一种双轴搅拌分散器的制作方法

文档序号:27168789发布日期:2021-10-30 10:15阅读:99来源:国知局
一种双轴搅拌分散器的制作方法

1.本技术涉及涂料搅拌设备的领域,尤其是涉及双轴搅拌分散器。


背景技术:

2.水性涂料是涂料市场上一种较为新型的涂料。在生产水性涂料时,经常以水作溶剂,再加入其他一些物质混合而成,因此在生产水性涂料的时候,需要经常对物质的混合物进行搅拌处理。目前常用的搅拌器为双轴搅拌分散器,双轴分散器通常包括两根搅拌轴、带动搅拌轴转动的搅拌电机和带动搅拌电机和搅拌轴升降的升降气缸。
3.如公告号为cn211725635u的中国专利公开了一种双轴搅拌分散器,其包括承载板,在承载板上水平滑动安装有移动块。移动块上穿设有两根竖直的搅拌杆,搅拌杆的上端安装有同轴的支撑杆,支撑杆上安装有齿轮,两个齿轮相互啮合,且通过第二电机带动转动。在承载板上还安装有带动驱动移动块移动的电机。其能够扩大搅拌桨搅拌搅拌桶的范围,进而使得搅拌桶内的涂料原料搅拌的更加的均匀
4.针对上述中的相关技术,发明人认为该结构中的移动块在移动的过程中,小链轮与大链轮之间的距离会减小,导致出现链条松散的现象,虽然可以通过弹簧推动链轮移动来张紧链条,但是结构并不稳定,容易出现链条脱落的现象。


技术实现要素:

5.为了改善容易结构并不稳定,容易出现链条松散的问题,本技术提供一种双轴搅拌分散器。
6.本技术提供的一种双轴搅拌分散器采用如下的技术方案:
7.一种双轴搅拌分散器,包括机架,机架上安装有搅拌装置和驱动装置,搅拌装置包括搅拌轴,驱动装置包括带动搅拌轴转动的驱动电机,所述的机架上安装有运动装置,运动装置包括运动轴、运动盘和传动机构,运动轴竖直且转动安装在机架上,运动盘固定安装在运动轴的上端处,且位于搅拌轴的下方,运动轴偏心设置在运动盘上,传动机构带动运动轴沿着自身轴线转动。
8.通过采用上述技术方案,传动机构带动运动轴转动,从而带动运动盘转动。因为运动盘是偏心设置的,且位于搅拌轴的下方,因此在将盛放有涂料原料的涂料桶放置在运动盘上的时候,运动盘同时也会带动涂料桶一并转动,从而使涂料桶相对于搅拌轴移动。当搅拌轴转动并对涂料桶内的涂料原料搅拌时,能够搅拌的更为均匀。整个结构更为稳定。
9.可选的,所述驱动电机的输出轴竖直设置,传动机构包括传动链轮和传动链条,传动链轮固定安装在运动轴上,传动链条连接驱动电机的输出轴和运动轴,使运动轴带动传动链轮转动。
10.通过采用上述技术方案,驱动电机在启动时,能够带动传动链条运动,从而使运动轴也一并转动。其能够通过一个驱动电机完成搅拌,成本较低。
11.可选的,所述的运动装置还包括减速机构,减速机构包括连接齿轮、减速轴、下减
速齿轮和上减速轮,连接齿轮安装在驱动电机的输出轴上,减速轴竖直转动安装在机架上,且位于驱动电机的输出轴与运动轴之间,下减速齿轮和上减速轮均固定安装在减速轴上,连接齿轮与下减速齿轮啮合,上减速轮与传动链轮之间通过传动链条连接,下减速齿轮的直径大于连接齿轮的直径,上减速轮的直径小于传动链轮的直径。
12.通过采用上述技术方案,因为连接齿轮与下减速齿轮啮合,且下减速齿轮的直径大于连接齿轮的直径,从而使减速轴转动速度小于驱动电机的输出轴。上减速轮与传动链轮之间通过传动链条连接,且上减速轮的直径小于传动链轮的直径,从而使运动轴的转动速度小于减速轴的转动速度。其能够降低运动盘的转动速度,使放置在运动盘上的涂料桶更为稳定的转动。
13.可选的,所述的机架上安装有防护罩,所述的传动机构和减速机构均设置在防护罩内侧。
14.通过采用上述技术方案,防护罩能够罩住传动机构和减速机构,从而使传动机构和减速机构不易出现损坏的现象,整个分散器的结构更为美观和安全。
15.可选的,所述的运动装置包括定位机构,定位机构包括定位杆和定位环,定位杆竖直固定安装在运动盘的顶面上,定位杆设置有至少三根,且沿着运动盘的边缘处设置,定位环各个定位杆固定连接,在定位环的侧壁上开设有定位孔,定位孔内穿设有定位螺纹柱。
16.通过采用上述技术方案,在将涂料桶放置在运动盘上时,使涂料桶放置在三根定位杆之间,之后通过向定位孔内穿设定位螺纹柱,使定位螺纹柱与涂料桶抵接,从而能够稳定的将涂料桶固定住。
17.可选的,所述的定位螺纹柱靠近定位环圆心处的一端固定设置有弹性缓冲块,在定位螺纹柱的侧壁上开设有拨动孔,拨动孔位于定位环的外侧,且拨动孔内可拆卸的穿设有拨动杆。
18.通过采用上述技术方案,弹性缓冲块在与涂料桶贴合时,能够发生形变,很好的保护涂料桶。通过向拨动孔内销钉,即可带动拨动杆转动,并且可以朝向定位环的中心处移动。因此在设置弹性缓冲块的时候,弹性缓冲块可以设置的更大,与涂料桶贴合更为紧密,且便于人们取出拨动杆。
19.可选的,所述的拨动孔开设有至少三个,且相邻两个拨动孔之间的距离相等。
20.通过采用上述技术方案,拨动孔设置有多个,且等间距设置,从而使定位螺纹柱也等间距设置在定位环上,能够更好的夹持住涂料桶。
21.可选的,所述的定位环的外侧壁上固定设置有连接环,连接环数量与定位杆数量相等,各个定位杆均穿设在连接环内,在连接环的侧壁上穿设有连接螺栓,连接螺栓与定位杆抵接。
22.通过采用上述技术方案,定位环可以沿着定位杆上升和下降,能够很好的夹持住不同高度的涂料桶。
23.综上所述,本技术包括以下至少一种有益技术效果:
24.1.当搅拌轴转动并对涂料桶内的涂料原料搅拌时,能够搅拌的更为均匀,整个结构更为稳定;
25.2.其能够降低运动盘的转动速度,使放置在运动盘上的涂料桶更为稳定的转动。
附图说明
26.图1是本实施例的结构示意图。
27.图2是隐藏防护罩和机架后的结构示意图。
28.图3是定位机构的结构示意图。
29.附图标记说明:1、机架;11、防护罩;2、搅拌装置;21、搅拌轴;22、搅拌齿轮;3、驱动装置;31、驱动电机;32、驱动链轮;33、驱动链条;4、运动装置;41、运动轴;42、运动盘;5、减速机构;51、连接齿轮;52、减速轴;53、下减速齿轮;54、上减速轮;6、传动机构;61、传动链轮;62、传动链条;7、定位机构;71、定位杆;72、定位环;73、连接环;74、连接螺栓;75、定位孔;76、定位螺纹柱;77、弹性缓冲块;78、拨动孔;79、拨动杆。
具体实施方式
30.以下结合附图1

