本发明涉及一种机械铸件生产物料处理系统，属于机械铸件生产技术领域。
背景技术：
目前，机械铸件生产过程中，经常需要用到各种物料，这些物料有必要采用合适的方式予以改进，以便更好地实现机械生产物料改善处理效果，方便根据需要予以生产制造物料，改善物料生产制造效果，一般的处理方式存在不足。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种机械铸件生产物料处理系统，以便更好地针对机械生产制造物料进行粉碎分离处理，实现分离，方便种植使用。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。
一种机械铸件生产物料处理系统，包括进料系统，进料系统右侧设有提升系统，提升系统右侧上部设有下料管机构，下料管机构下部安装有左分离处理板，左分离处理板下部安装有左集料系统，下料管机构右侧设有粉碎系统，粉碎系统下部安装有右分离处理板，右分离处理板下部安装有右集料系统，粉碎系统右侧设有出料管机构，出料管机构右侧设有回料管机构，回料管机构下部设有回料系统，回料系统左侧与提升系统右侧下部相连接；提升系统上部安装有左动力系统，左动力系统下部设有动力系统轴，动力系统轴侧面安装有提升机构；粉碎系统右侧设有弧形承载装置，弧形承载装置上部安装有右动力系统，粉碎系统上部安装有上旋转机构，粉碎系统内部右侧安装有下旋转机构，右动力系统和上旋转机构之间设有上动力传输机构，右动力系统和下旋转机构之间设有下动力传输机构，上旋转机构和下旋转机构上均安装有多个物料处理机构。
进一步地，承载机构右侧上部设有多个连接柱，连接柱右侧均设有粉碎球。
进一步地，左分离处理板和右分离处理板上均安装有多个分离处理孔。
进一步地，回料系统下部安装有下料斜台。
该系统中，将物料倒入进料系统，物料从进料系统进入提升系统下部，在左动力系统的作用下，动力系统轴带动提升机构转动，利用提升机构将物料从提升系统下部提升到上部，物料到达下料管机构位置时，从提升机构上离开进入下料管机构。下料管机构内的物料沿着左分离处理板滑入粉碎系统，下滑过程中，物料中的杂质从左分离处理板上的分离处理孔进入左集料系统。在右动力系统的作用下，上动力传输机构和下动力传输机构带动上旋转机构和下旋转机构转动，利用物料处理机构对物料进行粉碎，粉碎球对物料进行辅助粉碎，将物料粉碎得更彻底。粉碎后的物料掉落到右分离处理板上，粉末物料从右分离处理板上的分离处理孔进入右集料系统进行收集，块状物料沿着右分离处理板下滑，从出料管机构进入回料管机构，块状物料掉落到下料斜台，沿着下料斜台从回料系统进入提升系统下部，块状物料提升后继续进行粉碎。
该发明的有益效果在于：该发明系统能有效地针对物料进行提升，方便提升后进行粉碎处理，并方便分离处理后分离，且方便循环粉碎物料，改善了使用效果，方便根据需要使用。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述，以便更好的理解本发明。
本发明实施例中的机械铸件生产物料处理系统，包括进料系统，进料系统右侧设有提升系统，提升系统右侧上部设有下料管机构，下料管机构下部安装有左分离处理板，左分离处理板下部安装有左集料系统，下料管机构右侧设有粉碎系统，粉碎系统下部安装有右分离处理板，右分离处理板下部安装有右集料系统，粉碎系统右侧设有出料管机构，出料管机构右侧设有回料管机构，回料管机构下部设有回料系统，回料系统左侧与提升系统右侧下部相连接；提升系统上部安装有左动力系统，左动力系统下部设有动力系统轴，动力系统轴侧面安装有提升机构；粉碎系统右侧设有弧形承载装置，弧形承载装置上部安装有右动力系统，粉碎系统上部安装有上旋转机构，粉碎系统内部右侧安装有下旋转机构，右动力系统和上旋转机构之间设有上动力传输机构，右动力系统和下旋转机构之间设有下动力传输机构，上旋转机构和下旋转机构上均安装有多个物料处理机构。承载机构右侧上部设有多个连接柱，连接柱右侧均设有粉碎球。左分离处理板和右分离处理板上均安装有多个分离处理孔。回料系统下部安装有下料斜台。
该系统在具体实施时，将物料倒入进料系统，物料从进料系统进入提升系统下部，在左动力系统的作用下，动力系统轴带动提升机构转动，利用提升机构将物料从提升系统下部提升到上部，物料到达下料管机构位置时，从提升机构上离开进入下料管机构。下料管机构内的物料沿着左分离处理板滑入粉碎系统，下滑过程中，物料中的杂质从左分离处理板上的分离处理孔进入左集料系统。在右动力系统的作用下，上动力传输机构和下动力传输机构带动上旋转机构和下旋转机构转动，利用物料处理机构对物料进行粉碎，粉碎球对物料进行辅助粉碎，将物料粉碎得更彻底。粉碎后的物料掉落到右分离处理板上，粉末物料从右分离处理板上的分离处理孔进入右集料系统进行收集，块状物料沿着右分离处理板下滑，从出料管机构进入回料管机构，块状物料掉落到下料斜台，沿着下料斜台从回料系统进入提升系统下部，块状物料提升后继续进行粉碎。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。