一种硅片亲水性检测平台的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及半导体检测技术领域，特别是涉及一种硅片亲水性检测平台。
【背景技术】
[0002]常规太阳能电池的生产步骤一般要经过表面制绒、扩散制结、刻蚀去边结和磷硅玻璃、镀减反射膜、丝网印刷、烧结和检测分装等主要步骤。同时，一些特殊电池会在刻蚀后和镀减反射膜前在硅片表面生长二氧化硅层的步骤。传统工艺在刻蚀工序后，硅片表面洁净不含有亲水基团，此时硅片表面表现为疏水性。若是在硅片表面生长一层二氧化硅，二氧化硅表面含有羟基，羟基可与水分子短暂结合，此时硅片表面表现为亲水性。
[0003]亲水性检测的方法一般为用移液管取一定量的去离子水滴于硅片表面，液滴在硅片表面是否浸润，即可判断出硅片的亲水性效果，以亲水性的结果来确定硅片的氧化效果。
[0004]在现有的太阳能电池生产工序中，亲水性检测一般将硅片放置在平面上测试，需要倾斜硅片角度时一般为手持硅片，且没有统一的测试方法。当需要倾斜硅片角度时使用手持动作，样片的倾斜角度的稳定性和准确性不够，容易影响实验结果，而且无法进行标准化定义。同时亲水测试时，废液的收集导致测试地点有所限制，以致操作不便。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的是提供一种硅片亲水性检测平台，测试稳定，倾斜角度可控，结果准确，判断方便。
[0006]为解决上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种硅片亲水性检测平台，包括:
[0007]载片基板，所述载片基板的正面具有凹槽，所述凹槽用于承载待测硅片，所述凹槽的底面与所述载片基板的表面平行；
[0008]刻度标尺，所述刻度标尺设置于所述载片基板上，沿着所述载片基板与所述凹槽的相交线设置，用于在硅片滴液后判断液滴扩散范围；
[0009]水平基板，所述水平基板与所述载片基板的下端铰接，用于控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度。
[0010]其中，所述凹槽的长度为10mm-200mm。
[0011]其中，所述凹槽的横截面为边长为200mm的正方形。
[0012]其中，所述水平基板与所述载片基板的夹角范围为0-90°。
[0013]其中，还包括设置在所述载片基板的上端的U型槽或U型通孔，所述U型槽或U型通孔与所述凹槽底部相交。
[0014]其中，所述刻度标尺的长度为10mm-200mm。
[0015]其中，所述刻度标尺的精度为Imm0
[0016]其中，所述刻度标尺为横向刻度标尺和/或纵向刻度标尺，所述凹槽的上端和/或所述凹槽的下端设置有所述横向刻度标尺，所述凹槽的左端和/或所述凹槽的右端设置有所述纵向刻度标尺。
[0017]其中，还包括设置在所述水平基板上的集液槽，用于装载就亲水性检测后产生的废液，所述集液槽的横向尺寸与纵向尺寸均大于等于所述载片基板横向尺寸与纵向尺寸，在所述载片基板转动到与所述水平基板的夹角为O度时，所述载片基板嵌入所述集液槽中。
[0018]其中，所述载片基板为木质载片基板、PVC载片基板或金属载片基板，所述集液槽为木质集液槽、PVC集液槽或金属集液槽。所述凹槽的上端和/或所述凹槽的下端设置有所述横向刻度标尺，所述凹槽的左端和/或所述凹槽的右端设置有所述纵向刻度标尺。
[0019]本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台，与现有技术相比，具有以下优占.V.
