技术总结
本实用新型公开了一种可改善处理均度的膜组件清洗装置，其包括有清洗药槽，其内部填充有清洗药液，清洗药槽的内壁之上设置有采用环形结构的支撑端架，清洗药槽的内壁之上设置有多个在竖直方向上进行延伸的导向槽体，支撑端架之上设置有延伸至导向槽体内部的导向端体，导向槽体与导向端体均采用“T”形结构；所述支撑端架之上连接有升降丝杆；上述可改善处理均度的膜组件清洗装置较于传统的膜组件清洗装置，其可避免液流直接对于膜组件形成冲击，进而有效避免膜组件在清洗过程中受到损坏；与此同时，膜组件在进行清洗过程中的任意位置均可与清洗药液之间产生均匀的冲刷，进而使其整体清洗均度得以显著改善。
技术研发人员：陈永石
受保护的技术使用者：陈永石
技术研发日：2017.10.16
技术公布日：2018.07.24