平均粒径为750nm的Si02粒子置于粘附性聚合物基板上， 然后利用以胶乳膜包裹的海绵用手施加压力地摩擦而在粘附性聚合物基板的表面形成凹 入部，从而让Si02S子与粘附性聚合物基板结合而形成了第一Si02涂敷层。利用粘结带清 除了第一Si02涂敷层的一部分后，不另外置放粒子地利用以胶乳膜包裹的海绵用手施加压 力地摩擦而在粘附性聚合物基板的表面形成凹入部，从而让Si02粒子与粘附性聚合物基板 结合而形成了实施例的第二3102涂敷层。
[0089] 图9A显示了第二3102涂敷层的CLSM照片。作为比较例，图9B则显示了利用一 般LB方法形成涂敷层时的电子显微镜照片。
[0090] 从图9A中可知，在用来形成第二Si02涂敷层的粒子的重新排列过程中由于粒子 数量不足以实现无间隙的单层级别的涂敷层而使得粒子之间的间隔变大。与此相反地，从 图9B可知，利用LB方法时粒子互相凝集地构成区域（domains)而形成中空空间。这是因 为，让粒子涂敷到粘附性聚合物基板上的现象不是凭借自组装时起作用的粒子与粒子之间 的引力，其凭借的是基板表面与粒子之间的相互作用，而且由于粒子与基板之间的结合是 在平面上以可逆方式实现而使得粒子在平面上能够自由移动。
[0091]〈实验例7>
[0092] 为了针对将粒子涂敷到粘附性聚合物基板的方法中粘附性聚合物的变形及恢复 力（弹性）进行说明而进行了下列实验。基于Sylgard184,制备包含10%重量份的固化 剂和PDMS的粘附性聚合物基板（PDMS基板）。把平均粒径为750nm的Si02粒子置于粘附 性聚合物基板上，然后利用以胶乳膜包裹的海绵用手施加压力地摩擦而在粘附性聚合物基 板的表面形成凹入部，从而让Si02粒子与粘附性聚合物基板结合而形成了Si02涂敷层。把 形成了Si02涂敷层的基板在室温下保管3天后，利用粘结带清除了涂敷层的一部分。利用 原子力显微镜（AFM)针对没有粒子的领域进行了三维观察。图10显示了Si02涂敷层中没 有粒子的领域的AFM图像。
[0093] 如图10所示，PDMS基板的表面的凹入部形态以相同于粒子排列状态地形成。凹 入部的最大深度为l〇nm以内，其值非常低。通过另行测量得知在PDMS基板涂敷粒子时高 度减少值（粒子的浸入深度）达到ll〇nm。亦即，凹入部的最大深度为粒子的浸入深度的 10%以内。这表示，PDMS基板的表面虽然因为粒子而变形，但是却恢复了 90%以上的原先 形态。
[0094]〈实验例8>
[0095] 为了说明把粒子涂敷到粘附性聚合物基板的方法还能适用于大面积上而如下所 示地在15cm直径的有盖培养皿上进行了实验。基于Sylgard184,在培养皿上制备包含 10%重量份的固化剂和PDMS的粘附性聚合物基板。把平均粒径为750nm的Si〇j4子置于 粘附性聚合物基板上，然后利用以胶乳膜包裹的海绵用手施加压力地摩擦而在粘附性聚合 物基板的表面形成凹入部，从而让Si02粒子与粘附性聚合物基板结合而形成了Si02涂敷 层。图11显示了形成于15cm直径的有盖培养皿基板上的3102涂敷层的照片。
[0096] 参照图11，Si02涂敷层由于粒子均匀地完全涂敷在15cm直径的培养皿而发生了 干涉色（只能在均勾结构的薄膜上观察到）。
[0097]〈实验例9>
[0098] 为了说明把粒子涂敷到粘附性聚合物基板的方法可以适用于具备各种表面特性 的粒子而如下所示地进行了实验。基于Sylgard184,制备包含5重量份的固化剂和PDMS的 粘附性聚合物基板（5%PDMS基板）。把平均粒径为750nm的带负电第一Si02粒子、平均粒 径为800nm的疏水性PS粒子、平均粒径为750nm的带正电第二Si02粒子（胺改性的SiO2) 分别置于粘附性聚合物基板上，然后利用以胶乳膜包裹的海绵用手施加压力地摩擦而在粘 附性聚合物基板的表面形成凹入部，从而让粒子与粘附性聚合物基板结合而形成了 3102涂 敷层或PS涂敷层。
[0099] 按照上述方法在包含10重量份的固化剂和PDMS的粘附性聚合物基板（10%PDMS 基板）上形成3102涂敷层或PS涂敷层。按照上述方法在包含20重量份的固化剂和PDMS 的粘附性聚合物基板（20%PDMS基板）上形成3102涂敷层或PS涂敷层。
