本发明涉及一种研磨介质，属于研料技术领域。
背景技术：
研磨介质作为一种研磨用的分散材料广泛应用在搅拌磨、砂磨机、滚筒磨等研磨设备中。物料在研磨介质之间的剪切力的作用下被剪开，从而使物料颗粒尺寸变小并且被分散。在研磨过程中，研磨介质之间的剪切面积的大小尤为重要，剪切面积越大，单位时间内剪切物料颗粒的数量就越多，研磨效率就越高。
传统的研磨介质有两种，一种是球体，另外一种是圆柱体。球体之间的剪切是点与点，剪切面积非常小，故研磨效率较低。圆柱体研磨介质之间的剪切面积为线与线，所以圆柱体研磨介质之间的剪切面积比球体研磨介质之间的剪切面积大了很多。正是由于这个原因，在卧式滚筒磨内添加一点圆柱体研磨介质有利于提高研磨效率。但受制于圆柱体研磨介质的运动具有方向性，它只能在磨机内做转动而不能翻滚，所以圆柱体研磨介质在立式磨机中很少使用。
因此，研发一种适用于多种研磨设备的新型研磨介质，提高研磨效率，是研料技术领域亟待解决的技术问题之一。
技术实现要素：
本发明的目的是提供一种新型的研磨介质，其形状新颖，呈足球状，既克服了球体研磨介质剪切面积小的缺点，有效提高了研磨效率，同时也克服了圆柱体研磨介质受制于研磨设备的局限，适合多种研磨设备使用。
本发明提供了一种研磨介质，其特征在于，研磨介质包括一主球体，在主球体的表面上有若干个切面。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，切面为圆形。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，切面均匀分布在主球体的表面上。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，研磨介质呈足球状。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，研磨介质包括一主球体，在主球体的表面上有若干个均匀分布的圆形切面，研磨介质呈足球状。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，主球体上切面的数目为5-16个。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，主球体的直径在2-50mm。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，圆形切面的直径小于主球体直径的一半。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，研磨介质由氧化锆及其复合锆、氧化铝、硅酸锆、碳化硅、氮化硅或氮化铝中的至少一种材料制成。
根据本发明的一个具体但非限制性的实施方案，研磨介质采用注塑、干压或浇注的方法制作。
本发明的有益效果主要体现在：
1.本发明的研磨介质在主球体表面上增加了若干个切面，该设计增大了研磨介质之间的剪切面积，能有效提高研磨效率。
2.本发明的研磨介质形状呈足球状，主体为球体，可以在各个方向上滚动剪切而不受制于研磨设备的运动方向，因而在卧式滚筒磨和立式磨机等多种研磨设备中都有很好的应用。
附图说明
图1是本发明的研磨介质的形状示意图。
具体实施方式
下文提供了具体的实施方式进一步说明本发明，但本发明不仅仅限于以下的实施方式。
如图1所示，本发明的研磨介质包括一主球体1，在主球体1的表面上有若干个切面2。这些切面2通常为圆形，均匀分布在主球体1的表面上，研磨介质呈足球状。例如，图1所示的主球体1上有14个圆形切面2，其中5个位于主球体的正面(图中用一个圆形和4个椭圆形表示)，5个位于主球体的背面(图中未示出)，还有4个分别位于主球体的上、下、左、右四个侧面。切面设计增大了研磨介质之间的剪切面积，有效提高了研磨效率。而研磨介质主体为球体、类似足球的设计可以使研磨介质在各个方向上滚动剪切而不受制于研磨设备的运动方向。
通常主球体1的直径在2-50mm。主球体1上的切面的数目通常为5-16个不等。若切面为圆形，圆形切面的直径一般小于主球体直径的一半。
本发明的研磨介质通常由氧化锆及其复合锆如氧化钇锆、氧化铝、硅酸锆、碳化硅、氮化硅或氮化铝等材料制成，也可以将它们中的任意几种材料复合在一起制成。研磨介质可以采用注塑、干压或浇注的方法制作。
下面结合具体实施例对研磨介质的制作进行阐述，但本发明并不限于以下实施例。
实施例1
用注塑法制作研磨介质
采用湖北熙田科技有限公司生产的3摩尔氧化钇锆，按照粉料：胶＝80：20的比例进行混炼，混炼均匀后通过螺杆挤出机挤到5mm研磨介质模具中成型，脱模后脱蜡，最后在1450℃煅烧3小时，得到5mm足球状氧化锆球。
实施例2
用浇注法制作研磨介质
按照质量比为水：聚丙烯胺：N’N-亚甲基双丙烯酰胺＝120：15：1的比例配置凝胶组分，并调节pH为9.6，搅拌30分钟后，按照固含量50％加入湖北熙田科技有限公司生产的3摩尔氧化钇锆并研磨分散，加入千分之三的过硫酸铵和几滴正丁醇，边球磨边出料，注入到5mm模具中并加热到60℃保温20分钟后脱模，阴干48小时后在1450℃煅烧3小时，得到5mm足球状氧化锆球。
本发明制作的研磨介质可以在滚筒磨、搅拌磨、行星磨、篮式研磨机、砂磨机等磨机内使用，作为研磨介质研磨分散材料。与传统研磨介质相比，本发明的研磨介质强度高且均匀，研磨效率高。
以上仅是本发明的具体应用范例，对本发明的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，在不脱离本发明本质精神的前提下，均落在本发明权利保护范围之内。