一种太赫兹成像装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及太赫兹（TeraHertz，THz)技术领域，尤其涉及一种太赫兹成像装 置。
【背景技术】
[0002] 随着太赫兹技术的发展，利用太赫兹时域光谱进行成像的技术越来越受到关注， 传统的太赫兹时域光谱成像技术，是在太赫兹光斑焦点处放置样品，通过二维平移台移动 样品，采集每一个像素点的太赫兹光谱。最后通过相应的算法恢复成太赫兹图像。这种成像 方法能够同时获得样品的光谱信息和图像信息是一种光谱成像方式。缺点是由于要对每个 像素点逐个扫描，成像速度比较慢。一般情况下采集一个太赫兹光谱需要1024个采样点， 得到一个完整的光谱需要花费200s-300s。一个10*10像素的太赫兹图像需要8个小时左 右的时间。
[0003] 还有一种傅里叶变换光谱仪扫描成像装置（如CN202869964U中所述）利用傅里 叶变换光谱仪进行太赫兹光谱成像，不是通过移动样品进行成像，而是通过移动抛物面镜 采集样品的光谱图像。但是，这种成像方式的成像速度同样也比较慢。傅里叶变换光谱采 集一个光谱需要时间大概在100s左右。同样采集一个10*10的太赫兹光谱图像也需要几 个小时。
[0004] 在许多场景下，如此缓慢的成像速度，不能满足用户的需求。 【实用新型内容】
[0005] 为解决现有存在的技术问题，本实用新型实施例期望提供一种太赫兹成像装置， 能加快太赫兹成像的速度和性能。
[0006] 本实用新型实施例的技术方案是这样实现的：
[0007] 本实用新型实施例提供一种太赫兹成像装置，该装置包括：准直模块、掩模模块和 反射波采集模块；其中，
[0008] 准直模块，用于将入射的太赫兹信号进行准直后照射向掩模模块和待成像物品；
[0009] 掩模模块，用于覆盖在待成像物品前，控制太赫兹信号照射所述物品的照射区 域；
[0010] 反射信号采集模块，用于采集经过所述物品反射后的反射太赫兹信号，并将所述 反射太赫兹信号转换为电信号发送至信号处理模块；
[0011] 信号处理模块，用于控制掩模模块的移动，并根据对应的电信号进行物品成像。
[0012] 上述方案中，所述掩模模块包括：
[0013] 阿达玛掩模单元，放置于待成像物品反射太赫兹信号的传播路径上，用于按照阿 达玛变换规则，对待成像物品反射的太赫兹信号进行调制；
[0014] 掩模控制单元，用于控制阿达玛掩模单元按照预设路径移动。
[0015] 上述方案中，所述装置还包括：
[0016] 分频模块，位于待成像物品之后，用于将所述物品反射的各个频率的反射太赫兹 信号分别聚焦于光轴不同的位置。
[0017] 上述方案中，所述反射信号采集模块包括：
[0018]N个反射信号固定采集单元，分别用于采集N个不同频率的反射太赫兹信号，位于 所述光轴的不同聚焦位置。
[0019] 上述方案中，所述反射信号采集模块包括：
[0020] 反射信号移动采集单元，用于在光轴上移动，采集不同频率的反射太赫兹信号。
[0021 ] 上述方案中，所述准直模块包括：
[0022] 凸透镜或者离轴抛物面镜。
[0023] 上述方案中，所述阿达玛掩模单元包括：
[0024] 由金属制成的阿达玛掩模板。
[0025] 上述方案中，所述分频模块包括：
[0026] 菲涅尔透镜或菲涅尔波带片。本实用新型实施例所提供的太赫兹成像装置，利用 在待成像物品的反射太赫兹信号传播路径上放置阿达玛掩模，实现了对物品像素的批量采 样的同时提高了采样信号的信噪比，同时，通过移动阿达玛掩模而不移动待成像物品，实现 对所述物品各个像素的全面采样，从而避免移动物品而带来的像差；此外，利用菲涅尔透镜 或菲涅尔波带片将待成像物品的反射太赫兹波聚焦于光轴上不同的位置，从而实现采集各 个不同频率的太赫兹波的图像，进一步提尚太赫兹成像的速度。
【附图说明】
[0027] 图1为本实用新型实施例提供的太赫兹成像装置的组成示意图；
[0028]图2为本实用新型实施例中使用的阿达玛掩模的结构示意图；
[0029] 图3为图2所示的阿达玛掩模所对应的空间编码方案；