[0100] 图12A、12B及12C分别显示了利用第一Si02粒子、PS粒子及第二Si〇j4子形成 的涂敷层的粒子的正面的电子显微镜照片。此时，最上面的一列是形成于5%PDMS的涂敷 层的照片，中间一列是形成于10%PDMS基板的涂敷层的照片，最下面的一列是形成于20% PDMS基板的涂敷层的照片。
[0101] 图13A、13B及13C分别显示了利用第一Si02粒子、PS粒子及第二Si〇j4子形成 的涂敷层的粒子的侧面的电子显微镜照片。此时，最上面的一列是形成于5%PDMS的涂敷 层的照片，中间一列是形成于10%PDMS基板的涂敷层的照片，最下面的一列是形成于20% PDMS基板的涂敷层的照片。
[0102] 参照图12A至12C，与PDMS基板的硬度及粒子的电荷特性无关，5102涂敷层或PS 涂敷层呈现为以高密度排列的单层粒子薄膜。参照图13A至13C，Si0j*敷层或PS涂敷层 的下降程度会根据PDMS基板的硬度而出现差异。固化剂重量份为5而具备较低硬度并容 易变形的PDMS基板的粒子下降程度较大，并且发生了PDMS基板宛如毛细管现象一样地跟 随到粒子下端的形态。该现象在因固化剂的量增加到10、20重量份而具有较高弹性度且不 易变形的PDMS基板中逐渐减少。PDMS基板如前所述地宛如毛细管现象一样地跟随粒子的 现象是因为微细领域里的粘附性聚合物具备流动性而出现的特征。
[0103] 为了把该粒子的下降现象随着基板硬度（弹性力）改变的情形加以数值化，图14 显示了利用粘结带清除涂敷层的一部分粒子后拍摄的AFM图像与形成了涂敷层的部分的 线轮廓（lineprofile)。在形成于玻璃基板、5%PDMS基板、10%PDMS基板、20%PDMS基 板上的3102涂敷层或PS涂敷层利用AFM测量平均粒子高度及下降率后分别显示在图15A和15B。参照图15A和15B，相比于无表面变形的玻璃基板，表面特性（电荷、极性）相异 的粒子在PDMS基板全部表现较低的粒子高度。其下降率在硬度较高的20%PDMS基板为 12%左右，其值则随着硬度降低而增加。相比于基板硬度差异的影响，粒子表面特性的影响 较少。
[0104] 更进一步，按照如前所述的方法涂敷平均粒径为300nm的Si02粒子后测量的结果 则显示在图16A和16B。此时，在PDMS基板也同样地呈现出相对低于玻璃基板的高度。其 下降率在硬度较高的20%PDMS基板为15%左右，其值则随着硬度降低而增加。
[0105] 为了确认粒子尺寸所带来的影响，利用平均粒径为150nm和1500nm粒子在10% PDMS基板形成了涂敷层。图17A和17B分别显示了利用平均粒径为150nm、300nm、750nm和 1500nm的粒子形成的涂敷层中平均粒子的高度及下降率。参照图17A和17B，其结果与图 15A、15B、16A和16B相似。没有观察到关于粒子尺寸的特殊结果，相对于粒子直径的下降率 为10~20%左右。
[0106]〈实验例 10>
[0107] 在基于Sylgard184分别包含7、10和20重量份的固化剂和PDMS的粘附性聚合 物基板（各为7 %PDMS基板、10 %PDMS基板、20 %PDMS基板）上置放平均粒径各为750nm 的Si02粒子，然后利用以胶乳膜包裹的海绵用手施加压力地摩擦而在粘附性聚合物基板的 表面形成凹入部，从而让Si02粒子与粘附性聚合物基板结合而形成了Si02涂敷层。其照片 分别显示在图18A、18B及18C。此时，图18A是形成于7%PDMS基板的Si02涂敷层的照片 (标记成〇? 7)，图18B是形成于10%PDMS基板的Si02涂敷层的照片（标记成1. 0)，图18C 是形成于20%PDMS基板的Si02涂敷层的照片（标记成2. 0)。下述的图19A至19C、20A至 20C、21A至 21C也一样。
[0108] 把形成于上述粘附性聚合物基板的3102涂敷层转移到第一基板（包含固化剂7% 重量份地形成的PDMS基板）的照片各自显示在