一种掩模版的清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及掩模版技术领域，具体涉及一种掩模版的清洗装置。
【背景技术】
[0002]掩模版是一种在薄膜、塑料或玻璃基体材料上，制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的结构，其也称光罩或光学掩模版，常见的掩模版有铬版、干版和菲林等。
[0003]光刻是以某种光子束或粒子束，经过由通透和非通透的图形组成的掩模版，照射在光致抗蚀剂上，利用光致抗蚀剂的感光性或抗蚀性，形成与掩模版图形一致(正胶)或相补(负胶)的感光区域，再经过化学显影，去除或保留这些区域得到的光刻胶图案。光刻是高精度微几何形状图形化最有效的手段之一，它可以大规模复制微细图形进行生产，是一种低成本高效率的加工技术，是半导体工艺中的核心技术。掩模版是光刻技术中必不可少的图形转移工具，对图形能否精确转移起着重要作用，但是随着光刻中曝光条件的不同，掩模版也会与光致抗蚀剂存在接触，一段时间后其有效区域均会出现脏污现象，导致图形转移不能按照预期目标完成。
[0004]因此，每当产生一定程度的脏污现象，掩模版就需要进行清洗。
[0005]在现有掩模版的清洗方式中，一般分为手动清洗和自动清洗。其中，手动清洗前期投资成本低，且便于较小尺寸的掩模版清洗，但由于人工的不均匀性和随意性，清洗的规模化和规范化难以提高，且对外观尺寸较大(外观尺寸单边大于609mm)的掩模版操作难度很大，甚至会造成操作品质异常和产品报废；而自动清洗方便快捷，可批量清洗，但是需配置专门的清洗机，一般的清洗机成本高、清洗尺寸不大、清洗效率不高、占用空间大、耗用大量的水电，且由于现有的清洗机都是单面清洗，其清洗效率难以提高。
[0006]因此，如何提供一种既实现清洗、冲洗、晾干一体化操作，又能综合提升清洗效率、节省水电用量的清洗装置，特别是较大尺寸(外观尺寸单边大于609mm)掩模版的清洗操作，是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。
【实用新型内容】
[0007]本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种一种掩模版的清洗装置，综合提升清洗效率、节省水电用量，并实现清洗、冲洗、晾干一体化操作。
[0008]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种掩模版的清洗装置，包括:
[0009]掩模版支架，用于夹持固定掩模版；
[0010]清洗组件，分别设置在掩模版两侧，用于同步清洗掩模版的两侧面；
[0011]循环净化单元，包括一密封仓、净化过滤模块和水气分离槽，该密封仓分别与净化过滤模块和水气分离槽连通；
[0012]该掩模版支架和清洗组件均设置在密封仓内。
[0013]其中，较佳方案是:该清洗组件包括动力支架、高压喷嘴模块、清洗滚筒和风刀模块，该高压喷嘴模块、清洗滚筒和风刀模块均设置在动力支架上。
[0014]其中，较佳方案是:该清洗组件还包括水存储模块和清洗液存储模块，该高压喷嘴模块分别与水存储模块和清洗液存储模块连接。
[0015]其中，较佳方案是:该水存储模块包括依次连接的水存储槽、水过滤器和水加压泵，该水加压泵与高压喷嘴模块的进水口连接。
[0016]其中，较佳方案是:该清洗液存储模块包括依次连接的清洗液存储槽、清洗液过滤器和清洗液加压泵，该清洗液加压泵与高压喷嘴模块的进清洗液口连接。
[0017]其中，较佳方案是:该净化过滤模块包括风机净化器和遮水板，该遮水板设置在风机净化器的出风口，该风机净化器的出风口设置在密封仓的内侧。
[0018]其中，较佳方案是:还包括与风机净化器连通的进风口。
[0019]其中，较佳方案是:还包括与水气分离槽连通的排风口和排水口。
[0020]其中，较佳方案是:该水气分离槽设置在密封仓底部。
[0021]其中，较佳方案是:还包括一控制单元，该控制单元分别与清洗组件和循环净化单元连接。
[0022]本实用新型的有益效果在于，与现有技术相比，本实用新型通过设计一双面同步清洗掩模版的清洗装置，对掩模版进行双面同步清洗，并采用清洗、冲洗、晾干一体化操作，提高清洗效率、节省人力；同时将清洗环境设置在一循环净化单元中，采用基于风机净化器的自动循环水气分离的密闭净化方式，提高清洗的干净度，且节省水电用量。
【附图说明】
[0023]下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中:
[0024]图1是本实用新型清洗装置的结构示意图；
[0025]图2是本实用新型清洗组件的部分结构框图；
[0026]图3是本实用新型结循环净化单元的结构框图。
【具体实施方式】
[0027]现结合附图，对本实用新型的较佳实施例作详细说明。
[0028]如图1、图2和图3所示，本实用新型提供一种清洗装置的优选实施例，对掩模版进行双面同步清洗，并采用清洗、冲洗、晾干一体化操作，提高清洗效率，同时采用基于风机净化器的自动循环水气分离的密闭净化方式，提高清洗的干净度。其中，图1是清洗装置的结构示意图，图2是清洗组件的部分结构框图，图3是结循环净化单元的结构框图。
[0029]—种掩模版的清洗装置，包括掩模版支架10、清洗组件20、循环净化单元。
[0030]其中，循环净化单元包括一密封仓40、净化过滤模块30和水气分离槽50，该密封仓40分别与净化过滤模块30和水气分离槽50连通；掩模版支架10用于夹持固定掩模版1，掩模版支架10设置在密封仓40内；清洗组件20分别设置在掩模版I两侧，用于同步清洗掩模版I的两侧面，清洗组件20均设置在密封仓40内；清洗装置还包括一进入门70，进入门70设置在密封仓40上。
[0031]本实施例中，掩模版支架10包括一夹槽，用于夹持掩模版I。其中，掩模版支架10优选设置在密封仓40的底部，其夹槽朝上，便于垂直夹持掩模版I ;或者，掩模版支架10还包括设置在两侧边的夹持支架，用于夹持掩模版I的侧边，提高夹持的稳定性。
[0032]本实施例中，清洗组件20包括动力支架21、高压喷嘴模块22、清洗滚筒23和风刀模块24，用于喷射清洗液和干净水的高压喷嘴模块22、用于擦拭清洁掩模版I的清洗滚筒23和用于吹干掩模版I的风刀模块24均设置在动力支架21上。动力支架21包括分别设置在掩模版I两侧面的第