一种双层玻璃反应釜高真空反应装置的制作方法

文档序号:21571018发布日期:2020-07-24 15:32阅读:724来源:国知局
一种双层玻璃反应釜高真空反应装置的制作方法

本实用新型涉及反应釜技术领域,具体为一种双层玻璃反应釜高真空反应装置。



背景技术:

双层玻璃反应釜为双层玻璃设计,内层放入反应溶媒可做搅拌反应,夹层可通上不同的冷热源做循环加热或冷却反应,在密闭的玻璃反应器内,能够实现搅拌、回流和蒸馏等工序,但是现有的双层玻璃反应釜高真空反应装置存在很多问题或缺陷。

第一,传统的双层玻璃反应釜高真空反应装置没有搅拌均匀功能,釜内产品反应速率较慢,且釜体内部底端不易被搅拌。

第二,传统的双层玻璃反应釜高真空反应装置没有排气模块,在进行某些反应时,会产生有毒气体,使得釜内压强增大,且直接排放容易对使用者造成不良影响。

第三,传统的双层玻璃反应釜高真空反应装置没有防堵塞结构,在进行较粘稠反应后,出料口容易被堵塞。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种双层玻璃反应釜高真空反应装置,以解决上述背景技术中提出的没有搅拌均匀功能,釜内产品反应速率较慢,且釜体内部底端不易被搅拌、没有排气模块,在进行某些反应时,会产生有毒气体,使得釜内压强增大,且直接排放容易对使用者造成不良影响和有防堵塞结构,在进行较粘稠反应后,出料口容易被堵塞的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种双层玻璃反应釜高真空反应装置,包括第一支架、第二支架和釜体,所述釜体内部的中间位置处竖向设置有第一搅拌轴,且第一搅拌轴的表面均匀安装有第一搅拌叶,所述第一搅拌轴两侧的上端均安装有刮板,所述釜体内部的底端设置有出料口,且釜体的顶端安装有釜盖,所述釜盖顶端的一侧安装有恒压漏斗,且釜盖顶端的另一侧安装有进料口,所述釜盖顶端的中间位置处安装有电机,且电机的输出端延伸至釜体内部并与第一搅拌轴顶端连接,所述釜盖的外侧套设有瓶口抱箍,所述釜体的下端套设有瓶底抱箍,且瓶口抱箍和瓶底抱箍的一侧竖向安装有第一支架,且瓶口抱箍和瓶底抱箍的另一侧竖向安装有第二支架,所述第二支架远离电机一侧的上端安装有固定抱箍,且固定抱箍的内侧竖向套设安装有冷凝器,所述冷凝器的底端通过导管安装有回流瓶,且回流瓶靠近釜盖的一侧通过导管与釜盖顶端一侧连通。

优选的,所述第一支架远离釜体一侧的上端安装有排气箱,且排气箱内部靠近第一支架的一侧安装有风机,并且排气箱内部远离第一支架的一侧安装有活性炭层,所述排气箱靠近第一支架的一侧通过导管与釜体一侧上端连通,且排气箱远离第一支架的一侧设置有排风口。

优选的,所述第一支架和第二支架的底端均安装有万向轮,且万向轮的内部均设置有制动装置。

优选的,所述釜体底端靠近第二支架的一侧设置有进液口,且釜体顶端靠近第一支架的一侧设置有出液口。

优选的,所述第一搅拌轴的底端设置有固定箱,且固定箱内部上端的中间位置处设置有第二锥型齿,并且第二锥型齿的顶端与第一搅拌轴的底端固定连接,所述固定箱下端的两侧均横向设置有第二搅拌轴,且第二搅拌轴的外侧均匀安装有第二搅拌叶,所述第二搅拌轴靠近固定箱一侧贯穿固定箱侧壁并安装有与第二锥型齿相啮合的第一锥型齿。

优选的,所述釜体内部的底端横向安装有转杆,且转杆顶端和底端的中间位置处均安装有竖杆,所述转杆的一侧通过皮带轮与第二搅拌轴一端连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该双层玻璃反应釜高真空反应装置结构合理,具有以下优点:

1、通过在釜体内部设置第一搅拌轴和第二搅拌轴,通过启动电机带动第一搅拌轴转动,从而带动第一搅拌叶和第二锥型齿转动,同时利用第二锥型齿和第一锥型齿的相互啮合,带动第二搅拌轴转动,从而再带动第二搅拌叶转动,使得对釜体内的反应物搅拌更加均匀,加快反应速率。

2、通过在第一支架一侧上端设置排气箱,反应产生的有毒气体或其他废气,可通过风机使得釜体内的气体导出,再经活性炭层的吸附作用,使得排出的气体干净无毒,既可以降低釜体内的压强,保证反应的正常进行,又可以避免有毒气体对使用者的伤害。

3、通过在釜体内部底端设置转杆和竖杆,反应完成后,打开出料口进行排料,通过皮带轮机构使得转杆转动,带动竖杆转动,防止出料口内的反应物堆积过多,堵塞出料口,降低出料效率,同时刮板的转动,可使得釜体内壁残留的反应物被排下,提高出料效果。

附图说明

图1为本实用新型的正视剖面结构示意图;

图2为本实用新型图1中a处放大结构示意图;

