连续处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及使处理液循环的连续处理装置。特别涉及伴随着反应的连续反应装置。
【背景技术】
[0002]作为经过借助液液反应、气液反应或催化反应等反应、或利用结晶处理而产生粒子等工业处理来得到产品或中间品的操作极多。
[0003]代表性的处理一般例如:如图23所示，将A成分、B成分或C成分投入到搅拌接触处理槽I内，利用带搅拌马达2的搅拌叶片3进行搅拌，来促进各成分的反应。在适当的时亥IJ，从排出口 5抽出成品液，之后，通过例如过滤、清洗及干燥而得到目标的结晶粒子。4是挡板。
[0004]但是，在该处理方式中，作为接触处理槽I需要大的结构，并且为了均匀的反应或处理而利用搅拌叶片3进行搅拌，但在期待高均匀性方面存在限度。
[0005]另一方面，作为处理方法，在以间歇式处理各成分向接触处理槽I内的投入及之后的搅拌的情况下，生产效率低。因此，在搅拌中连续地投入各成分的连续生产方式可得到高效率，但接触处理的条件设定(正确时间下的投入量控制等)难，未必能够高效地获得均匀的产品。
[0006]作为改良它们的尝试，提倡使流路在Imm以下的微反应器，但被指出生产量不足且因流路堵塞而导致连续生产的不良情况，并且工业规模下的实用化事例少。
[0007]使成分在以离心方式移动的过程中与其他成分接触的技术记载在专利文献I中。
[0008]现有技术文献
[0009]专利文献
[0010]专利文献1:日本特开平4 - 240288
【发明内容】
[0011]发明所要解决的课题
[0012]但是，现有技术是成分的分离技术，而不是以反应或处理为目的的技术。
[0013]在以化学工业界为代表的接触处理领域中，寻求小型的处理装置、并发挥足够的处理量、而且表现出均匀的接触处理性的反应装置的期望强烈。
[0014]因此，本发明的主要课题是提供反应装置，其是小型的处理装置，发挥足够的处理量，而且表现出均匀的接触处理性。
[0015]用于解决课题的手段
[0016]解决了该课题的本发明如下。
[0017]〔权利要求1记载的发明〕
[0018]一种连续处理装置，其特征在于，所述连续处理装置具有:处理器；注入构件，其向该处理器内注入注入液；以及循环构件，其从所述处理器的另一端部抽出处理液，并将抽出的处理液的至少一部分送回到所述处理器的一端部，
[0019]所述处理器内的液流为回转流，在比处理器的内表面靠中心侧位置注入所述注入液。
[0020]〔权利要求2记载的发明〕
[0021]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，所述处理器内的接触处理场为在所述处理器内产生的回转流的比处理器的内表面靠中心侧区域，在该接触处理场进行所述注入液的接触处理。
[0022](作用效果)
[0023]在示出回转流作为液流的接触处理场中，像龙卷风这样在中心的漩涡部分或中心的中空部分附近的内周部分的流动的左右反应的物质移动搅拌混合效果好等，紊流大。该部分成为含有注入的气体或反应物质的注入液的急剧扩散场，能够发生均匀的反应。
[0024]而且，回转流的外周部分与流路的壁面接触，因此外周的回转流成为反应物质的供给体，缓和了物质和热的急剧变化。相对于已注入的注入物质(液体、气体、固体物)的反应物质作为屏障(障壁)发挥功能，因此认为防止了反应物质向流路内表面的附着，经过长时间能够进行稳定的运转。
[0025]最初，本发明人尝试使用管式反应器的反应处理装置的开发，来作为小型的处理装置且发挥足够处理量的装置。但是，在某种反应处理材料系统中可以看到如下情况，在流路的壁面附着细微的沉积(一元核)，之后以此为核而结晶成长，阻碍了流动，难以进行长时间的稳定的运转。
[0026]作为其对策考虑如下方法:并联设置反应路径，若发生堵塞，则切换至另一反应路径来流通，在此期间清洗发生堵塞的反应路径。但是，即便切换时间很短，也应避免接触处理场的不连续运转所导致的粒径的变动，从而判断需要能够经受长时间的稳定的运转的新的机构。
[0027]对此可知，按照本发明，处理器内的液流为回转流，在所述处理器内的接触处理场中，在比处理器的内表面靠中心侧的位置注入应处理的注入液来进行接触处理，由此能够解决所述课题。
[0028]〔权利要求3记载的发明〕
[0029]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，所述连续处理装置构成为，使通过所述循环构件送回的处理液的送回液流入到所述处理器内，来产生所述回转流。
[0030]〔权利要求4记载的发明〕
[0031]根据权利要求3所述的连续处理装置，其中，通过使所述送回液以沿着处理器的内周面的形态流入到处理器内来产生回转流。
[0032](作用效果)
