技术特征：
技术总结
本发明涉及一种用于磁共振成像的高介电常数衬垫结构。具体地，本发明提供了一种用于磁共振成像的高介电常数衬垫，其特征在于，所述高介电常数衬垫包含多个由高介电常数材料形成的长条的阵列，相邻的长条以一定的间隙连接在一起。所述间隙的尺寸为1mm～5mm。所述高介电常数材料为钛酸钡和水的均匀混合物。本发明利用的高介电常数材料衬垫结构解决了混合物分布不均匀的问题，有效缓解了高介电常数材料衬垫在磁共振环境下对电磁场的屏蔽效应，提高了磁共振成像的均匀性。本发明还提供了用于形成所述高介电常数衬垫的方法。这种设计结构制作工艺简便，成本相对低，可根据实际需要进行尺寸扩展。
技术研发人员：李烨;罗超;李柔;陈巧燕;苏适;刘新
受保护的技术使用者：深圳先进技术研究院
技术研发日：2017.12.26
技术公布日：2019.07.02