1.一种基于TEM衍射理论的平面样品的缺陷拍摄方法，其特征是：包括以下步骤：
步骤1：在TEM衍射条件下，倾转试片使双束菊池线(1)对分别通过直射点(2)和衍射点(3)的中心；
步骤2：继续倾转试片，使双束菊池线(1)对向衍射点(3)的方向同步移动，使双束菊池线(1)从直射点(2)和衍射点(3)的中心偏离；
步骤3：在步骤2的衍射条件下，找到缺陷位置并拍摄缺陷的明场像图片。
2.根据权利要求1所述的基于TEM衍射理论的平面样品的缺陷拍摄方法，其特征是：在所述的步骤1中，偏离因子s等于0，此时TEM影像图中样品的缺陷模糊。
3.根据权利要求1所述的基于TEM衍射理论的平面样品的缺陷拍摄方法，其特征是：在所述的步骤2中，偏离因子s大于0，此时TEM影像图中样品的缺陷清晰。
4.根据权利要求1或3所述的基于TEM衍射理论的平面样品的缺陷拍摄方法，其特征是：所述的双束菊池线(1)的偏离范围不超过直射点(2)的半径。