用水设备的除垢、防 垢问题。目前来讲，防垢除垢仍是世界性的一大难题。
[0003] 目前，较为广泛使用的除垢防垢方法是在水中添加具有阻垢功能的化学药剂，即 阻垢剂。但是，各种阻垢剂在使用方面针对性特别强，由于各地或各种工业生产过程所用水 的水质不同，每种阻垢剂都不具备普适性，只是对某种水质的水具备阻垢、防垢作用。所以 在使用阻垢剂时，一定要对阻垢剂进行适应性评价和选择。利用阻垢剂除垢防垢主要存在 三大缺点：首先生产成本高。一个中大型的相关生产企业，如电厂或污水处理厂，每年为除 垢、防垢投放的阻垢剂至少几十万元人民币或高达数百万元人民币。在中大型石油生产企 业中，每年为解决油田结垢而投放的化学药剂甚至超过千万元。其次存在污染问题。因需在 生产设备中添加化学药剂，即各种阻垢剂，因此对水质或设备必然不同程度地构成污染，严 重时甚至腐蚀设备，影响设备的使用寿命。再次，每种阻垢剂的使用具有相当强的针对性， 即不具备普适性，只是对某种水质的水等具有阻垢、防垢作用。
[0004] 近几年发展起来的物理除垢技术为从根本上解决除垢防垢问题开辟了新的途径。 物理除垢方法具有成本低、不存在污染、普适性强等优点。目前已投入使用的物理除垢技术 有：
[0005] [1]Ion-Stick处理器。该处理器由棒状合金复合探头和产生高电压的电源箱组 成，通电后可产生7500V的直流电压，在伸入水中的探头周围形成一个高压静电场，极性水 分子在高压静电场的作用下，阻止钙镁成垢粒子不能自由地靠近金属表面，使水垢难以生 成。经静电场处理过的水分子还能改变金属表面原有垢粒子之间的结合力，使已经生成的 水垢逐渐溶解剥落。使用Ion-Stick处理器最大优点是环境友好，管理简易，能耗低（电功 率IOW左右）。
[0006] [2]电磁除垢仪。电磁除垢仪是利用电子线路产生的高频电磁振荡，在固定的两极 之间形成一定强度的高频电磁场，冷却水在吸收高频电磁场能后，水分子作为偶极子被不 断反复极化而产生扭曲、变形、反转、振动，形成活性很强的单分子或小谪合群体状态的水， 从而增强水分子之间的偶极矩，促进水对成垢物质及其组分的作用，改变冷却水中沉积物 质的存在形态和相关离子的物理性能及水分子与其他离子的结合状态，使结垢晶体沉积物 析出的时间延长，并以细小的无定形的颗粒析出，最终达到阻垢和松动剥落已经生成的水 垢。电磁除垢仪已有不少使用实例，在一次性投资以后运转费用很低，使用方便，最大优点 在于不对环境造成污染。
[0007] [3]磁化处理技术。磁化处理技术是使用锶铁氧体和钕铁硼等组成的强磁材料制 作成的内磁、外磁和可调节的磁处理器串接在进管上，保持水流以1.5m/s以上的流速通过 磁处理器的N、S极之间的空隙，让水在垂直方向上切割磁力线，促使水分子的活化。使用的 磁化器磁通密度应大于100MT，且阻垢效果随磁通密度的增大而提高。经过磁化处理的冷却 水由于洛仑兹力的作用，促进水中钙镁物质均相成核过程，有利于循环水主体内部的结晶 速度，减少了难溶盐沉积在金属表面的趋势。另外，在强磁场的作用下，由于洛仑兹力，水分 子和水中的离子或粒子将发生取向运动，使离子或粒子的水合进程增强，也使碳酸钙等均 相成核增强并随即被取向的水分子所包围，难以形成大颗粒的结垢晶体。
[0008] 以上物理除垢方法都是基于电磁原理在静电场、磁场或电磁场的作用下使水分子 极化或使结垢离子等产生定向运动，促进水分子对水中易结垢离子或粒子的作用、使成垢 物质被极化水分子包围，减小了水中结垢物质粒子之间的键合强度等，从而达到除垢防垢 效果。尽管这些物理除垢技术都有成功的范例，但由于结垢机理及现场物理化学条件的复 杂性和多样性，每种技术都尚未广泛推广使用。目前，物理除垢技术仍然处于探索、改进和 完善阶段。
[0009] 对于电磁除垢仪技术来说，除垢效果与电磁振荡的频率和电磁场能大小有关，在 电磁振荡频率一定时，电磁场能越大除垢效果越明显，因此，为了增强除垢效果，通常通过 提高电磁场能来实现，这就需要消耗较多的能源。因此需要探索一种可以用较低电磁场能 就能够达到满意的除垢效果的电磁除垢仪技术。
【发明内容】
[0010] 本发明提出一种电磁除垢仪，以解决现有技术中电磁除垢仪能耗高的问题。
[0011] 本发明的技术方案是这样实现的：
[0012] 一种电磁除垢仪，包括单片机、复位电路、时序电路、放大电路及与所述放大电路 电连接的线圈，所述复位电路、时序电路和放大电路与所述单片机电连接；
[0013] 所述单片机用于向所述放大电路传递高频交变信号，该高频交变信号的周期为6 秒，脉宽的变化方式为：
[0014] 在1到4秒内，脉宽变化公式为To+1000iis;
[0015] 在4到5. 7秒内，脉宽变化公式为To-14381iis;
[0016] 在5. 7到6秒内，脉宽公式为T〇-1417115iis;
[0017] 其中，To为时间，单位为iis。
[0018] 进一步地，所述单片机为AT89S51单片机。
[0019] 进一步地，所述复位电路包括上电复位电路和手动复位电路。
[0020] 进一步地，所述复位电路包括：
[0021] 一与AT89S51单片机的复位管脚RST/VPD电连接的电容C1，电容Cl的另一端接电 源Vcc;所述复位管脚RST/VH)通过串联的电阻Rl和复位按钮AN接电源Vcc;所述复位管 脚RST/VPD通过电阻R2接地。
[0022] 进一步地，所述时序电路包括：
[0023] 连接于AT89S51单片机的XTALl管脚和XTAL2管脚之间的晶振JT，所述XTALl管 脚通过电容C2接地，所述XTAL2管脚通过电容C3接地。
[0024] 进一步地,所述放大电路包括：
[0025] 一达林顿三极管，该达林顿三极管通过电阻R3与所述单片机电连接；
[0026] 所述电阻R3与单片机电连接的一端经电阻R4接电源Vcc;
[0027] 所述达林顿三极管经电阻R5接地。
[0028] 本发明的有益效果为：
[0029] 本发明的电磁除垢仪采用AT89S51单片机输出具有一定函数变化的高频交变信 号，该交变信号针对除垢具有非常突出的效果，可在相对较低的电磁场能条件下实现满意 的除垢效果，设备的输出功率在几十瓦，与现有的电磁除垢设备需要几百、几千、甚至上万 瓦的输出功率相比，更具有节能效果。
【附图说明】
[0030] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术