一种高效有机废气治理设备的制作方法

文档序号:11345546阅读:547来源:国知局

本实用新型涉及环保技术领域,特别涉及一种有机废气治理设备。



背景技术:

随着我国经济的飞速发展,环境保护已经成为一项基本国策,对于有机废气的吸收排放,国家有明确的标准与规定,现有的有机废气治理设备体积大,成本高,因此,有些生产厂家为了降低成本,白天治理,晚上偷排,对环境污染极大。

如何提供一种成本低而又高效的有机废气治理设备,降低企业废气治理成本,是目前亟待解决的问题。



技术实现要素:

为解决上述现有技术的不足,本实用新型提出了一种高效有机废气治理设备。

本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种高效有机废气治理设备,包括:

除臭箱体1、UV光解室2、活性碳纤维吸附室3、U型紫外线放电管4、隔板5、活性碳纤维填料6、进气口7、排气口8、均流板9;

所述高效有机废气治理设备由除臭箱体1包裹,废气通过进气口7进入到除臭箱体1内部,通过均流板9先进入UV光解室2,UV光解室2中安装有U型紫外线放电管4,在UV光解室2中对有机挥发性废气进行光解与催化氧化;

之后废气再进入活性碳纤维吸附室3,活性碳纤维吸附室3中填充活性碳纤维填料,处理后的气体通过排气口8排出到除臭箱体1外。

可选地,所述UV光解室内设置U型紫外线放电管4和TiO2催化剂。

本实用新型的有益效果是:

(1)在设备壳内设置UV光解室,废气进入治理设备后可以在U型灯管和催化剂的共同作用下将污染成分氧化分解为CO2和H2O;

(2)在设备壳内设置活性碳纤维吸附室,活性碳纤维吸附室可以将未完全分解的污染成分吸附,达到联合治理有机废气的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的一种高效有机废气治理设备的结构示意图;

图中:1-除臭箱体 2-UV光解室 3-活性碳纤维吸附室 4-U型紫外线放电管 5-隔板 6-活性碳纤维填料 7-进气口 8-排气口 9-均流板

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

如图1所述,本实用新型提出了一种高效有机废气治理设备,包括:除臭箱体1、UV光解室2、活性碳纤维吸附室3、U型紫外线放电管4、隔板5、活性碳纤维填料6、进气口7、排气口8、均流板9。

本实用新型的高效有机废气治理设备的由除臭箱体1包裹,废气通过进气口7进入到除臭箱体1内部,通过均流板9先进入UV光解室2,在UV光解室2中对有机挥发性废气进行光解与催化氧化。UV光解室2中安装有U型紫外线放电管4,紫外线放电管产生的光子能量可以高达647KJ/mol、742KJ/mol,如此高的光子能能够迅速裂解小于该能量的有机挥发性废气的分子键,使其转变为无机小分子物质。光解主要是通过高能UV紫外线对空气中的氧气产生分解作用,促进氧分子分解成为游离态的氧,由于游离态氧上的正负电子处于不平衡状态,因此游离态氧极易与氧分子结合生成臭氧,而臭氧的强氧化作用能够促进有机挥发性废气的分解。在UV光解室2中添加纳米级别的活性材料TiO2,将活性材料给予紫外线照射,活性材料能够吸收大量的光能,与表面发生激发进而生成h+(空穴)与e-(电子),而空穴与电子所具有的氧化还原能力,可与氧、水发生反应,迅速生成具有极强氧化能力的·OH(氢氧根自由基)与·O2-(超级阴氧离子)。·OH氧化电位相当高,可以氧化有机挥发性废气中的电子,促进无光吸收能力物质的氧化分解。

之后废气再进入活性碳纤维吸附室3,活性碳纤维吸附室3中填充活性碳纤维填料,利用活性碳纤维填料的高效吸附性,将未完全分解的污染成分吸附,截留在填料上,利用UV光解室中的UV光将其再次分解,同时,活性碳纤维也可以实现脱附,以达到联合治理有机废气的目的,满足废气达标排放要求。

活性碳纤维吸附室3与UV光解室2之间通过隔板5分隔,隔板5透气且透光。

本实用新型提出了一种高效有机废气治理设备,该治理设备在设备壳内设置UV光解室、活性碳纤维吸附室,废气进入治理设备后可以在U型灯管和催化剂的共同作用下将污染成分氧化分解为CO2和H2O,同时活性碳纤维吸附室可以将未完全分解的污染成分吸附,达到联合治理有机废气的目的。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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