图3为本实用新型的侧视结构示意图;

图4为本实用新型的俯视结构示意图。

图中:1、电机;2、恒压漏斗;3、釜盖;4、瓶口抱箍;5、出液口;6、排气箱;7、风机;8、活性炭层;9、排风口;10、第一支架;11、瓶底抱箍;12、出料口;13、万向轮;14、第二支架;15、进液口;16、转杆;17、竖杆;18、第一搅拌叶;19、第一搅拌轴;20、刮板;21、釜体;22、回流瓶;23、进料口;24、固定抱箍;25、冷凝器;26、固定箱;27、第二搅拌叶;28、第二搅拌轴;29、第一锥型齿;30、第二锥型齿。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4,本实用新型提供的一种实施例:一种双层玻璃反应釜高真空反应装置,包括第一支架10、第二支架14和釜体21,釜体21内部的中间位置处竖向设置有第一搅拌轴19;

第一搅拌轴19的底端设置有固定箱26,且固定箱26内部上端的中间位置处设置有第二锥型齿30,并且第二锥型齿30的顶端与第一搅拌轴19的底端固定连接,固定箱26下端的两侧均横向设置有第二搅拌轴28,且第二搅拌轴28的外侧均匀安装有第二搅拌叶27,第二搅拌轴28靠近固定箱26一侧贯穿固定箱26侧壁并安装有与第二锥型齿30相啮合的第一锥型齿29;

利用第二锥型齿30和第一锥型齿29的相互啮合,带动第二搅拌轴28转动,从而再带动第二搅拌叶27转动,使得对釜体21内的反应物搅拌更加均匀,加快反应速率;

釜体21内部的底端横向安装有转杆16,且转杆16顶端和底端的中间位置处均安装有竖杆17,转杆16的一侧通过皮带轮与第二搅拌轴28一端连接;

通过皮带轮机构使得转杆16转动,带动竖杆17转动,防止出料口12内的反应物堆积过多,堵塞出料口12,降低出料效率;

且第一搅拌轴19的表面均匀安装有第一搅拌叶18,第一搅拌轴19两侧的上端均安装有刮板20,釜体21内部的底端设置有出料口12,且釜体21的顶端安装有釜盖3,釜盖3顶端的一侧安装有恒压漏斗2,且釜盖3顶端的另一侧安装有进料口23,釜盖3顶端的中间位置处安装有电机1,且电机1的输出端延伸至釜体21内部并与第一搅拌轴19顶端连接;

釜体21底端靠近第二支架14的一侧设置有进液口15,且釜体21顶端靠近第一支架10的一侧设置有出液口5;

通过进液口15注入不同的冷热源,为反应提供合适的反应温度,加快反应的进行;

釜盖3的外侧套设有瓶口抱箍4,釜体21的下端套设有瓶底抱箍11,且瓶口抱箍4和瓶底抱箍11的一侧竖向安装有第一支架10;

第一支架10远离釜体21一侧的上端安装有排气箱6,且排气箱6内部靠近第一支架10的一侧安装有风机7,并且排气箱6内部远离第一支架10的一侧安装有活性炭层8,排气箱6靠近第一支架10的一侧通过导管与釜体21一侧上端连通,且排气箱6远离第一支架10的一侧设置有排风口9;

通过风机7使得釜体21内的气体导出,再经活性炭层8的吸附作用,使得排出的气体干净无毒,既可以降低釜体21内的压强,保证反应的正常进行,又可以避免有毒气体对使用者的伤害;

且瓶口抱箍4和瓶底抱箍11的另一侧竖向安装有第二支架14;

第一支架10和第二支架14的底端均安装有万向轮13,且万向轮13的内部均设置有制动装置;

通过万向轮13使得可以轻松移动本装置,节省人力;

第二支架14远离电机1一侧的上端安装有固定抱箍24,且固定抱箍24的内侧竖向套设安装有冷凝器25,冷凝器25的底端通过导管安装有回流瓶22,且回流瓶22靠近釜盖3的一侧通过导管与釜盖3顶端一侧连通。

工作原理:使用时,通过进料口23向釜体21内添加反应物,再通过恒压漏斗2向釜体21内滴加反应液,之后启动电机1带动第一搅拌轴19转动,从而带动第一搅拌叶18和第二锥型齿30转动,同时利用第二锥型齿30和第一锥型齿29的相互啮合,带动第二搅拌轴28转动,从而再带动第二搅拌叶27转动,使得对釜体21内的反应物搅拌更加均匀,加快反应速率,同时通过进液口15注入不同的冷热源,为反应提供合适的反应温度;

反应产生的有毒气体或其他废气,可通过风机7使得釜体21内的气体导出,再经活性炭层8的吸附作用,使得排出的气体干净无毒,既可以降低釜体21内的压强,保证反应的正常进行,又可以避免有毒气体对使用者的伤害;

反应完成后,打开出料口12进行排料,通过皮带轮机构使得转杆16转动,带动竖杆17转动,防止出料口12内的反应物堆积过多,堵塞出料口12,降低出料效率,同时刮板20的转动,可使得釜体21内壁残留的反应物被排下,提高出料效果;

通过回流瓶22和冷凝器25的配合,使得本装置可以实现回流和蒸馏工作,提高装置适用性。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

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