本实用新型涉及工业轴承技术领域，尤其是涉及一种新型双列圆锥滚子轴承。
背景技术：
公知的，目前轧机工作辊、支撑辊使用常规结构的止推轴承为双列圆锥滚子轴承，各类轧机受辊径强度和最小可扎厚度的影响，工作辊轴承只能选用小径向尺寸大宽度的双列圆锥滚子轴承，但是，这类轴承对轴径的偏斜十分敏感，而且轴承自身又不具备相应的适应能力，由于轧辊为弹性体，受载弯曲是不可避免的，因而轧机轴承中的偏载行为成为一种必然，由于轧辊受偏载弯曲所产生的应力，集中作用在靠近辊身一侧的轴承的内径靠近端面位置，不但容易造成轴承的两列滚子受载不均匀、接触载荷增大，而且轴承的滚道也会经常发生大面积剥落、烧伤、变形等等失效情况，极大的缩短了轴承的可靠性和使用寿命。
技术实现要素：
为了克服背景技术中的不足，本实用新型公开了一种新型双列圆锥滚子轴承，本实用新型通过在外圈上设置外隔圈，外圈内设有保持架，保持架内设有内圈，内圈的内径两端靠近端面处设为斜坡，以此来达到有效分散轴承的应力集中，大幅提高轴承使用寿命，提高轴承的可靠性和生产效率的目的。
为了实现所述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种新型双列圆锥滚子轴承，包括外隔圈、外圈、保持架、滚子和内圈，在外圈上设有外隔圈，外圈由第一外圈和第二外圈构成，第一外圈和第二外圈内分别设有第一保持架和第二保持架，保持架上设有滚子，保持架内设有内圈，内圈的内径靠近端面处设为斜坡。
所述外圈为圆柱型结构，外圈由第一外圈和第二外圈构成，第一外圈和第二外圈呈对称结构进行设置，两个外圈由外隔圈隔开设置，第一外圈的端面和第二外圈的端面分别与外隔圈的两个端面相连接，第一外圈和第二外圈内分别设有第一保持架和第二保持架。
所述第一保持架和第二保持架均为为圆柱型架构，第一保持架和第二保持架呈对称结构进行设置，两个保持架上均匀设有若干个滚子，保持架内设有内圈。
所述滚子为圆柱型结构，滚子的表面与内圈表面相接触。
所述内圈为圆柱型双滚道结构，内圈的两个滚道分别与第一保持架和第二保持架相对应，内圈的内径两端靠近端面处设为3°-5°的斜坡。
所述斜坡为弧形结构，斜坡的尺寸为内圈总内径尺寸的16%-20%。
由于采用了上述技术方案，本实用新型具有如下有益效果：
本实用新型所述的一种新型双列圆锥滚子轴承，包括外隔圈、外圈、保持架、滚子和内圈，通过在外圈上设置外隔圈，外圈内设有保持架，保持架内设有内圈，内圈的内径两端靠近端面处设为斜坡，以此来达到提高轴承使用寿命、可靠性和生产效率的目的；本实用新型结构简单、操作便捷，不但可以有效分散轴承的应力集中，大幅提高轴承使用寿命，而且可以降低轴承的维修开支和生产成本，极大的提高了轴承的可靠性和生产效率。
【附图说明】
图1为本实用新型的剖面结构示意图；
图中：1、外隔圈；2、第一外圈；3、滚子；4、第一保持架；5、斜坡；6、内圈；7、第二外圈；8、第二保持架。
【具体实施方式】
通过下面的实施例可以详细的解释本实用新型，公开本实用新型的目的旨在保护本实用新型范围内的一切技术改进。
结合附图1所述的一种新型双列圆锥滚子轴承，包括外隔圈1、外圈、保持架、滚子3和内圈6，在外圈上设有外隔圈1，外圈由第一外圈2和第二外圈7构成，第一外圈2和第二外圈7内分别设有第一保持架4和第二保持架8，保持架上设有滚子3，保持架内设有内圈6，内圈6的内径靠近端面处设为斜坡5。
所述外圈为圆柱型结构，外圈由第一外圈2和第二外圈7构成，第一外圈2和第二外圈7呈对称结构进行设置，两个外圈由外隔圈1隔开设置，第一外圈2的端面和第二外圈7的端面分别与外隔圈1的两个端面相连接，第一外圈2和第二外圈7内分别设有第一保持架4和第二保持架8。
所述第一保持架4和第二保持架8均为为圆柱型架构，第一保持架4和第二保持架8呈对称结构进行设置，两个保持架上均匀设有若干个滚子3，保持架内设有内圈6。
所述滚子3为圆柱型结构，滚子3的表面与内圈6表面相接触。
所述内圈6为圆柱型双滚道结构，内圈6的两个滚道分别与第一保持架4和第二保持架8相对应，内圈6的内径两端靠近端面处设为3°-5°的斜坡5。
所述斜坡5为弧形结构，斜坡5的尺寸为内圈6总内径尺寸的16%-20%。
实施本实用新型所述的一种新型双列圆锥滚子轴承，在使用时，先将内圈6的内径两端靠近端面处打造为斜坡5，然后将滚子3分别按压进入第一保持架4和第二保持架8中，将第一外圈2、外隔圈1和第二外圈7连接好，再将外圈、保持架和内圈6连接在一起就可以了，在轴承使用过程中，轴承工作时由于内圈6的斜坡5设计就可以均匀的分散轴承所受的应力，这样就可以有效的降低轴承损坏率，从而降低维修成本，提高轴承的工作效率。
本实用新型未详述部分为现有技术，尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型，具体实现该技术方案方法和途径很多，以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，但所属领域的技术人员应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内，在形式上和细节上可以对本实用新型做出各种变化，均为本实用新型的保护范围。