一种柱塞流体机构的制作方法

本发明涉及热能与动力领域，尤其涉及柱塞流体机构。

背景技术：

变排量柱塞流体机构的应用十分广泛，但是排量调整时往往产生柱塞缸内余隙间隙过大，当以气体或气液两相混合物为工质时，余隙间隙严重影响效率，不仅如此，当两个以上这类机构配合工作时，结构和连接管路复杂。因此，需要发明一种新的柱塞流体机构。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本发明提出的技术方案如下：

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体和对应结构体，所述摆控结构体与所述对应结构体经柱塞关联对应设置，所述摆控结构体受控制机构控制，所述摆控结构体摆动调控时在所述对应结构体的中心线方向上联动所述对应结构体。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体和对应结构体，所述摆控结构体与所述对应结构体经柱塞关联对应设置，所述摆控结构体受控制机构控制，所述对应结构体在所述对应结构体的中心线方向上位置可调设置和/或所述摆控结构体在所述摆控结构体的中心线方向上位置可调设置。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体和对应结构体，所述摆控结构体与所述对应结构体经柱塞关联对应设置，所述摆控结构体受控制机构控制，所述摆控结构体的摆控圆心与所述对应结构体的中心线非相交设置。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体和对应结构体，所述摆控结构体与所述对应结构体经柱塞关联对应设置，所述摆控结构体受控制机构控制，所述控制机构设为正离心控制机构或设为负离心控制机构。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体a、对应结构体a、摆控结构体b和对应结构体b，所述摆控结构体a与所述对应结构体a经柱塞a关联对应设置，所述摆控结构体b与所述对应结构体b经柱塞b关联对应设置，所述摆控结构体a与所述摆控结构体b对应配合设置，所述摆控结构体a受控制机构控制，所述摆控结构体b受控制机构控制。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体a、对应结构体a、摆控结构体b和对应结构体b，所述摆控结构体a与所述对应结构体a经柱塞a关联对应设置，所述摆控结构体b与所述对应结构体b经柱塞b关联对应设置，所述摆控结构体a与所述摆控结构体b对应配合设置，所述摆控结构体a和所述摆控结构体b受控制机构控制。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体a、对应结构体a、摆控结构体b和对应结构体b，所述摆控结构体a与所述对应结构体a经柱塞a关联对应设置，所述摆控结构体b与所述对应结构体b经柱塞b关联对应设置，所述摆控结构体a与所述摆控结构体b经摆控结构体座对应配合设置，所述摆控结构体座受控制机构控制。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体a、对应结构体a、摆控结构体b和对应结构体b，所述摆控结构体a与所述对应结构体a经柱塞a关联对应设置，所述摆控结构体b与所述对应结构体b经柱塞b关联对应设置，所述摆控结构体a与所述摆控结构体b经摆控结构体摆控联动件对应配合设置，所述摆动结构体a和/或所述摆动结构体b受控制机构控制，或所述摆控结构体摆控联动件受控制机构控制。

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体a、对应结构体a、摆控结构体b和对应结构体b，所述摆控结构体a与所述对应结构体a经柱塞a关联对应设置，所述摆控结构体b与所述对应结构体b经柱塞b关联对应设置，所述摆控结构体a与所述摆控结构体b一体化设置、联动设置或相互配合设置，所述摆控结构体a和所述摆控结构体b受控制机构控制。

在设有所述柱塞a和所述柱塞b的结构中，进一步可选择地设置所述柱塞a对应的排量增大时，所述柱塞b对应的排量减小，或者说进一步可选择地设置所述摆控结构体a的摆控角设为正角时所述摆控结构体b的摆控角设为负角。

在上述所有设有所述柱塞a和所述柱塞b的结构中，进一步可选择地在所述对应结构体a的中心线和所述对应结构体b的中心线之间设有夹角。

在上述所有设有所述柱塞a和所述柱塞b的结构中，进一步可选择地在包括所述柱塞a的柱塞缸和所述柱塞b的柱塞缸的流体回路上设工质导出口和/或导入口。

在上述所有设有所述柱塞a和所述柱塞b的结构中，进一步可选择地设置所述摆控结构体a摆动调控时在所述对应结构体a的中心线方向上联动所述对应结构体a和/或所述摆控结构体b摆动调控时在所述对应结构体b的中心线方向上联动所述对应结构体b，或进一步可选择地设置所述对应结构体a在所述对应结构体a的中心线方向上位置可调设置和/或所述摆控结构体a在所述摆控结构体a的中心线方向上位置可调设置；和/或所述对应结构体b在所述对应结构体b的中心线方向上位置可调设置和/或所述摆控结构体b在所述摆控结构体b的中心线方向上位置可调设置，或进一步可选择地设置所述摆控结构体a的摆控圆心与所述对应结构体a的中心线非相交设置和/或所述摆控结构体b的摆控圆心与所述对应结构体b的中心线非相交设置。

