载玻片染色组件以及盖体部件的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种通常在实验室仪器中使用载玻片染色组件，以用于促进样本在载玻片上自动染色。本发明特别地但并非仅涉及一种配置为可释放地保持盖体部件以用于与载玻片形成反应室的组件，并且涉及一种盖体部件本身。
【背景技术】
[0002]免疫组织化学染色和原位核酸分析是用于组织学诊断和组织形态的研宄中的工具。免疫组织化学染色依赖于抗体与在组织样本中的表位的特定亲合力以及与仅存在于某些类型的病变细胞组织中的独特表位特别结合的抗体的较大可用性。免疫组织化学染色涉及在组织样本(通常是一部分)上进行的一系列处理步骤，该组织样本安装在玻璃载片上，以通过选择性染色来突出疾病状态的某些形态指标。
[0003]典型的处理步骤包括预先处理组织样本，以减少非特异性结合、抗体处理和孵化、酶标记的二次抗体处理和孵化、与酶进行底物反应以产生使具有与抗体结合的表位的组织样本的区域凸显的荧光团或发色团、对比染色等。在每个处理步骤之间，组织样本必须被清洗以从前一个步骤中移除未反应的残余试剂。大部分处理步骤涉及通常在大约25°C直到大约40°C的环境温度下进行的孵化的周期，而细胞调节步骤通常在略微更高的温度(例如，90°C到100°C )下进行。原位DNA分析依赖于探针(DNA结合蛋白)与在细胞或组织样本中的独特的核苷酸序列的特定亲合力，并且类似地涉及具有各种试剂和工艺温度要求的一系列处理步骤。一些特定的反应涉及高达120°C到130°C的温度。
[0004]存在仪器和自动样本处理系统，以用于上文讨论的处理工艺中自动操作一些步骤。然而，涉及使用反应室的当前系统通常造成在试剂施加之间的组织样本干燥。为了补偿，需要持续地对组织样本进行水合。水合溶液在组织样本中的自动施加要求使用仪器的机器人试剂分配系统。由于自动系统中的样本脱水，所以需要在工艺中加入额外的处理步骤，该工艺限制了机器人分配器对在仪器上进行其他反应所需要的实质性的步骤的可用性。
[0005]一些系统被设计成通过在引入试剂的载玻片上使用略微封闭的反应室来减少样本脱水。很多这样的系统依赖于吸水活动，以在组织样本之上吸入试剂。这些系统需要将试剂精确且准确地施加于吸水目标中，以确保试剂一致地并且均匀地流入反应室中。如果系统失去校准，则试剂的施加失去吸水目标。不利的影响可很显著的，并且其引起样本退化、试剂浪费、染色性差、损失仪器时间并且延迟样本处理，这可对患者产生严重的影响。为了避免这种问题，需要合格技术人员进行定期仪器校准，来确保精确的试剂施加、一致的试剂流量以及由此一致的样本染色。
[0006]本发明旨在在现有样本染色系统上改进和/或克服或缓解现有技术的一些问题。
[0007]本发明的包括在本文中的背景讨论(包括文档、作用、材料、装置、物品等的引用)旨在解释本发明的背景。由于任何暂时的权利要求的优先权日期，所以这并非被视为许可或者暗示公布、已知所提及的任何材料或者这些材料是公知常识的一部分。
【发明内容】
[0008]从一个方面看，本发明提供了一种用于对基底(substrate，衬底)上的样本进行处理的样本处理组件，所述组件包括:用于基底的安装表面；以及闭合主体，该闭合主体被配置为可释放地保持盖体部件，该闭合主体可在打开位置与大体上闭合位置之间移动。在基底位于该组件中并且该闭合主体处于大体上闭合位置中同时保持盖体部件时，形成反应室，以用于对样本进行处理。
[0009]在一个优选的实施方式中，组件包括至少一个第一引导件，至少一个第一引导件被配置为在将基底放置在组件中期间，在至少第一方向上限制基底(例如，病理载玻片)的运动。理想地，虽然可采用其他形式，但至少一个第一引导件是在安装表面上的突出部分。优选地，还提供了位于安装表面上的至少一个第二引导件。第二引导件在与第一方向不同的第二方向上限制基底的运动。通常，第一方向设置成与第二方向垂直。理想地，至少一个第二引导件是突出部分，该突出部分成形为与盖体部件中的相应凹口配合。在使用期间，至少一个第二引导件与盖体部件中的相应凹口配合，以用于盖体部件的最佳对准，从而用于与基底表面形成反应室。反应室可由在安装表面上的基底/载玻片或者在适当位置中不具有载玻片的安装表面形成。在前一种布置中，反应室通过分配到反应室中的试剂而促进载玻片上的样品的受控处理。在后一种设置中，反应室通过分配到反应室中的试剂促进清洗盖体部件。
[0010]优选地，该组件包括关闭偏置装置，以用于施加偏置力，这样使得闭合主体在大体上闭合位置中偏置。打开偏置装置还可被设置成用于施加打开偏置力。优选地，关闭偏置装置被配置为施加比打开偏置装置更大的偏置力。
[0011]在一些实施方式中，该组件包括具有棘爪的阻止臂，该棘爪被配置为与闭合主体中的凹槽配合，以将闭合主体保留在闭合位置中。在这种布置中，承载表面被设置为朝着阻止臂的一端，使得在向承载表面施加打开力时，从闭合主体内的凹槽中释放棘爪，并且将闭合主体移动到打开位置。