[0033]在产生接触处理场时，将含有应注入的无机物质的注入液的各种液体从例如容器内壁面的切线方向注入，由此将处理器内的液流形成为回转流，并将该回转流作为接触处理场。
[0034]当通过使液体相对于处理器循环并使循环液的送回液流入到该处理器内来产生回转流时，回转流的外周部分在处理器内表面形成一定厚度的筒状体部分。其结果为，产生筒状体部分相对于与新注入的注入液的反应作为屏障(障壁)发挥功能的现象，伴随着反应导致的吸热和放热的温度变化的缓和，能够防止反应物质向流路内表面的附着。
[0035]〔权利要求5记载的发明〕
[0036]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，处理器形成为其内表面随着从一端部朝向另一端部而变窄，送液的流入位置是所述处理器的长度方向一端部。
[0037](作用效果)
[0038]处理器也可以是内部空间具有均匀的半径的筒状的结构，但形成内表面随着从长度方向一端部朝向另一端部而变窄的结构适合于产生回转流。
[0039]并且，作为处理器，为了增长回转流的接触处理场，期望确保沿着长度方向的一定程度较长的空间。因此，使液体从处理器的长度方向一端部流入并从长度方向的另一端部流出是优选方式。
[0040]〔权利要求6记载的发明〕
[0041]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，完成所述接触处理后的流出液的流出位置是所述处理器的另一端部。
[0042](作用效果)
[0043]适合构成循环路，并且不在反应部设置复杂的机构就能够设置长反应区间，结果得到循环能量的降低效果。
[0044]〔权利要求7记载的发明〕
[0045]根据权利要求6所述的连续处理装置，其中，完成接触处理后的流出液的流出位置位于比注入液的注入位置靠一端部的端部侧的位置。
[0046](作用效果)
[0047]当完成接触处理后的流出液的流出位置位于比注入液的注入位置靠一端部的端部侧的位置时，能够不对回转流的产生场造成影响地使流出液流出。
[0048]〔权利要求8记载的发明〕
[0049]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，完成所述接触处理后的流出液的流出位置位于所述处理器和构成所述循环构件的循环泵之间。
[0050]S卩，是处于循环泵输出侧和处理器之间的方式。
[0051](作用效果)
[0052]能够使流出液不对回转流的产生场造成影响地流出。
[0053]〔权利要求9记载的发明〕
[0054]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，提供所述接触处理场的处理器串联配置。
[0055](作用效果)
[0056]在处理量多的情况下，期望将处理器串联配置。
[0057]通过串联配置，不增加循环送回液量就能够与段数对应地增加注入液量，能够使生产量增大同时减少相比于生产量的装置内容量，因此结果能够实现省空间化和装置成本的降低。这里，所谓“减少相比于生产量的装置内容量”是指，循环泵和流路部分的容量保持恒定，仅注入了将处理器和它们连结的管的容量，因此作为结果意味着相比于生产量能够减少装置整体容量。并且，所谓的“减少装置内容量”是指，显现出能够缩短装置内的反应物质的滞留时间的效果，结果能够进行朝向小径化的滞留时间控制。
[0058]〔权利要求10记载的发明〕
[0059]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，提供所述接触处理场的处理器并联配置。
[0060](作用效果)
[0061]在处理量多的情况下等，能够将处理器并联配置。
[0062]特别在将相同的处理器并联配置的情况下，不仅实施了均匀的接触处理，而且能够增加处理量。在沿串联方向设置的情况下，在流动方向上产生过渡压力梯度，因此在想要进行均匀反应的情况下，期望将所有的处理器并联配置。
[0063]〔权利要求11记载的发明〕
[0064]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，注入液向接触处理场的注入方向朝向所述液的回转流的下游方向。
[0065](作用效果)
[0066]如后面所说明的那样，注入液向接触处理场的注入方向也可以朝向所述液体的回转流的上游方向，但液体朝向回转流的下游方向的话，材料在内表面的附着少。
[0067]〔权利要求12记载的发明〕
[0068]根据权利要求1所述的连续处理装置，其中，注入液向接触处理场的注入方向朝向所述液的回转流的上游方向。
[0069](作用效果)
[0070]即使注入液向接触处理场的注入方向朝向所述液体的回转流的上游方向，也存在材料向壁内表面的附着量在实用上允许范围内的情况。
[0071]〔权利要求13记载的发明〕
[0072]根据权利要求2所述的连续处理装置，其中，使液体相对于处理器循环，并且在其循环