一种窄边框式触摸屏的制作方法与流程

本发明涉及触摸屏制造领域，更具体的说，是涉及一种窄边框式触摸屏的制作方法。

背景技术：

近年来，手机屏幕一直朝着越来越大的方向发展。但是这势必引发一个矛盾，即手对屏幕能够掌控的需求总会有一天超过眼睛对屏幕更大的需求。从2013年开始，各大厂商开始宣传屏占比与窄边框的概念，旨在通过增大屏占比，减小边框宽度，在有限的机身尺寸下容纳更大的屏幕。比如LG的G Pro2等机型，可以在5.7英寸机身内容纳5.9英寸屏幕，这无疑是超大屏手机的一种发展趋势。

触控行业Film Sensor金属导线主要以银浆制成，目前行业内主要有两种工艺方案：网版印刷工艺和激光镭射工艺。受网版材质、制版技术等相关影响，制作银走线线宽最小为80um，若想实现更细走线，需选用材质好的网版以及相当高的制网技术，这样的成本费用很高，无法满足量产性需求；而激光镭射工艺受光斑大小影响，制作走线最小为40um，而在生产过程中，为确保银线镭射干净无短路风险，通常会来回镭射多次，这样生产效率低且精度无法保证，制作出来的线条会有边缘不平整现象，若想实现更细线宽同时解决这些问题，需采用波长更短的激光设备，会增大设备成本且难以提高效率。

现有的常规单层多点GFM产品的边框走线制作前需要增加一道阅卷油墨印刷，这样对油墨材料的性能要求高，增加了制作流程，人员及设备投入高，工艺管控困难，影响良率成本；若直接丝印银线，线宽最小只能制作80um，无法实现窄边框以满足越来越高的视觉要求。

技术实现要素：

鉴于上述状况，本发明的目的在于提出一种窄边框触摸屏的制作方法，不仅具有窄边框的特点，且工艺简单、设备投入低、多点触控、成本低的多彩显示触摸屏的生产。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种窄边框式触摸屏的制作方法，包括如下步骤：

将透明导电膜卷材按所需尺寸裁切成片材后，置于网车中推入烤箱中烘烤，进行老化处理，使其化学物理性能更加稳定；

将固体干膜通过压膜机压合在老化后的透明导电膜表面，经曝光、显影、蚀刻后，实现感应、驱动层图形；

在边框处丝印整片银浆，经预烘、曝光、显影后固化得边缘银走线。

所述固体干膜是通过压膜机以一定的温度和压力压合在老化后的透明导电膜表面上的。

所述固体干膜需经曝光、显影、蚀刻工艺制作出感应、驱动图形，来实现触控功能。

所述银浆整片丝印在边框处，经预烘、曝光、显影制得边缘银走线。

所述银浆曝光后，显影固化得到的边缘银走线线宽最小可做到20um。

本发明的有益效果：

经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明的主要特点在于：以透明导电膜作基材，通过压干膜、曝光显影蚀刻来实现感应、驱动层图形，后在银浆跳线处丝印绝缘油墨以防止走线与下感应和驱动线短路，再通过丝印块状银浆，经曝光显影后，固化制得窄边框式产品，既能实现超薄结构，多点触控，又能提高单层厚度透过率，同时工艺制程简单、成本低，且边框走线可以实现更细线路，尤其为手机及以上尺寸显示产品在有限机身尺寸下容纳更大屏幕需求的触摸屏制备上提供了一种重要的技术手段。

附图说明

图1是本发明的一种窄边框式触摸屏制作方法的工艺流程图；

图2是本发明一种实施例下的窄边框式触摸屏的结构示意图。

图3是本发明一种实施例下的窄边框走线的正视图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本发明提供一种窄边框式触摸屏的制作方法，如图1所示，该方法包括如下步骤：

将透明导电膜卷材按所需尺寸裁切成片材后，撕除片材导电层保护膜后置于网车中；

然后将装满网车的片材推入烤箱中烘烤，进行老化处理，使其化学物理性能更加稳定，根据导电膜材料的要求，常用老化处理温度一般为140-150 ˚С，时间为60-90min；

将固体干膜通过压膜机以一定的温度和压力压合在老化后的透明导电膜表面上，根据干膜的实际情况，控制温度为100±5℃，压力为4.2±0.2 Kg/cm²；

再对压合的固体干膜控制曝光能量为40-60mj进行曝光，用浓度为0.05-0.06mol/L的K₂CO₃溶液进行显影，然后用混合酸进行蚀刻，可实现图形化导电层；

再在边框处整片感光银浆，控制银浆厚度为6-8um；

对丝印的感光银浆进行IR预烘烤，控制温度为95-105℃，恒温时间为7-9min；

再对银浆进行曝光，控制曝光能量为450-550mj；

然后对银浆用浓度为0.018-0.022mol/L的Na₂CO₃溶液进行显影处理；

最后再进行后烘，控制后烘温度为140℃，时间为30-60min。

如图3所示，此种窄边框式触摸屏的制作方法制作的边缘银走线（4）线宽最小可做到20um。

如图2所示，是本发明一种实施例下的窄边框式触摸屏的结构示意图。设定曝光、显影、蚀刻后的透明导电材料的上表面为导电层图案（5），曝光显影后的边框处的银浆为边缘走线（4），透明导电材料为基材层（6），所述窄边框式触摸屏包括基材层（6），设置于所述基材层上表面的导电层图案（5）和边缘走线（4），设置于导电层图案（5）及边缘走线（4）之上的基板层（1）以及设置于导电层图案（5）及边缘走线（4）与基板层（1）之间的光学胶贴合层（3）。

其中基板层（1）为玻璃或其他柔性基材。

其中基板层（1）下层还设置有装饰油墨层（2）。

上述对所公开的实施例的详细说明，能够使本技术领域的专业技术人员实现或使用本发明。对基于实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。