在上述所有结构中，进一步可选择地将所述控制机构设为机械控制机构、液压控制机构、气压控制机构、电磁控制机构、正离心控制机构或设为负离心控制机构。

在上述所有结构中，进一步可选择地将所述柱塞流体机构的工质设为液体、气体、气液两相混合物、临界态流体、超临界态流体或设为超超临界态流体，或进一步可选择地将所述柱塞流体机构的工质设为气体、气液两相混合物、临界态流体、超临界态流体或设为超超临界态流体，并设置所述柱塞流体机构的回路内的底压设为大于等于0.1mpa、0.2mpa、0.3mpa、0.4mpa、0.5mpa、0.6mpa、0.7mpa、0.8mpa、0.9mpa、1.0mpa、1.5mpa、2.0mpa、2.5mpa、3.0mpa、3.5mpa、4.0mpa、4.5mpa、5.0mpa、5.5mpa、6.0mpa、6.5mpa、7.0mpa、7.5mpa、8.0mpa、8.5mpa、9.0mpa、9.5mpa或大于等于10.0mpa。

在上述所有结构中，进一步可选择地将所述柱塞流体机构的回路内的工质的分子量大于等于30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、100、105、110、115、120、125或大于等于130。

在上述所有结构中，进一步可选择地将所述柱塞流体机构的回路内的工质的绝热指数小于等于1.67、1.66、1.64、1.62、1.60、1.58、1.56、1.54、1.52、1.50、1.48、1.46、1.44、1.42、1.4、1.38、1.36、1.34、1.32、1.30、1.28、1.26、1.24、1.22、1.20、1.18、1.16、1.14、1.12、1.10、1.08、1.06、1.04或小于等于1.02。

在上述没有限定工质性能的所有结构中，进一步可选择地将所述柱塞流体机构的工质设为空气、氮气、二氧化碳、甲烷、乙烷、丙烷、氟利昂或设为六氟化硫。

在上述所有结构中，进一步可选择地设置所述柱塞流体机构还包括润滑回路。

在上述设有所述润滑回路的所有结构中，进一步可选择地设置所述润滑回路包括从工质中分离出润滑剂的分离机构。

在上述设有所述润滑回路的所有结构中，进一步可选择地设置所述润滑回路还设有润滑剂加压机构。

本发明中，所谓的“摆控结构体”是指通过倾摆实现排量调整的结构体，例如，斜盘柱塞流体机构中的斜盘，斜轴流体机构中的配流盘，等等。

本发明中，在某一部件名称后加所谓的“a”、“b”仅是为了区分两个名称相同的部件。

本发明中，所谓的“正离心控制机构”是指使得当离心力增大时摆控结构体倾角增大、流量增大的控制机构。

本发明中，所谓的“负离心控制机构”是指使得当离心力增大时摆控结构体倾角减小、流量减小的控制机构。

本发明中，所谓“底压”是指容积空间内处于静止状态的压力，即容积内不存在压力差状态下的气体压力。

本发明中涉及到的压力，例如所述底压，均为表压压强。

本发明中，可选择性地选择，在描述角度时使用的所谓的“正”、“负”是互为参照定义的，当确定一个方向为“正”时，相对的另一个方向即为“负”，例如左为正，则右为负。

本发明中，可选择性地选择，所述柱塞包括活塞。

本发明中，所述柱塞的柱塞缸选择性地选择设置在所述摆控结构体上或与所述摆控结构体一体化设置。

本发明中，所述柱塞的柱塞缸选择性地选择设置在所述对应结构体上或与所述对应结构体一体化设置。

本发明中，所述柱塞流体机构的动力轴选择性地选择与所述摆控结构体、所述对应结构体、所述柱塞或所述柱塞的柱塞缸联动设置。

本发明中，可选择性地选择，在工质回路内添加润滑油。

本发明中，可选择性地选择，在工质回路上设冷却器。

本发明中，所谓的“柱塞”是指活动的塞体，包括活塞。

本发明中，所谓的“活塞”是指活动的塞体，包括柱塞。

本发明中，所述柱塞的柱塞杆与活塞杆相同。

本发明中，所述柱塞的柱塞杆与连杆相同。

本发明中，所述活塞的活塞杆与柱塞杆相同。

本发明中，所述活塞的活塞杆与连杆相同。

本发明中，应根据热能和动力领域的公知技术，在必要的地方设置必要的部件、单元或系统等。

本发明的有益效果如下:

