一种ZYGO激光干涉仪测量用调节定位夹具的制作方法

本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其涉及一种ZYGO激光干涉仪测量用调节定位夹具。

背景技术：

ZYGO非接触式激光干涉仪是用于精密光学元件的表面面形和透射波阵面等的检测的光学检测仪器。ZYGO非接触式激光干涉仪运用移相干涉原理，能够对高精度的平面面形、球面面形、曲率半径等光学零件进行测量和分析，ZYGO非接触式激光干涉仪能够利用互动图形界面控制仪器，系统操作简单，已广泛被光学器件生产厂家采用。

在使用ZYGO非接触式激光干涉仪对光学零件进行测量和分析时，需要先将光学零件固定在仪器平台上的测量定位夹具上，由于生产时光学零件的规格种类比较多、每个光学零件可能需要测量光学零件中的几个位置点，因此在测量时需要经常调节放置光学零件的测量定位夹具的三个轴向的位置，而ZYGO非接触式激光干涉仪配备一般都是固定式的测量定位夹具，现有技术只能采用增减垫块或手动移位摆位等方式进行调节，这种调节方式比较难以快速调整到位，在测量时需要花费较多的定位调整时间，需要进一步改进。

技术实现要素：

为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种操作方便、定位精度高、调节测量效率高的ZYGO激光干涉仪测量用调节定位夹具。

本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种ZYGO激光干涉仪测量用调节定位夹具，包括放置ZYGO激光干涉仪的测试平台，所述测试平台上设有一个便于放置待测量光学零件的固定夹具，所述固定夹具设于一个三轴调节夹具上，所述固定夹具和三轴调节夹具设于一个防护罩中，所述防护罩中设有一个便于翻转的防护盖，所述三轴调节夹具中设有一个能够调节所述固定夹具与测量光轴夹角的精密旋转台，所述精密旋转台上设有一个能够调节所述固定夹具与测量光轴偏移位置的水平调节平台，所述水平调节平台上设有一个能够调节所述固定夹具垂直高度的高度调节平台，所述精密旋转台中设有螺旋调节旋钮和旋转角度指示刻度盘，所述高度调节平台中设有两个同步螺旋调节旋钮，两个所述同步螺旋调节旋钮分别设于所述高度调节平台的对角线上；将固定夹具和三轴调节夹具包围在防护罩中，避免灰尘积落在固定夹具和三轴调节夹具上，便于保持定位准确性，使用时能够利用精密旋转台、水平调节平台和高度调节平台单独调节待测量光学零件的位置，调节方便准确。

所述固定夹具中设有便于放置圆柱光学零件的V型定位槽，所述V型定位槽的两侧设有便于放置平面光学零件的水平定位面，所述水平定位面上设有限位块；一个固定夹具能够适应放置不同的光学零件，检测时不需要经常更换固定夹具。

所述防护罩中连接有一个防止灰尘积落在所述固定夹具上的洁净吹灰装置。

本实用新型的有益效果是：采用上述结构，通过在ZYGO激光干涉仪的测试平台上设置一个能够调节待测量光学零件与测量光轴夹角、偏移位置和高度位置的三轴调节夹具，三轴调节夹具上设置便于放置圆柱光学零件和平面光学零件的固定夹具，在测量时能够利用三轴调节夹具中的精密旋转台、水平调节平台和高度调节平台单独调节待测量光学零件的位置，调节方便准确，特别适合微量精密调节，调节定位精度高、便于ZYGO激光干涉仪准确测量，调节操作方便、能够调节测量效率、节省测量时间。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：

图1是本实用新型ZYGO激光干涉仪测量用调节定位夹具的结构示意图；

图2是本实用新型固定夹具的结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。

请参阅图1及图2所示，本实用新型ZYGO激光干涉仪测量用调节定位夹具包括放置ZYGO激光干涉仪的测试平台1，所述测试平台1上设有一个便于放置待测量光学零件的固定夹具2，所述固定夹具2设于一个三轴调节夹具3上，所述固定夹具2和三轴调节夹具3设于一个防护罩4中，所述防护罩4中设有一个便于翻转的防护盖41，所述三轴调节夹具3中设有一个能够调节所述固定夹具2与测量光轴夹角的精密旋转台31，所述精密旋转台31上设有一个能够调节所述固定夹具2与测量光轴偏移位置的水平调节平台32，所述水平调节平台32上设有一个能够调节所述固定夹具2垂直高度的高度调节平台33，所述精密旋转台31中设有螺旋调节旋钮311和旋转角度指示刻度盘312，所述高度调节平台33中设有两个同步螺旋调节旋钮331，两个所述同步螺旋调节旋钮331分别设于所述高度调节平台33的对角线上。

所述固定夹具2中设有便于放置圆柱光学零件的V型定位槽21，所述V型定位槽21的两侧设有便于放置平面光学零件的水平定位面22，所述水平定位面22上设有限位块23。

所述防护罩4中连接有一个防止灰尘积落在所述固定夹具2上的洁净吹灰装置5。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。