[0020]本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台，包括:
[0021]载片基板，所述载片基板的正面具有凹槽，所述凹槽用于承载待测硅片，所述凹槽的底面与所述载片基板的表面平行；
[0022]刻度标尺，所述刻度标尺设置于所述载片基板上，沿着所述载片基板与所述凹槽的相交线设置，用于在硅片滴液后判断液滴扩散范围；
[0023]水平基板，所述水平基板与所述载片基板的下端铰接，用于控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度。
[0024]所述硅片亲水性检测平台，通过使用水平基板与所述载片基板铰接，并控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度，在载片基板上设置凹槽来装载待检测硅片，无论载片基板与水平基板的角度为多少，都无需测试者手持硅片，倾斜角度可控，测试稳定。同时所述载片基板的表面还沿与所述凹槽的交线设置有刻度标尺，使用刻度标尺检测液滴亲水性效果，将测试结果数据化，更具科学性和实用性，使得检测结果准确，判断方便。所述硅片亲水性检测平台小巧、轻便、测试结果准确，有利于亲水性检测方法标准化的制定。
[0025]综上所述，本实用新型实施例所述的所述硅片亲水性检测平台，通过使用水平基板与所述载片基板铰接，并控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度，在载片基板上设置凹槽来装载待检测硅片，倾斜角度可控，测试稳定，使用刻度标尺检测液滴亲水性效果，使得检测结果准确，判断方便。
【附图说明】
[0026]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1为本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台一种【具体实施方式】的俯视图结构不意图；
[0028]图2为本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台一种【具体实施方式】的立体图结构示意图。
【具体实施方式】
[0029]正如【背景技术】部分所述，在现有的太阳能电池生产工序中，亲水性检测一般将硅片放置在平面上测试，需要倾斜硅片角度时一般为手持硅片，且没有统一的测试方法。当需要倾斜硅片角度时使用手持动作，样片的倾斜角度的稳定性和准确性不够，容易影响实验结果，而且无法进行标准化定义。同时亲水测试时，废液的收集导致测试地点有所限制，以致操作不便。
[0030]基于此，本实用新型实施例提供了一种硅片亲水性检测平台，包括:
[0031]载片基板，所述载片基板的正面具有凹槽，所述凹槽用于承载待测硅片，所述凹槽的底面与所述载片基板的表面平行；
[0032]刻度标尺，所述刻度标尺设置于所述载片基板上，沿着所述载片基板与所述凹槽的相交线设置，用于在硅片滴液后判断液滴扩散范围；
[0033]水平基板，所述水平基板与所述载片基板的下端铰接，用于控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度。
[0034]综上所述，本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台，通过使用水平基板与所述载片基板铰接，并控制所述载片基板与所述水平基板的表面的角度，在载片基板上设置凹槽来装载待检测硅片，无论载片基板与水平基板的角度为多少，都无需测试者手持硅片，倾斜角度可控，测试稳定。同时所述载片基板的表面还沿与所述凹槽的交线设置有刻度标尺，使用刻度标尺检测液滴亲水性效果，将测试结果数据化，更具科学性和实用性，使得检测结果准确，判断方便。所述硅片亲水性检测平台小巧、轻便、测试结果准确，有利于亲水性检测方法标准化的制定。
[0035]为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本实用新型的【具体实施方式】做详细的说明。
[0036]在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广。因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
[0037]请参考图1-图2，图1为本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台一种【具体实施方式】的俯视图结构示意图；图2为本实用新型实施例所提供的硅片亲水性检测平台一种【具体实施方式】的立体图结构示意图。
[0038]在具体方式中，本实用新型实施例提供的所述硅片亲水性检测平台，包括:
[0039]载片基板10，所述载片基板10的正面具有凹槽11，所述凹槽11用于承载待测硅片，所述凹槽11的底面与所述载片基板10的表面平行；
[0040]刻度标尺30，所述刻度标尺30设置于所述载片基板10上，沿着所述载片基板10与所述凹槽11的相交线设置，用于在硅片滴液后判断液滴扩散范围；
[0041]水平基板20，所述水平基板20与所述载片基板10的下端铰接，用于控制所述载片基板10与所述水平基板20的表面的角度。
[0042]需要说明的是，本实用新型中的凹槽11是用来装载硅片，使得硅片在凹槽11中保持稳定即可，本实用新型对所述凹槽11的形状和深度不做具体限定。
[0043]所述硅片亲水性检测平台，通过使用水平基板20与所述载片基板10铰接，并控制所述载片基板10与所述水平基板20的表面的角度，在载片基板10上设置凹槽11来装载待检测硅片，无论载片基板10与水平基板20的角度为多少，都无需测试者手持硅片，倾斜角度可控，测试稳定。同时所述载片基板10的表面还沿与所述凹槽11的交线设置有刻度标尺30，使用刻度标尺30检测液滴亲水性效果，将测试结果数据化，更具科学性和实用性，使得检测结果准确，判断方便。所述硅片亲水性检测平台小巧、轻便、测试结果准确，有利于亲水性检测方法标准化的制定。
[0044]如果所述硅片亲水性检测平台只对单一尺寸的硅片进行测量，如在工业生产中，不同的工厂设计的产品的尺寸不同，装载待检测硅片的凹槽11的尺寸不同，所述凹槽11的长度一般为10mm-200mm。需要说明的是，如果有特殊的需求，如对尺寸更大的娃片的亲水性进行检测，即可使用具有更大尺寸的凹槽11的载片基板10。
[0045]由于一般对生产的硅片的检测中，硅片的尺寸一般在200mm以下，因此凹槽11的尺寸在200mm时，即可满足对绝大多数的硅片的装载需求，因此所述凹槽11的横截面