本发明的所述柱塞流体机构效率高，结构简单，易调整控制。

附图说明

图1：本发明实施例1的结构示意图；

图2：本发明实施例2的结构示意图；

图3：本发明实施例3的结构示意图；

图4.1：本发明实施例4的结构示意图；

图4.2：本发明实施例4可变换实施方式的结构示意图；

图5：本发明实施例5的结构示意图；

图6：本发明实施例6的结构示意图；

图7：本发明实施例7的结构示意图；

图8：本发明实施例8的结构示意图。

具体实施方式

实施例1

一种柱塞流体机构，如图1所示，包括摆控结构体1和对应结构体2，所述摆控结构体1与所述对应结构体2经柱塞3关联对应设置，所述摆控结构体1受控制机构控制，所述摆控结构体1摆动调控时在所述对应结构体2的中心线方向上联动所述对应结构体2。

实施例2

一种柱塞流体机构，如图2所示，包括摆控结构体1和对应结构体2，所述摆控结构体1与所述对应结构体2经柱塞3关联对应设置，所述摆控结构体1受控制机构控制，所述对应结构体2在所述对应结构体2的中心线方向上位置可调设置，且所述摆控结构体1在所述摆控结构体1的中心线方向上位置可调设置。

作为可变换的实施方式，本发明实施例2还可选择性地选择使所述对应结构体2在所述对应结构体2的中心线方向上位置可调设置，或使所述摆控结构体1在所述摆控结构体1的中心线方向上位置可调设置。

实施例3

一种柱塞流体机构，如图3所示，包括摆控结构体1和对应结构体2，所述摆控结构体1与所述对应结构体2经柱塞3关联对应设置，所述摆控结构体1受控制机构控制，所述摆控结构体1的摆控圆心o与所述对应结构体2的中心线非相交设置。

实施例4

一种柱塞流体机构，如图4.1所示，包括摆控结构体1和对应结构体2，所述摆控结构体1与所述对应结构体2经柱塞3关联对应设置，所述摆控结构体1受控制机构4控制，所述控制机构4设为正离心控制机构。

作为可变换的实施方式，本发明实施例4还可选择性地使所述控制机构设为负离心控制机构(如图4.2所示)。

实施例5

一种柱塞流体机构，如图5所示，包括摆控结构体a11、对应结构体a12、摆控结构体b21和对应结构体b22，所述摆控结构体a11与所述对应结构体a12经柱塞a31关联对应设置，所述摆控结构体b21与所述对应结构体b22经柱塞b32关联对应设置，所述摆控结构体a11与所述摆控结构体b21对应配合设置，所述摆控结构体a11受控制机构41控制，所述摆控结构体b21受控制机构42控制。

实施例6

一种柱塞流体机构，如图6所示，包括摆控结构体a11、对应结构体a12、摆控结构体b21和对应结构体b22，所述摆控结构体a11与所述对应结构体a12经柱塞a31关联对应设置，所述摆控结构体b21与所述对应结构体b22经柱塞b32关联对应设置，所述摆控结构体a11与所述摆控结构体b21对应配合设置，所述摆控结构体a11和所述摆控结构体b21受控制机构43控制。

实施例7

一种柱塞流体机构，如图7所示，包括摆控结构体a11、对应结构体a12、摆控结构体b21和对应结构体b22，所述摆控结构体a11与所述对应结构体a12经柱塞a31关联对应设置，所述摆控结构体b21与所述对应结构体b22经柱塞b32关联对应设置，所述摆控结构体a11与所述摆控结构体b21经摆控结构体座5对应配合设置，所述摆控结构体座5受控制机构控制。

实施例8

一种柱塞流体机构，如图8所示，包括摆控结构体a11、对应结构体a12、摆控结构体b21和对应结构体b22，所述摆控结构体a11与所述对应结构体a12经柱塞a31关联对应设置，所述摆控结构体b21与所述对应结构体b22经柱塞b32关联对应设置，所述摆控结构体a11与所述摆控结构体b21一体化设置，所述摆控结构体a11和所述摆控结构体b21受控制机构控制。

作为可变换的实施方式，本发明实施例8还可选择性地选择使所述摆控结构体a11与所述摆控结构体b21联动设置或相互配合设置。

实施例9

一种柱塞流体机构，包括摆控结构体a11、对应结构体a12、摆控结构体b21和对应结构体b22，所述摆控结构体a11与所述对应结构体a12经柱塞a31关联对应设置，所述摆控结构体b21与所述对应结构体b22经柱塞b32关联对应设置，所述摆控结构体a11与所述摆控结构体b21经摆控结构体摆控联动件对应配合设置，所述摆控结构体a和所述摆控结构体b受控制机构控制。

