一种抗高压组合泛塞密封圈的制作方法

文档序号:11193096阅读:1078来源:国知局
一种抗高压组合泛塞密封圈的制造方法与工艺

本实用新型涉及密封装置领域,特别是涉及一种抗高压组合泛塞密封圈。



背景技术:

近年来随着石油、页岩气的快速发展,在超低温行业如LNG、LPG、LEG等,一般要求设备的耐低温性能在-196°C~120°C之间,压力最高可达200Mpa。因此对超低温设备如闸阀、止回阀、球阀等的可靠性、适应性、稳定性和密封性要求也越来越高。

密封圈做为超低温设备一个不可或缺的主要部件,对超低温设备可靠性、稳定性的保证起着重要作用。而目前国内外超低温设备密封的设计主要依据API-6D-2008和英国BS6364标准来执行。市面上各类密封圈在超低温设备下使用时容易导致气体泄漏,密封效果不佳,虽然许多厂家对密封的结构和材料性能进行了优化、改进,取得了一些成效,但并未达到超低温设备所需的条件,因此研究开发低温阀门密封件,是大科学工程等科研装备应用和发展的重要保证,具有非常重要的科学和实际意义。

现有的密封圈在超低温设备中遭受压力时,容易挤入设备空隙内造成密封圈损坏。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种能更好的适应超低温环境且不易损坏的抗高压组合泛塞密封圈。

本实用新型所采取的技术方案是:

一种抗高压组合泛塞密封圈,包括一内部设有弹簧圈的密封壳和至少一密封挡圈,密封挡圈位于密封壳的内周或者外周,密封挡圈的横截面设有一相对径向倾斜的密封圈斜面,密封壳包括位于外部且顶端开口的壳体和位于壳体的开口内的弹簧圈,密封挡圈上的密封圈斜面与密封壳的壳体表面或者另一密封挡圈上的密封圈斜面接触。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,弹簧圈包括内弹簧和包裹于内弹簧外的外弹簧。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,壳体包括位于上部的U型开口和位于U型开口下方的壳底座。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,壳体为PTFE材质。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,壳底座的底部设有一与密封圈斜面倾斜角度相同的壳底斜面,密封圈斜面与壳底斜面相对设置。

进一步作为本实用新型技术方案的改进,壳底座的底部为水平设置,位于壳底座的底部设有相对设置的两密封挡圈,两密封挡圈的密封圈斜面相对设置。

本实用新型的有益效果:此抗高压组合泛塞密封圈通过密封壳和至少一密封挡圈组合形成,并使得组合形成的密封圈中,各组合件中至少存在一沿径向的斜面接触,从而在组合密封圈遭受挤压时,能通过密封挡圈间或者密封挡圈与密封壳之间的相对滑动来泄压,并增加组合密封圈的相对宽度,防止各组合件被挤入设备空隙内,从而更适应超低温工作环境,且达到更好的使用寿命。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明:

图1是本实用新型第一实施例剖面结构示意图;

图2是本实用新型第二实施例剖面结构示意图;

图3是本实用新型各实施例中密封壳结构示意图。

具体实施方式

参照图1~图3,本实用新型为一种抗高压组合泛塞密封圈,包括一内部设有弹簧圈1的密封壳2和至少一密封挡圈3,密封挡圈3位于密封壳2的内周或者外周,密封挡圈3的横截面设有一相对径向倾斜的密封圈斜面31,密封壳2包括位于外部且顶端开口的壳体21和位于壳体21的开口内的弹簧圈1,密封挡圈3上的密封圈斜面31与密封壳2的壳体21表面或者另一密封挡圈3上的密封圈斜面31接触。

此抗高压组合泛塞密封圈通过密封壳2和至少一密封挡圈3组合形成,并使得组合形成的密封圈中,各组合件中至少存在一沿径向的斜面接触,从而在组合密封圈遭受挤压时,能通过密封挡圈3间或者密封挡圈3与密封壳2之间的相对滑动来泄压,并增加组合密封圈的相对宽度,防止各组合件被挤入设备空隙内,从而更适应超低温工作环境,且达到更好的使用寿命。

作为本实用新型优选的实施方式,弹簧圈1包括内弹簧12和包裹于内弹簧12外的外弹簧11。

内弹簧12和外弹簧11复合制作的弹簧圈1为组合密封圈提供预紧力,通过密封挡圈3与壳体21设计为三角配合面或者双密封挡圈3件的斜面配合达到阀门在-196℃低温,压力42Mpa状态下防止密封件挤出现象,实现密封效果,填补了国内密封行业内泛塞高压密封的空白。

弹簧圈1在密封状态时压缩变形,利用其回弹性提供密封应力,材料为耐低温合金弹簧,O型螺旋状。弹簧为双层结构,经过液氮深冷处理,内外层采用特殊工艺焊接。

作为本实用新型优选的实施方式,壳体21包括位于上部的U型开口和位于U型开口下方的壳底座22。

作为本实用新型优选的实施方式,壳体21为PTFE材质。

作为本实用新型优选的实施方式,壳底座22的底部设有一与密封圈斜面31倾斜角度相同的壳底斜面,密封圈斜面31与壳底斜面相对设置。

作为本实用新型优选的实施方式,壳底座22的底部为水平设置,位于壳底座22的底部设有相对设置的两密封挡圈3,两密封挡圈3的密封圈斜面31相对设置。

组合密封圈内斜面接触的设置可通过以上两种形式实现,密封壳2上设置了壳底斜面的壳底座22与单个的密封挡圈3间的接触形式,或者未设置壳底斜面的密封壳2与两密封圈斜面31相对设置的密封挡圈3的设置形式,均在本专利的保护范围内。

当然,本发明创造并不局限于上述实施方式,熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可作出等同变形或替换,这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

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