1.一种lspr反射式生物传感芯片，其特征在于，包括具有岛状纳米阵列结构表面的基底和位于所述岛状纳米阵列结构表面的等离子体材料层；
所述岛状纳米阵列结构的单体的垂直于所述基底表面方向的剖面形状为倒梯形或t型。
2.根据权利要求1所述的lspr反射式生物传感芯片，其特征在于，所述岛状纳米阵列结构的单体在平行于所述基底表面的方向的尺寸为50～1000nm，深度为100～1000nm。
3.根据权利要求1所述的lspr反射式生物传感芯片，其特征在于，所述等离子体材料层包括金属单质膜或合金膜；
所述金属单质膜包括金膜、银膜、铝膜和铬膜中的一种或几种；
所述合金膜包括银铝合金或金银合金。
4.根据权利要求1或3所述的lspr反射式生物传感芯片，其特征在于，所述等离子体材料层的厚度为10～500nm。
5.权利要求1～4任一项所述lspr反射式生物传感芯片的制备方法，其特征在于，
(i)当所述岛状纳米阵列结构的单体的垂直于所述基底表面方向的剖面形状为倒梯形时，所述制备方法包括以下步骤：
在基底表面沉积金属，在所述基底表面形成金属反射层；
在所述金属反射层表面涂覆光刻胶，形成光刻胶层；
依次通过sp曝光和显影在所述光刻胶层构建纳米结构；
通过第一刻蚀将所述纳米结构传递至所述金属反射层，第二刻蚀除去残余光刻胶，以光刻胶层和金属反射层作为掩蔽层对基底进行第三刻蚀，然后除去光刻胶层和金属反射层，得到具有岛状倒梯形纳米阵列结构表面的基底；
在所述具有岛状倒梯形纳米结构阵列的表面沉积等离子体材料，得到lspr反射式生物传感芯片；
(ii)当所述岛状纳米阵列结构的单体的垂直于所述基底表面方向的剖面形状为t型时，所述制备方法包括以下步骤：
在基底表面沉积结构材料，在所述基底表面形成结构材料层；
在所述结构材料层表面沉积金属，在所述结构材料层表面形成金属反射层；
在所述金属反射层表面涂覆光刻胶，形成光刻胶层；
依次通过sp曝光和显影在所述光刻胶层构建纳米结构；
通过第四刻蚀将所述纳米结构传递至所述金属反射层，第五刻蚀除去残余光刻胶，以光刻胶层和金属反射层作为掩蔽层对所述结构材料层进行第六刻蚀，以对结构材料层作为掩蔽层对所述基底进行第七刻蚀，然后除去残余的光刻胶层、结构材料层和金属反射层，得到具有岛状t型纳米阵列结构表面的基底；
在所述岛状t型纳米结构阵列的表面沉积等离子体材料，得到lspr反射式生物传感芯片。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，(i)和(ii)中所述金属反射层的厚度独立地为10～500nm。
7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述结构材料包括氧化铝或二氧化硅。
8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，(i)和(ii)中所述光刻胶层的厚度独立地为20～200nm。
9.权利要求1～4任一项所述的lspr反射式生物传感芯片或权利要求5～8任一项所述制备方法得到的lspr反射式生物传感芯片被污染后的重复利用方法，包括以下步骤：
将使用过的lspr反射式生物传感芯片的等离子体材料层去除后再沉积等离子体材料层，得到lspr反射式生物传感芯片。
10.权利要求1～4任一项所述lspr反射式生物传感芯片、权利要求5～8任一项所述制备方法得到的lspr反射式生物传感芯片或权利要求9所述重复利用方法得到的lspr反射式生物传感芯片在食品、药物或环境中微量物质检测的应用。