一种细胞免疫化学染色装置的制作方法

文档序号:11478989阅读:537来源:国知局
一种细胞免疫化学染色装置的制造方法

本实用新型主要涉及细胞生物学研究领域,具体说是一种适合于细胞爬片进行免疫化学染色的玻璃装置。



背景技术:

免疫细胞化学染色是细胞培养过程中用来检测所培养细胞或细胞分化的特异性标记物的必要环节,该过程多涉及到一些价格昂贵的试剂如单克隆一抗及被标记的二抗。目前我们进行免疫细胞化学染色时多是将爬有细胞的载玻片置于孔板中进行,为了保证所用试剂能充分覆盖细胞爬片,至少需要使用2ml稀释后的一抗或二抗,而且所用的孔培养板多为一次性的,不能重复使用,明显增加了实验的成本。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种细胞免疫化学染色装置,以解决上述背景技术中提出目前我们进行免疫细胞化学染色时多是将爬有细胞的载玻片置于孔板中进行,为了保证所用试剂能充分覆盖细胞爬片,至少需要使用2ml稀释后的一抗或二抗,而且所用的孔培养板多为一次性的,不能重复使用,明显增加了实验的成本等问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种细胞免疫化学染色装置,其结构包括:密封盖、玻璃器皿、方形凹槽、载玻片、圆形凹槽;所述密封盖和玻璃器皿均为长方形结构设计,所述密封盖一侧立边的下边缘位置的左右两侧通过合页与玻璃器皿相连接,所述玻璃器皿内设有六个容纳载玻片的方形凹槽,所述六个方形凹槽呈两行三竖排列,所述六个方形凹槽的底部一侧边中点处均设有一个直径约为1mm的圆形凹槽,所述方形凹槽的内壁高为0.5cm。

所述六个方形凹槽的外观形状和大小相同。

所述密封盖长度和宽度与玻璃器皿的长度和宽度相同。

所述载玻片的长度和宽度和高度与方形凹槽的长度、宽度和高度相一致。

所述玻璃器皿为树脂玻璃材质。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型新颖独特,很好的满足了其使用需求,解决了目前我们进行免疫细胞化学染色时多是将爬有细胞的载玻片置于孔板中进行,为了保证所用试剂能充分覆盖细胞爬片,至少需要使用2ml稀释后的一抗或二抗,而且所用的孔培养板多为一次性的,不能重复使用,明显增加了实验的成本等问题,通过将载玻片置于与其大小接近的玻璃装置内进行爬片、培养,当细胞生长至合适融合度时再进行染色,这样即便于操作又可节省试剂,从而降低了实验成本。

附图说明

图1为本实用新型俯视结构示意图;

图2为本实用新型局部内部结构示意图;

图中:1密封盖、2玻璃器皿、3方形凹槽、4载玻片、5圆形凹槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2,本实用新型提供的一种实施例:一种细胞免疫化学染色装置,结构包括:密封盖1、玻璃器皿2、方形凹槽3、载玻片4、圆形凹槽5;所述密封盖1和玻璃器皿2均为长方形结构设计,所述密封盖1一侧立边的下边缘位置的左右两侧通过合页与玻璃器皿2相连接,所述玻璃器皿2内设有六个容纳载玻片4的方形凹槽3,所述六个方形凹槽3呈两行三竖排列,所述六个方形凹槽3的底部一侧边中点处均设有一个直径约为1mm的圆形凹槽,所述方形凹槽3的内壁高为0.5cm,所述六个方形凹槽3的外观形状和大小相同,所述密封盖1长度和宽度与玻璃器皿2的长度和宽度相同,所述载玻片4的长度和宽度和高度与方形凹槽3的长度、宽度和高度相一致,所述玻璃器皿2为树脂玻璃材质。

具体使用方式:本实用新型在使用时实验者可根据自己的需要进行选择。方形凹槽3的内壁高为0.5cm,以容纳足够量的培养基,从而有利于爬片细胞的生长;同时在每个方形凹槽3的底边处设计一个直径约为1mm的圆形凹槽5,以方便镊子将细胞爬片顺利取出,为了给实验者减少不必要的麻烦,该染色装置将根据方形凹槽3的大小设计合适大小的载玻片4及配套的镊子。由于载玻片4的大小与方形凹槽3的大小基本一致,只需小量的试剂即可将载玻片4覆盖,故可节约50%以上的一抗、二抗等试;同时该装置是玻璃制品,可进行灭菌处理,重复使用,本专利产品结构简单、可大大减少实验成本,具有相当好的应用前景,本实用新型新颖独特,很好的满足了其使用需求,通过将载玻片4置于与其大小接近的玻璃装置内进行爬片、培养,当细胞生长至合适融合度时再进行染色,这样即便于操作又可节省试剂,从而降低了实验成本。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

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