处设有挡板2357，所述挡板2357沿远离所述定容器2333方向朝中间倾斜设置，用于缓冲通过所述定容器2333的电解质原料。而且，所述挡板2357是铁质材料制备而成。
[0032]所述滚筒237包括筒体2371和多个刮板2373，所述多个刮板2373焊接于所述筒体2371的表面，形成多个均匀分布的凹槽结构。而且，所述筒体2371和所述多个刮板2373均为铁质材料制备而成。
[0033]所述滚筒237整体为圆筒形结构，并设于所述下料槽235的内部。其中，所述滚筒237位于所述上料口 2351和所述下料口 2353之间。所述滚筒237固定于所述电解槽下料系统230的外壁，并可以绕所述滚筒237的轴线而旋转。而且，所述滚筒237设于所述上料口 2351的正下方，所述滚筒237的轴线与所述上料口 2351的中心线垂直但不相交。为了保证从所述上料口 2351进入的电解质原料全部落至所述滚筒237的表面，所述滚筒237的半径不小于所述上料口 2351的宽度。
[0034]如果所述电解质原料从所述定容器2333落入所述上料口 2351，则所述电解质原料经所述挡板2357缓冲后落至所述滚筒237表面的凹槽结构内，并在所述滚筒237旋转带动下落入所述下料口 2353，并经所述下料管2355进入所述电解槽210。当然，在其他可替代实施例中，所述滚筒237也可以由电机或其他动力装置驱动，并且还可以预先设定所述滚筒237的转速以调节所述电解质原料的下料速度。
[0035]在所述电解槽系统200的运行过程中，所述定量下料器233将所述电解质原料打入所述定容器2333中，用于所述电解质原料的精确定量控制。所述定容器2333内存储设定量的电解质原料后，所述电解质原料通过所述下料槽235的上料口 2351进入所述下料槽235 中。
[0036]在所述下料槽235中，所述电解质原料首先经所述挡板2357缓冲，并经所述挡板2357引导精准落入所述滚筒237表面的凹槽结构内，所述滚筒237受到所述电解质原料的作用力后开始旋转。随着所述滚筒237的旋转，所述电解质原料依次流入所述滚筒237表面的凹槽结构内。并且，当所述滚筒237旋转一定角度后，所述凹槽结构内的电解质原料依次自动流出，然后经所述下料口 2353流入所述下料管2355，最后流入所述电解槽210内。
[0037]在所述电解质原料进入所述滚筒237表面的凹槽结构内的过程中，初始时，由于电解质原料的流入量比较大，则所述滚筒237的旋转速度就比较快，因此所述电解质原料进入所述电解槽210内的下料速度就比较快；接近结束时，所述电解质原料的流入量比较小，则所述滚筒237的旋转速度就比较慢，因此所述电解质原料进入所述电解槽210内的下料速度就比较慢。如此，所述电解质原料进入所述电解槽210内便可实现先快后慢的下料速度，不仅降低了发生堵料的概率，还符合所述电解槽210对所述电解质原料溶解速度先快后慢的特性。
[0038]而且，所述电解质原料经推动所述滚筒237旋转后进入所述电解槽210内，还可以延长所述电解质原料的下料时间，实现所述电解质原料连续缓慢加入所述电解槽210内，使所述电解质原料获得充足的时间溶解，从而减少槽底沉淀的形成，降低槽底压降，且还减小下料前后所述电解槽210内电解质溶液浓度波动和所述电解槽210的温度波动，进而提高电流效率，降低能耗。
[0039]进一步地，所述电解质原料经所述下料管2355进入所述电解槽210，而且不撞击所述打壳头239，减少了所述电解质原料的飘扬损失，提高了所述电解质原料的下料精准度，降低了效应系数。
[0040]相较于现有技术，本发明提供的电解槽系统200的电解槽下料系统230中，在所述下料槽235的上料口 2351处设置挡板2357以缓冲进入所述下料槽235的电解质原料，从而减少了所述电解质原料的飘扬损失，提高了所述电解质原料的下料精准度，降低了效应系数。