[0012]能移除壳体可设置在闭合主体上，以隐藏位于其中的操作部件。理想地，能移除壳体包括轮廓、防护罩或夹子，能移除壳体被配置为在闭合主体内对管道进行定向。
[0013]力分布部件可被设置成用于分布施加于闭合主体中的力，使得大体上均匀地施加该力，以实现在反应室周围大体上均勾的密封。热电模块(thermo module)也可与组件的安装表面耦接。热电模块可被操作成改变反应室中的温度，以加速或影响处理步骤。理想地，热电模块处于嵌入包含该组件的仪器中的控制器的控制下。控制器还可控制:组件的打开和关闭、在其中放置基底、分配试剂、施加正压和负压等。
[0014]在一个优选的实施方式中，闭合主体包括第一流体流动路径，第一流体流动路径被配置为在由闭合主体保持时用于与在盖体部件中的流体端口流体连通。在组件使用期间，第一流动路径允许在反应室与流体源之间进行流体传输，该流体源与样本处理组件相关联。
[0015]理想地，耦接装置被设置成用于将盖体部件可释放地连接至闭合主体。耦接装置可包括位于闭合主体和盖体部件中的一个上的一个或多个突出部分，以用于与位于闭合主体与盖体部件中的另一个上的表面接合，在闭合主体与盖体部件之间形成可释放的耦接件。闭合主体和盖体部件中的一个还可包括释放片，以用于释放耦接件，从而能够从闭合主体中释放盖体部件。可替换地，耦接装置可包括轨道或导向通道或其他装置，以用于滑动地耦接盖体部件和闭合主体。
[0016]在一些实施方式中，该组件的安装表面包括一个或多个凹槽。理想地，凹槽在由闭合主体保持在大体上闭合位置中时与盖体部件的至少一部分内壁共线地设置。在盖体部件的清洗阶段使用组件期间，这些凹槽的定位促进从至少一部分盖体部件壁部中清洁试剂。安装表面还可包括开口，该开口可与第二流体流动路径耦接，以促进在开口与流体源之间进行流体传输。第二流体流动路径可用于在安装表面上保持基底，例如，在使用之后打开组件时，通过安装表面开口将真空施加到基底的底面中。还可用于在盖体部件清洗阶段之后，从形成在安装表面与盖体部件之间的腔室中输送或取出清洗试剂。
[0017]从另一个方面看，本发明提供了一种用于在样本处理组件中使用的盖体部件，例如，上面提到的类型的盖体部件。该盖体部件具有:第一侧；与第一侧相反的第二侧；位于第一侧上的空隙，该孔隙在盖体部件与基底接触时形成反应室；第一流体流动端口，用于接收进入反应室内的试剂；以及至少一个凹口。该盖体部件被配置为与样本处理组件的闭合主体可释放地接合，并且至少一个凹口成形为与样本处理组件的安装表面和样本处理组件的闭合主体中的一个上的相应突出部分配合，使得在使用中，凹口和突出部分将盖体部件引导进入在组件中的位置，以与基底形成反应室。
[0018]从又一个方面看，本发明提供了一种用于在样本处理组件中使用的盖体部件，该盖体部件具有:第一侧；与第一侧相反的第二侧；位于第一侧上的空隙，该空隙在盖体部件与基底接触时形成反应室；以及位于第一侧上的可压缩部件，可压缩部件被配置为在使用中围绕反应室形成密封，可压缩部件材料进一步围绕盖体部件中的流体流动端口延伸，并且在盖体部件的第二侧上围绕流体流动端口的开口形成密封环。该盖体部件被配置为与样本处理组件的闭合主体可释放地接合。在一个实施方式中，空隙由可压缩部件限定。在另一个实施方式中，空隙至少部分地由盖体部件的第一侧中的空隙部分或腔体限定。
[0019]与盖体部件一起形成反应室的基底可为载玻片，例如，组织学载玻片(例如，用于样本处理步骤)或者组件的安装表面(例如，用于盖体部件的清洗阶段)。理想地，盖体部件具有两个或更多个凹口。
[0020]盖体部件优选地至少部分地由柔性材料制成。盖体部件至少部分地由选自包括以下元件的组中的材料制成或者涂覆:聚碳酸酯、聚甲醛(乙缩醛)、聚醚醚酮(PEEK)、包括高密度聚乙烯(HDPE)和超高分子量聚乙烯(UHMW-PE)的聚乙烯、包括铁氟龙PE的铁氟龙、包括氟化乙烯丙烯(FEP)的聚丙烯、以及环烯烃共聚物(COC)。
[0021 ] 在一些实施方式中，盖体部件包括至少一个偏置臂。偏置臂被配置为使得在样本处理组件的使用中时，使偏置臂与在闭合主体上的参考部件邻接，并且在闭合主体的最终关闭期间，朝着组件上的突出部分推动盖体部件。理想地，在闭合的最终阶段，两个偏置臂朝着与在盖体部件中的两个相应凹口配合的位于安装表面上的突出部分推动盖体部件，以用于在使用之前，在组件中最佳地对准盖体部件。
[0022]优选地，盖体部件包括耦接装置，以用于使盖体部件与样本处理设备的闭合主体可释放地耦接。还可提供用于释放耦接装置的翼片。在一个优选的实施方式中，耦接装置适合于可滑动地耦接盖体部件和闭合主体。
[0023]在一个或多个实施方式中，盖体部件包括位于第一侧上的释放部件。释放部件可采用舌片或弹簧释放部件的形式，其被配置为帮助使盖体部件与基底分离，这克服了表面张力或静摩擦力的任何力，在处理阶段之后打开组件时，这些力可另外从安装表面中提起基底。在其他布置中，释放部件可位于使用盖体部件的闭合主体上。
[0024]在一个实施方式中，盖体部件包括贮存器，贮存器被配置为接收和储存一些液体，以充分用于多个处理步骤。流体入口被设置成用于使流