3对本技术作进一步详细说明。
31.本技术实施例公开一种双轴搅拌分散器。参照图1 和图2,包括机架1和固定安装在机架1外侧的防护罩11。在机架1上安装有搅拌装置2和驱动装置3,搅拌装置2包括转动安装在机架1右侧的搅拌轴21,搅拌轴21竖直设置。搅拌轴21设置有两根,搅拌轴21的上端均安装有搅拌齿轮22,两个搅拌齿轮22相互啮合。驱动装置3包括安装在机架1左侧的驱动电机31,驱动电机31的输出轴竖直向下设置。在驱动电机31的输出轴以及其中一根搅拌轴21的上端均固定安装有驱动链轮32,两个驱动链轮32通过驱动链条33连接。
32.参照图1 和图2,机架1上还安装有运动装置4,运动装置4包括运动轴41和运动盘42,运动轴41和运动盘42位于搅拌轴21的下方。运动轴41竖直且转动安装在机架1上,运动盘42焊接在运动轴41的上端,且运动轴41偏心设置在运动盘42上。
33.参照图1 和图2,运动装置4包括减速机构5和传动机构6。减速机构5包括连接齿轮51、减速轴52、下减速齿轮53和上减速轮54。连接齿轮51固定安装在驱动电机31的输出轴下端处。减速轴52转动安装在机架1上,且位于驱动电机31的输出轴靠近搅拌轴21的一侧。下减速齿轮53固定安装在减速轴52的下端,上减速轮54固定安装在减速轴52的上端处。传动机构6包括传动链轮61和传动链条62,传动链轮61安装在运动轴41的下端处。连接齿轮51与下减速齿轮53啮合,传动链条62连接上减速轮54和传动链轮61。下减速齿轮53的直径大于连接齿轮51的直径,上减速轮54的直径小于传动链轮61的直径。
34.参照图2和图3,运动装置4还包括定位机构7,定位机构7定位杆71和定位环72,定位杆71竖直焊接在运动盘42的顶面上。定位杆71设置有三根,且定位杆71沿着运动盘42的边缘处等间距设置。定位环72的外侧面周向焊接有三个连接环73,相邻两个定位环72之间的距离相等,各个定位杆71均穿设过一个连接环73。连接环73的侧壁上穿设有连接螺栓74,连接螺栓74与定位杆71抵接,使定位环72相对于定位杆71保持固定。在定位环72的侧壁上开设有三个等间距的定位孔75,定位孔75内均穿设有定位螺纹柱76。定位螺纹柱76靠近定位环72圆心处的一端粘贴有弹性缓冲块77,定位螺纹柱76侧壁上开设有拨动孔78,拨动孔78位于定位螺纹柱76远离定位环72圆心处的一端。拨动孔78内穿设有拨动杆79,通过转动拨动杆79,从而能够带动定位螺纹柱76转动。
35.本技术实施例一种双轴搅拌分散器的实施原理为:在进行搅拌时,先将涂料桶放置在运动盘42的中心处。之后根据涂料桶的高度来调节定位环72,使定位环72与涂料桶的
上侧边位置相邻,并通过连接螺栓74固定住位置。之后转动定位螺纹柱76,使定位螺纹柱76上的弹性缓冲块77与涂料桶抵接。之后启动驱动电机31,驱动电机31在带动转动轴工作的同时,一并带动连接齿轮51转动,从而带动减速轴52和传动链轮61转动,使运动盘42转动。因为运动盘42是偏心设置的,能够使搅拌轴21相对于涂料桶不断移动。当搅拌轴21转动并对涂料桶内的涂料原料搅拌时,能够搅拌的更为均匀。整个结构更为稳定。并且因为减速机构5的作用,使运动轴41的转动速度小于减速轴52的转动速度。其能够降低运动盘42的转动速度,使放置在运动盘42上的涂料桶更为稳定的转动。
36.以上均为本技术的较佳实施例,并非依此限制本技术的保护范围,故:凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本技术的保护范围之内。
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