盘边缘运动，待运动至磨辊小端13处时， 块状料层因细粉量少、料层稳定，破碎效率高；由选粉机返回的二级物料不再同一级新喂料 混合，而是由独立的回料管4收集，于粉磨辊前方喂入研磨区22,在研磨区22内，由选粉机 返回的二级物料与被破碎的一级新喂料混合研磨，由于此处工艺带是槽型结构，料层流动 受限，二级物料得到集中研磨，研磨效率高；在离心力的作用下，经过研磨的物料继续向研 磨精整区21运动，在此区域，料层也因此区域工艺带的槽型结构，流动受限，得到高效研磨 和修形，最后在离心力作用下越过挡料圈5,离开磨盘完成粉磨过程。然后进入选粉机进行 选粉。
[0038] 上述立式辊磨的分级粉磨结构主要由三种功能部件组成：1)用于收集选粉机返 回物料的回料管；2)工艺带分级磨辊；3)工艺带分级磨盘。在上述三种功能部件中，回料管 4是核心功能元件，也是本实用新型的主要创新点，回料管4不仅能决定料层分级粉磨实现 的可能与否，而且能够派生出多种能够实现分级粉磨功能的磨辊和磨盘结构变体。
[0039] 本实施例能高效实现二级细料的集中粉磨，大幅提高粉磨效率，尤其是细粉（粒 径80 μ m)的粉磨效率，理论计算模型工艺参数及结果见表1。
[0040] 表1混合粉磨工艺指标理论值和分级粉磨工艺指标理论值
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[0043] 本实施例将立式辊磨的粉磨区进行了清晰的功能划分，采用回料管将选粉机回料 喂入研磨区，结合料层粉磨的原理，从限制料层流动的角度对不同的功能带进行槽型结构 设计，以稳定料层，提高粉磨效率，尤其是使二级细粉的粉磨效率得到明显提高，请参见表 1。本实施例同现有技术相比，有利于提高立式辊磨运行的稳定性，增加产量、降低系统电 耗、改善产品质量。
[0044] 每个所述锥形粉磨辊的前方设置1根所述回料管4,能够实现多点喂料集中研磨。 上述回料管4最好布置在锥形粉磨辊的前方30°~45°处，使所述二级物料由回料管4自 所述粉磨辊的前方30°~45°处喂入，可以缩短二级物料的空行程。在本实施中，回料管 4布置在锥形粉磨辊的前方30°处，二级物料由每个粉磨辊的前方30°处喂入所述研磨区 22,实现多点喂料集中研磨。磨盘中部采用锥形结构与粉磨区相连，以加快物料向粉磨区运 动的速度，提高粉磨效率。
[0045] 实施例3 :
[0046] 请参见图3~图4,所述立式辊磨采用均匀布置的至少2个粉磨辊1和1个磨盘2 进行粉磨，在所述磨盘2上方设置与其固接的辅助磨盘6,在所述辅助磨盘6上设有均匀布 置的至少2个研磨辊7,所述辅助磨盘6上面的区域形成所述研磨区。所述回料管4的数量 与所述研磨辊7的数量相同，所有所述回料管4均匀布置，每个所述研磨辊7的前方设置一 根所述回料管4。
[0047] 上述立式辊磨采用双层磨盘结构，由同一驱动装置驱动。粉磨辊1和磨盘2主要承 担对一级新喂料的破碎和研磨以及成品颗粒的修形，一级新喂料由料仓3喂入；所述辅助 磨盘6和研磨辊7承担二级物料的集中研磨。每个所述研磨辊7的前方设置1根所述回料 管4,能够实现多点喂料集中研磨。上述回料管4最好布置在研磨辊7的前方30°~45° 处，使所述二级物料由回料管4自所述研磨辊7的前方30°~45°处喂入，可以缩短二级 物料的空行程。由选粉机返回的二级物料由回料管4从每个研磨辊7的前方喂入所述辅助 磨盘6,研磨后的物料在离开辅助磨盘6下落过程中被磨盘2上方的向上气流带入选粉机， 完成一次粉磨循环。施加在所有粉磨辊1上的压力Fl由加压系统I提供，施加在所有研磨 辊7上的压力F2由加压系统II提供，粉磨辊1和研磨辊7各自设置独立的加压系统进行加 压，可方便地实现研磨强度的灵活调整。在本实施例中，回料管4布置在研磨辊的前方30° 处，二级物料由每个研磨辊的前方30°处喂入所述研磨区。磨盘中部采用锥形结构与粉磨 区相连，以加快物料向粉磨区运动的速度，提高粉磨效率。
[0048] 实施例4 :
[0049] 请参见图5~图6,所述立式辊磨采用均匀布置的至少2个粉碎辊8、均匀布置的 至少2个研磨辊7和1个磨盘2进行粉磨，在所述磨盘2的粉磨区中部设有隔环9,所述隔 环9将所述磨盘的粉磨区分成位于内侧的破碎区23和位于外侧的所述研磨区22,所有所述 粉碎辊8均设置在所述破碎区23内，所有所述研磨辊7均设置在所述研磨区22内；所述回 料管4的数量与所述研磨辊7的数量相同，所有所述回料管4均匀布置，每个所述研磨辊7 的前方设置一根所述回料管4。
[0050] 上述立式辊磨采用并联粉磨结构，新喂料由料仓3喂入磨盘2的中部，施加在所有 粉碎辊8上的压力Fl由加压系统III提供，施加在所有研磨辊7上的压力F2由加压系统IV 提供。粉碎辊8和研磨辊7分别由独立的加压系统进行加压，可方便地实现研磨强度的灵 活调整。每个所述研磨辊7的前方设置1根所述回料管4,能够实现多点喂料集中研磨。上 述回料管4最好布置在研磨辊7的前方30°~45°处，使所述二级物料由回料管4自所述 研磨辊7的前方30°~45°处喂入所述研磨区22,可以缩短二级物料的空行程。在本实施 例中，回料管4布置在研磨辊的前方30°处，二级物料由每个研磨辊的前方30°处喂入所 述研磨区22。磨盘中部采用锥形结构与粉磨区相连，以加快物料向粉磨区运动的速度，提高 粉磨效率。