[0041]而且，在所述下料槽235内部设置有表面具有凹槽结构的滚筒237，所述电解质原料经推动所述滚筒237旋转后进入所述电解槽210内，如此，所述电解质原料进入所述电解槽210内便可实现先快后慢的下料速度，不仅降低了发生堵料的概率，还符合所述电解槽210对所述电解质原料溶解速度先快后慢的特性。同时，所述滚筒237还可以延长所述电解质原料的下料时间，实现所述电解质原料连续缓慢加入所述电解槽210内，使所述电解质原料获得充足的时间溶解，从而减少槽底沉淀的形成，降低槽底压降，减小下料前后所述电解槽210内电解质溶液浓度波动和所述电解槽210的温度波动，进而提高电流效率，降低能耗。
[0042]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种电解槽下料系统，其包括料箱、定容下料器和下料槽，所述料箱收容电解质原料，所述定容下料器部分收容于所述料箱，所述定容下料器将所述料箱收容的电解质原料输出到所述下料槽，所述下料槽设于所述料箱的下方，所述下料槽包括上料口和下料口，所述上料口位于所述定容下料器的下方，并接收通过所述定容下料器提供的电解质原料；其特征在于，所述下料槽内部设有滚筒，所述滚筒位于所述上料口和所述下料口之间，所述滚筒的表面形成有凹槽结构，所述电解质原料经所述上料口落入所述滚筒的凹槽结构内。2.根据权利要求1所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述滚筒包括筒体和多个刮板，所述多个刮板焊接于所述筒体表面形成均匀分布的所述凹槽结构。3.根据权利要求2所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述滚筒绕其旋转轴线作旋转运动，且所述滚筒的旋转轴线与所述上料口的中心线异面垂直。4.根据权利要求3所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述滚筒固定于所述电解槽下料系统的外壁。5.根据权利要求4所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述滚筒整体为圆筒形。6.根据权利要求5所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述滚筒由铁质材料制备而成。7.根据权利要求1所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述上料口设有挡板，所述电解质原料经所述挡板缓冲后落入所述滚筒的凹槽结构内，并带动所述滚筒旋转。8.根据权利要求7所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述挡板沿远离所述定容器方向中间倾斜设置。9.根据权利要求1所述的电解槽下料系统，其特征在于，所述电解槽下料系统还包括打壳头，所述打壳头设于所述下料槽的外侧，并固定于所述电解槽下料系统的外壁。10.一种电解槽系统，包括电解槽及电解槽下料系统，所述电解槽下料系统设于所述电解槽槽体的顶部，并向所述电解槽槽体加入电解质原料，其特征在于，所述电解槽下料系统是所述权利要求1-9任一所述的电解槽下料系统。
【专利摘要】本发明提供一种电解槽下料系统和电解槽系统。所述电解槽下料系统包括料箱、定容下料器和下料槽，所述料箱收容电解质原料，所述定容下料器部分收容于所述料箱，所述定容下料器将所述料箱收容的电解质原料输出到所述下料槽，所述下料槽设于所述料箱的下方，所述下料槽包括上料口和下料口，所述上料口位于所述定容下料器的下方，并接收通过所述定容下料器提供的电解质原料；所述下料槽内部设有滚筒，所述滚筒位于所述上料口和所述下料口之间，所述滚筒的表面形成有凹槽结构，所述电解质原料经所述上料口落入所述滚筒的凹槽结构内。本发明还提供一种使用所述电解槽下料系统的电解槽系统。
【IPC分类】C25C3/14, C25C7/00
【公开号】CN105063666
【申请号】CN201510545563
【发明人】周兴华, 章宣, 洪波, 敬叶灵
【申请人】湖南创元铝业有限公司
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年8月31日