[0030] 图4为本实用新型提供的太赫兹成像装置的一具体实施例的组成结构图。
【具体实施方式】
[0031] 为了更清楚地说明本实用新型实施例和技术方案，下面将结合附图及实施例对本 实用新型的技术方案进行更详细的说明，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实 施例，而不是全部实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在不付出创造性 劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0032] 图1为本实用新型实施例提供的太赫兹成像装置的组成示意图，如图1所示，该装 置包括：准直模块101、掩模模块102、反射波采集模块103和信号处理模块104;其中，
[0033] 准直模块101，用于将入射的太赫兹信号进行准直后照射向掩模模块和待成像物 品；
[0034] 掩模模块102,用于覆盖在待成像物品前，控制太赫兹信号照射所述物品的照射区 域；
[0035] 反射信号采集模块103,用于采集经过所述物品反射后的反射太赫兹信号，并转换 为电信号发送至信号处理模块；
[0036] 信号处理模块104,用于控制掩模模块的移动，并根据对应的电信号进行物品成 像。
[0037]具体的，准直模块101可以是凸透镜或者是离轴抛物面镜等具有将太赫兹波进行 直准的器件。
[0038]优选的，掩模模块102中包括：
[0039]阿达玛掩模单元，放置于待成像物品反射太赫兹信号的传播路径上，用于按照阿 达玛变换规则，对待成像物品反射的太赫兹信号进行调制；
[0040]掩模控制单元，用于控制阿达玛掩模单元按照预设路径移动。
[0041]具体的，阿达玛掩模单元可以是一块如图2所示的掩模，该掩模由金属等对太赫 兹波高反射率的材质制成，图2中白色的部分表示实心，太赫兹波被反射；灰色的部分表示 镂空，太赫兹波可以透过没有被反射。将该掩模放置于待成像物品反射太赫兹信号的传播 路径上并进行移动，等同于在光路截面上进行可变的空间编码，每个编码单元对应于图像 上的一个像素，每个单元均可被置于〇或1态，即不反射状态或反射状态。例如，与图2所 示掩模对应的空间编码如图3所示。掩模控制单元将该阿达玛掩模单元按照预设的路径移 动，即能完成对照射待成像物品的太赫兹信号的阿达玛变换，进而实现对反射过待成像物 品的太赫兹信号的阿达玛变换。
[0042] 图2只示出了一种3*5(即15)成像像素的阿达玛掩模，而实际应用中的阿达玛掩 模的规格和种类还有很多种，具体如何选择阿达玛掩模的规格和种类主要考虑成像的像素 数。而一旦选定特定的阿达玛掩模，则该掩模对应的移动路径即已确定，这是由阿达玛变换 算法决定的。可直接参考现有的阿达玛光谱仪的规则制作阿达玛掩模。具体的，图2所示 的阿达玛掩模，则它在最初时位于待成像区域的左上角，然后在掩模控制单元的控制下先 向下移一行、在向右移一列，依次循环，直到该阿达玛掩模移动至待成像区域的右下角。每 一次行/列移动之前，都先进行反射太赫兹信号的采集。
[0043]进一步的，为了加快信号采集的速度，在反射信号采集模块103之前，所述太赫兹 成像装置还包括：
[0044]分频模块，位于待成像物品之后，用于将所述物品反射的各个频率的反射太赫兹 信号分别聚焦于光轴不同的位置。
[0045]具体的，分频模块可以是菲涅尔透镜或菲涅尔波带片等可以将经过掩膜板调制的 太赫兹信号在光轴上分频，因此，所述反射信号采集模块103中，可包括：
[0046] N个反射信号固定采集单元，分别用于采集N个不同频率的反射太赫兹信号，位于 所述光轴的不同聚焦位置。
[0047] N越大，则并行采集反射信号的效率越高，但也将导致成像装置的制造成本的增 加。
[0048]因此，反射信号采集模块103还可以包括：
[0049]反射信号移动采集单元，用于在光轴上移动，采集不同频率的反射太赫兹信号。
[0050]当然，为了平衡反射信号采集效率与成像装置制造成本，也可同时设置多个反射 信号移动采集单元，每个反射信号移动采集单