[0051] 本实用新型来源于水泥立式辊磨，但不限于水泥立式辊磨，可在水泥生料、矿渣、 煤、石油焦、超细粉磨等立式辊磨中推广应用。
[0052] 尽管上面结合附图对本实用新型的优选实施例进行了描述，但是本实用新型并不 局限于上述的【具体实施方式】，上述的【具体实施方式】仅仅是示意性的，并不是限制性的，本领 域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的 范围情况下，还可以作出很多形式，这些均属于本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，包括确定在所述立式辊磨的粉磨区内 的研磨区和回料管，所述回料管的进口与选粉机的回料口连接，所述回料管的出口与所述 研磨区相对。2. 根据权利要求1所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所述立式辊磨设有 均匀布置的至少2个锥形粉磨辊和一个磨盘，所述锥形粉磨辊小端在内大端在外，所述磨 盘与锥形粉磨辊大端对应的区域形成所述研磨区；所述回料管的数量与所述锥形粉磨辊的 数量相同，所有所述回料管均匀布置，每个所述锥形粉磨辊的前方设置一根所述回料管。3. 根据权利要求1所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所述立式辊磨设有 均匀布置的至少2个锥形粉磨辊和1个磨盘，所述锥形粉磨辊小端在内大端在外，所述锥形 粉磨辊的中段设有环形凹槽；在所述磨盘与锥形粉磨辊中段环形凹槽相对的部位形成有与 所述锥形粉磨辊中段环形凹槽咬合的环状凸起，在所述磨盘与锥形粉磨辊小端相对的区域 形成一级新喂料的破碎区，在磨盘环状凸起与所述锥形粉磨辊中段环形凹槽相对的区域形 成所述研磨区，在所述磨盘与锥形粉磨辊大端相对应的区域形成研磨精整区；所述回料管 的数量与所述锥形粉磨辊的数量相同，所有所述回料管均匀布置，每个所述锥形粉磨辊的 前方设置一根所述回料管。4. 根据权利要求1所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所述立式辊磨设有 均匀布置的至少2个粉磨辊和1个磨盘，在所述磨盘上方设置与其固接的辅助磨盘，在所述 辅助磨盘上设有均匀布置的至少2个研磨辊，所述辅助磨盘上面的区域形成所述研磨区； 所述回料管的数量与所述研磨辊的数量相同，所有所述回料管均匀布置，每个所述研磨辊 的前方设置一根所述回料管。5. 根据权利要求1所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所述立式辊磨设有 均匀布置的至少2个粉碎辊、均匀布置的至少2个研磨辊和1个磨盘，在所述磨盘的粉磨区 中部设有隔环，所述隔环将所述磨盘的粉磨区分成位于内侧的破碎区和位于外侧的所述研 磨区，所有所述粉碎辊均设置在所述破碎区内，所有所述研磨辊均设置在所述研磨区内；所 述回料管的数量与所述研磨辊的数量相同，所有所述回料管均匀布置，每个所述研磨辊的 前方设置一根所述回料管。6. 根据权利要求4所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所有所述粉磨辊设 有一套加压系统I，所有所述研磨辊设有一套加压系统II。7. 根据权利要求5所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所有所述粉碎辊设 有一套加压系统III，所有所述研磨辊设有一套加压系统IV。8. 根据权利要求2或3所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，在每个所述锥形 粉磨辊的前方30°~45°处设置一根所述回料管。9. 根据权利要求4或5所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，在每个所述研磨 辊的前方30°~45°处设置一根所述回料管。10. 根据权利要求3~5任意一项所述的立式辊磨的分级粉磨结构，其特征在于，所述 磨盘中部采用锥形结构与粉磨区相连。
【专利摘要】本实用新型公开了一种立式辊磨的分级粉磨结构，包括确定在所述立式辊磨的粉磨区内的研磨区和回料管，所述回料管的进口与选粉机的回料口连接，所述回料管的出口与所述研磨区相对。本实用新型通过采用在粉磨区内确定研磨区、在选粉机的回料口上连接回料管，并使回料管的出口与研磨区相对的结构，将制约立式辊磨料层稳定的较细的从选粉机返回的二级物料从新喂料料层中分离出来，喂入研磨区集中研磨，一方面能够确保二级物料的研磨有比较高的效率，另一方面能够改善磨盘上新喂料料层的稳定性，提高新喂料的粉磨效率。综上所述，应用本实用新型的立式辊磨，在磨内不喷水的条件下，能够提高运行的稳定性，提高粉磨效率、改善产品质量、降低电耗。
【IPC分类】B02C15/00
【公开号】CN204865994
【申请号】CN201520396692
【发明人】豆海建, 张雪梅, 赵燕燕, 王伟
【申请人】天津水泥工业设计研究院有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年6月10日