1.一种有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱装置，包括吸收塔、吸收剂循环泵和后置除雾器，其特征在于，吸收塔顶部经管线连接至后置除雾器气体入口，吸收塔底部设有水解hcl气体入口，吸收剂循环泵与吸收塔循环连接。
2.根据权利要求1所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱装置，其特征在于，吸收塔经塔釜液位控制阀与后置除雾器的捕集液体出口汇合成同一管线后连接至有机硅水解系统。
3.根据权利要求1或2所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱装置，其特征在于，吸收塔顶部设有吸收剂进口，吸收剂进口设有吸收剂进塔流量计。
4.一种有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，按如下步骤进行：
1)含硅氧烷的hcl气体从有机硅水解系统引出后，从吸收塔底部进入，与吸收塔内吸收剂逆流接触，吸收剂包含至少一种高环硅氧烷和/或至少一种线型硅氧烷；
2)hcl气体从吸收塔塔顶出来后送至后置除雾器，经后置除雾器分离出hcl气体中夹带的硅氧烷液滴后得到合格hcl气体；
3)从吸收塔顶入口连续补入新鲜吸收剂，当吸收塔内吸收剂中易挥发组分d3和d4浓度之和c>5％时，吸收塔内吸收剂经塔釜液位控制阀与后置除雾器捕集的液体汇合后送至有机硅水解系统进行再生处理。
5.根据权利要求4所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，吸收剂通过有机硅水解物或dmc精馏分离得到。
6.根据权利要求4所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，吸收剂沸点tb＞210℃。
7.根据权利要求4所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，吸收剂粘度μ＝5～50mpa·s。
8.根据权利要求4-7任一项所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，含硅氧烷的hcl气体通入吸收塔流量v＝4000nm3/h。
9.根据权利要求4-7任一项所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，吸收塔内温度t＝-15～5℃，压力p＝-0.2～0.2mpa。
10.根据权利要求4-7任一项所述的有机硅水解hcl气体中微量硅氧烷洗脱方法，其特征在于，吸收剂循环量q＝10～15m3/h，吸收剂消耗量s＝40～300kg/h。