作为可变换的实施方式，本发明实施例9还可选择性地选择使摆控结构体a和所述摆控结构体b受同一控制机构控制或不同控制机构控制。

作为可变换的实施方式，本发明实施例9还可选择性地选择仅使摆控结构体a受控制机构控制，或仅使所述摆控结构体b受控制机构控制。

作为可变换的实施方式，本发明实施例9还可选择性地使所述摆控结构体摆控联动件受控制机构控制。

作为可变换的实施方式，本发明实施例5至实施例9及其可变换的实施方式均可进一步使所述柱塞a31对应的排量增大时，所述柱塞b32对应的排量减小。

作为可变换的实施方式，本发明实施例5至实施例9及其可变换的实施方式均可进一步使所述摆控结构体a11的摆控角设为正角时，所述摆控结构体b21的摆控角设为负角。

作为可变换的实施方式，本发明实施例5至9及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择使所述对应结构体a12的中心线和所述对应结构体b22的中心线之间设有夹角。

作为可变换的实施方式，本发明实施例5至9及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择在包括所述柱塞a31的柱塞缸和所述柱塞b32的柱塞缸的流体回路上设工质导出口和/或导入口。

作为可变换的实施方式，本发明实施例5至实施例9及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择使所述摆控结构体a11摆动调控时在所述对应结构体a12的中心线方向上联动所述对应结构体a12和/或所述摆控结构体b21摆动调控时在所述对应结构体b22的中心线方向上联动所述对应结构体b22；还可选择性地选择使所述摆控结构体a11摆动调控时在所述对应结构体a12的中心线方向上联动所述对应结构体a12和/或所述摆控结构体b21摆动调控时在所述对应结构体b22的中心线方向上联动所述对应结构体b22；还可选择性地选择使所述对应结构体a12在所述对应结构体a12的中心线方向上位置可调设置和/或所述摆控结构体a11在所述摆控结构体a11的中心线方向上位置可调设置；和/或所述对应结构体b22在所述对应结构体b22的中心线方向上位置可调设置和/或所述摆控结构体b21在所述摆控结构体b21的中心线方向上位置可调设置；还可选择性地选择使所述摆控结构体a11的摆控圆心与所述对应结构体a12的中心线非相交设置和/或所述摆控结构体b21的摆控圆心与所述对应结构体b22的中心线非相交设置。

作为可变换的实施方式，本发明实施例1至实施例9及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择使所述控制机构设为机械控制机构、液压控制机构、气压控制机构、电磁控制机构、正离心控制机构或设为负离心控制机构。

作为可变换的实施方式，本发明前述所有实施方式均可进一步选择性地选择使所述柱塞流体机构的工质设为液体、气体、气液两相混合物、临界态流体、超临界态流体或设为超超临界态流体；还可选择性地选择使所述柱塞流体机构的工质设为空气、氮气、二氧化碳、甲烷、乙烷、丙烷、氟利昂或设为六氟化硫；还可选择性地选择使所述柱塞流体机构的工质设为气体、气液两相混合物、临界态流体、超临界态流体或设为超超临界态流体，所述柱塞流体机构的回路内的底压设为大于等于0.1mpa、0.2mpa、0.3mpa、0.4mpa、0.5mpa、0.6mpa、0.7mpa、0.8mpa、0.9mpa、1.0mpa、1.5mpa、2.0mpa、2.5mpa、3.0mpa、3.5mpa、4.0mpa、4.5mpa、5.0mpa、5.5mpa、6.0mpa、6.5mpa、7.0mpa、7.5mpa、8.0mpa、8.5mpa、9.0mpa、9.5mpa或大于等于10.0mpa；并可再进一步选择性地选择使所述柱塞流体机构的回路内的工质的分子量大于等于30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95、100、105、110、115、120、125或大于等于130，并可更进一步选择性地选择使所述柱塞流体机构的回路内的工质的绝热指数小于等于1.67、1.66、1.64、1.62、1.60、1.58、1.56、1.54、1.52、1.50、1.48、1.46、1.44、1.42、1.4、1.38、1.36、1.34、1.32、1.30、1.28、1.26、1.24、1.22、1.20、1.18、1.16、1.14、1.12、1.10、1.08、1.06、1.04或小于等于1.02。

作为可变换的实施方式，本发明所有实施方式均可进一步使所述柱塞流体机构还包括润滑回路；还可再进一步使所述润滑回路包括从工质中分离出润滑剂的分离机构；还可更进一步使所述润滑回路还设有润滑剂加压机构。

作为可变换的实施方式，本发明所有含有所述柱塞a31和所述柱塞b32的实施方式均可进一步选择性地选择使所述柱塞a31的柱塞缸与所述柱塞b32的柱塞缸配流设置。

显然，本发明不限于以上实施例，根据本领域的公知技术和本发明所公开的技术方案，可以推导出或联想出许多变型方案，所有这些变型方案，也应认为是本发明的保护范围。