本发明涉及动力与传动领域，尤其涉及流体机构。
背景技术：
配流盘与气缸体之间的配合关系决定着带配流盘的流体机构的容积效率与摩擦损失，传统流体机构的配流盘与气缸体之间要么压力过大，要么无法补偿。因此，需要发明一种新型流体机构。
技术实现要素：
为了解决上述问题，本发明提出的技术方案如下：
本发明的流体机构，包括气缸体和配流盘，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受弹性体作用补偿与所述气缸体之间的配合关系。
本发明的流体机构，包括气缸体和配流盘，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受补偿气缸作用补偿与所述气缸体之间的配合关系，所述补偿气缸内充有有压流体。
本发明的流体机构，包括气缸体、斜盘和配流盘，所述气缸体与所述斜盘对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受弹性体作用补偿与所述气缸体之间的配合关系。
本发明的流体机构，包括气缸体、斜盘和配流盘，所述气缸体与所述斜盘对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受补偿气缸作用补偿与所述气缸体之间的配合关系，所述补偿气缸内充有有压流体。
本发明的流体机构，包括气缸体、斜轴和配流盘，所述气缸体与所述斜轴对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受弹性体作用补偿与所述气缸体之间的配合关系。
本发明的流体机构，包括气缸体、斜轴和配流盘，所述气缸体与所述斜轴对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受补偿气缸作用补偿与所述气缸体之间的配合关系，所述补偿气缸内充有有压流体。
进一步选择性地，调整所述弹性体的弹力以优化泄露与摩擦损失之间的关系。
进一步选择性地，调整所述补偿气缸产生的推力以优化泄露与摩擦损失之间的关系。
进一步选择性地，在所述补偿气缸内的活动塞体上设置流体通道。
本发明中，应根据动力和传动领域的公知技术，在必要的地方设置必要的部件、单元或系统等。
本发明的有益效果如下:
本发明所公开的流体机构能够优化配流盘与气缸体之间的配合关系，既能保证配流盘与气缸体之间的补偿，又不至于压力过大，从而大大提高流体机构的容积效率，并降低摩擦损失。
具体实施方式
实施例1
一种流体机构，包括气缸体和配流盘，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受弹性体作用补偿与所述气缸体之间的配合关系。
实施例2
一种流体机构，包括气缸体和配流盘，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受补偿气缸作用补偿与所述气缸体之间的配合关系，所述补偿气缸内充有有压流体。
作为可变换的实施方式，本发明实施例1和实施例2均可进一步选择性地选择使所述流体机构设为包括配流盘的柱塞式流体泵或柱塞式流体马达。
实施例3
一种流体机构，包括气缸体、斜盘和配流盘，所述气缸体与所述斜盘对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受弹性体作用补偿与所述气缸体之间的配合关系。
实施例4
一种流体机构，包括气缸体、斜盘和配流盘，所述气缸体与所述斜盘对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受补偿气缸作用补偿与所述气缸体之间的配合关系，所述补偿气缸内充有有压流体。
作为可变换的实施方式，本发明实施例3和实施例4可选择性地选择设为包括斜盘和配流盘的柱塞式流体泵或柱塞式流体马达。
实施例5
一种流体机构，包括气缸体、斜轴和配流盘，所述气缸体与所述斜轴对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受弹性体作用补偿与所述气缸体之间的配合关系。
实施例6
一种流体机构，包括气缸体、斜轴和配流盘，所述气缸体与所述斜轴对应设置，所述气缸体与所述配流盘配合设置，所述配流盘轴向可位移设置，所述配流盘受补偿气缸作用补偿与所述气缸体之间的配合关系，所述补偿气缸内充有有压流体。
作为可变换的实施方式，本发明实施例5和实施例6均可进一步选择性地选择设为包括气缸体、斜轴和配流盘的柱塞式流体泵或柱塞式流体马达。
作为可以变换的实施方式，本发明所有设有所述弹性体的实施方式中，均可选择性地通过调整所述弹性体的弹力以优化泄露与摩擦损失之间的关系。
作为可以变换的实施方式，本发明所有设有所述补偿气缸的实施方式中，均可选择性地调整所述补偿气缸产生的推力以优化泄露与摩擦损失之间的关系。
作为可以变换的实施方式，本发明所有设有所述补偿气缸的实施方式中，均可选择性地在所述补偿气缸内的活动塞体上设置流体通道。
本发明中，所谓的“斜轴”是指轴的中心线相对所述气缸体的轴线非共线且非平行设置。
作为可变换的实施方式，本发明实施例1至实施例6及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择使所述流体机构的工质设为气体、液体或气液两相混合物。当所述工质设为气体或气液两相混合物时，可进一步选择性地选择使所述流体机构的回路内的底压设为大于等于0.1MPa、0.2MPa、0.3MPa、0.4MPa、0.5MPa、0.6MPa、0.7MPa、0.8MPa、0.9MPa、1.0MPa、1.5MPa、2.0MPa、2.5MPa、3.0MPa、3.5MPa、4.0MPa、4.5MPa、5.0MPa、5.5MPa、6.0MPa、6.5MPa、7.0MPa、7.5MPa、8.0MPa、8.5MPa、9.0MPa、9.5MPa或大于等于10.0MPa；还可更进一步选择性地选择使所述流体机构的回路内的工质的绝热指数小于等于1.60、1.58、1.56、1.54、1.52、1.50、1.48、1.46、1.44、1.42、1.4、1.38、1.36、1.34、1.32、1.30、1.28、1.26、1.24、1.22、1.20、1.18、1.16、1.14、1.12、1.10、1.08、1.06、1.04或小于等于1.02。
显然，本发明不限于以上实施例，根据本领域的公知技术和本发明所公开的技术方案，可以推导出或联想出许多变型方案，所有这些变型方案，也应认为是本发明的保护范围。