柔性AMOLED屏及手机的制作方法

本发明涉及电子技术领域，特别是涉及一种柔性AMOLED屏及手机。

背景技术：

AMOLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极体面板屏幕)是指以AMOLED材料为主的屏幕。相比传统的液晶面板，AMOLED具有反应速度较快、对比度更高、视角较广等特点。

在现有技术中，在柔性屏上集成触控功能主要是通过在柔性AMOLED屏上贴上一层柔性的金属网格触控屏来实现，这意味着，生产商在做好AMOLED柔性屏后，需要额外制作柔性触摸屏，之后两者需要做贴合。

由于现有技术需要额外购买金属网格触摸屏，并在AMOLED屏上贴金属网格触控屏，这会造成集成度不高，厚度增大，成本升高的缺点。

综上所述，有必要提供一种柔性AMOLED屏及手机，以解决上述问题。

技术实现要素：

本发明主要解决的技术问题是提供一种柔性AMOLED屏及手机，能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种柔性AMOLED屏，包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。

其中，在一个像素单元上蚀刻出一个金属网格。

其中，在一个像素单元上蚀刻出多个金属网格。

其中，金属为铝。

其中，金属为银。

本发明进一步提供一种手机，包括柔性AMOLED屏，柔性AMOLED屏包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。

其中，在一个像素单元上蚀刻出一个金属网格。

其中，在一个像素单元上蚀刻出多个金属网格。

其中，金属为铝。

其中，金属为银。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明的柔性AMOLED屏及手机，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器，能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。

附图说明

图1是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的等效电路原理图；

图2是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的结构示意图；

图3是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的阴极正面示意图。

图4是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的另一阴极正面示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。

图1是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的等效电路原理图。如图1所示，本发明的柔性AMOLED屏包括多个像素单元，其中多个行扫描线110、120和列扫描线210、220交替设置，用以区分每一像素单元，每一像素单元分别包括第一TFT 106和第二TFT 103，第一TFT106的源极与一列扫描线220连接，第一TFT 106的栅极与一行扫描线110连接，第二TFT 103的栅极与第一TFT 106的漏极连接，第二TFT 103的漏极与发光二极管102的阳极连接，电容105设置在第二TFT 103的栅极与源极之间，第二TFT 103的源极作为像素单元的阳极，发光二极管的阴极作为像素单元的阴极。

并请结合图2进行参考，图2是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的结构示意图，如图2所示，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层101’、电子传输层131、发光层132、空穴传输层133、阳极层104’以及衬底134，阴极层101’可由例如为铝或银的金属制成，在本发明实施例中，通过光刻工艺在阴极层101’上蚀刻出金属网格，以在阴极层101’上形成自电容式触摸传感器。

为了对金属网格作出进一步清楚说明，请参见图3和图4，图3是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的阴极正面示意图。图4是根据本发明实施例的柔性AMOLED屏的像素单元的另一阴极正面示意图。

首先请参见图3，图3示出在一个像素单元上蚀刻出多个金属网格1011，因此在每个金属网格区域上若有指尖操作，像素单元通过对应金属网格来感测到电容值变化，从而通过金属网格的位置确定触摸位置。

以下请参见图4，图4示出在一个像素单元上蚀刻出一个金属网格1012，因此若在此金属网格有指尖操作，形成金属网格的金属线可感测电容值变化，从而通过金属线确定触摸位置。

本发明进一步提供一种手机，包括上述的柔性AMOLED屏，柔性AMOLED屏包括多个像素单元，每一像素单元包括依次相邻设置的阴极层、电子传输层、发光层、空穴传输层、金属阳极层以及衬底，阴极层由金属制成，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器。

综上，本发明的柔性AMOLED屏及手机，通过光刻工艺在阴极层上蚀刻出金属网格，以在阴极层上形成自电容式触摸传感器，能将金属网格触摸屏集成在柔性AMOLED屏中，从而避免了购买金属网格触摸屏及对其进行贴合，可提高集成度，有利于轻薄化，并降低成本。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。