一种防静电蚀刻装置的制作方法

本实用新型涉及蚀刻加工设备
技术领域：
，特别涉及一种防静电蚀刻装置。
背景技术：
：随着电子行业的不断发展壮大，手机触摸屏的生产已经逐渐成为我国的经济支柱产业。在现有的触摸屏的生产过程中，由于Film产品在蚀刻生产过程中一般包括撕膜、覆膜以及收卷等过程。在上述过程中不可避免地会产生一定程度上的静电，而产生的静电如果不能及时消除，便会在ITO线路上产生堆积，当静电达到一定的强度时，便有可能在该ITO线路上产生静电击穿现象，从而造成ITO线路损伤的问题，影响了触摸屏的整体质量。基于此，有必要设计出一种能够有效防止静电的蚀刻装置，通过有效减少静电的产生以及最大程度地保护ITO线路不被击穿来保证触摸屏的整体生产质量。技术实现要素：基于此，本实用新型的目的是提供一种能够有效防止静电的蚀刻装置，通过有效减少静电的产生以及最大程度地保证ITO线路不因静电击穿而产生损伤，从而整体上提高触摸屏的质量。为解决上述技术问题，本实用新型提供一种防静电蚀刻装置，所述防静电蚀刻装置内依次设有蚀刻组件、覆膜组件、缓冲组件以及收料组件，所述覆膜组件包括覆膜转轴组件以及从动转轴，所述覆膜转轴组件包括第一覆膜转轴、第二覆膜转轴以及辅助转轴，所述第二覆膜转轴通过所述辅助转轴带动所述第一覆膜转轴进行转动，用于进行覆膜加工操作，所述覆膜组件设于所述蚀刻组件以及所述缓冲组件之间。本实用新型的防静电蚀刻装置在进行加工生产的过程中可以有效地消除因接触或分离所产生的静电，解决了因为静电堆积而造成线路击穿的问题。上述防静电蚀刻装置，其中，所述蚀刻组件包括蚀刻液喷淋装置以及传动装置，所述蚀刻液喷淋装置位于所述传动装置的正上方。上述防静电蚀刻装置，其中，所述蚀刻液喷淋装置的上部设有旋转轴，所述蚀刻液喷淋装置的内部设有蚀刻液容置槽、导管以及喷射柱，所述导管用于连接所述蚀刻液容置槽以及所述喷射柱。上述防静电蚀刻装置，其中，所述蚀刻液喷淋装置呈圆柱体，所述喷射柱呈环形均匀设于所述蚀刻液喷淋装置的下部。上述防静电蚀刻装置，其中，所述蚀刻液喷淋装置的移动方向平行于所述传动装置。上述防静电蚀刻装置，其中，所述传动装置的行进方向为靠近所述覆膜组件的一侧。上述防静电蚀刻装置，其中，所述缓冲组件设于所述覆膜组件以及所述收料组件之间。上述防静电蚀刻装置，其中，所述缓冲组件包括缓冲转轴，所述缓冲转轴的数量范围为3至6。上述防静电蚀刻装置，其中，所述覆膜组件内设有一组除静电装置，该除静电装置为除静电离子棒。上述防静电蚀刻装置，其中，所述覆膜组件内用于覆膜的材料为抗静电保护膜。附图说明图1为本实用新型提出的一种防静电蚀刻装置的整体结构示意图；图2为图1所示的防静电蚀刻装置中蚀刻组件的结构放大图；图3为图1所示的防静电蚀刻装置中覆膜组件的结构放大图；图4为图1所示的防静电蚀刻装置中缓冲组件的结构放大图。主要符号说明：蚀刻组件11抗静电保护膜123覆膜组件12除静电装置124缓冲组件13缓冲转轴131收料组件14蚀刻液容置槽1121蚀刻液喷淋装置110导管1122旋转轴111喷射柱1123喷淋组件112第一覆膜转轴1211传动装置113辅助转轴1212覆膜转轴组件121第二覆膜转轴1213从动转轴122具体实施方式为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的首选实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的
技术领域：
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1至图4，图1为本实用新型提出的一种防静电蚀刻装置的整体结构示意图，图2为图1所示的防静电蚀刻装置中蚀刻组件11的结构放大图，图3为图1所示的防静电蚀刻装置中覆膜组件12的结构放大图，图4为图1所示的防静电蚀刻装置中缓冲组件13的结构放大图，所述防静电蚀刻装置内依次设有蚀刻组件11、覆膜组件12、缓冲组件13以及收料组件14，所述覆膜组件12包括覆膜转轴组件121以及从动转轴122，所述覆膜转轴组件121包括第一覆膜转轴1211、第二覆膜转轴1213以及辅助转轴1212，所述第二覆膜转轴1213通过所述辅助转轴1212带动所述第一覆膜转轴1211进行转动，用于进行覆膜加工操作，所述覆膜组件12设于所述蚀刻组件11以及所述缓冲组件13之间。其中，所述蚀刻组件11包括蚀刻液喷淋装置110以及传动装置113，所述蚀刻液喷淋装置110位于所述传动装置113的正上方。所述传动装置113上放置有待蚀刻加工的Film产品，所述蚀刻液喷淋装置110用于向该待加工的Film产品上喷洒蚀刻液，从而便于进行蚀刻加工。所述蚀刻液喷淋装置110的上部设有旋转轴111，所述蚀刻液喷淋装置110的内部设有喷淋组件112，所述喷淋组件112包括蚀刻液容置槽1121、导管1122以及喷射柱1123，所述导管1122用于连接所述蚀刻液容置槽1121以及所述喷射柱1123。所述蚀刻液喷淋装置110呈圆柱体，所述喷射柱1123呈环形均匀设于所述蚀刻液喷淋装置110的下部，所述蚀刻液喷淋装置110的移动方向平行于所述传动装置113。该旋转轴111可以使得所述蚀刻液喷淋装置110在水平方向上作圆周运动，此外，由于所述喷射柱1123呈环形均匀设于所述蚀刻液喷淋装置110的下部，该设置可以最大程度上地保证蚀刻液的喷淋面积最大，并且有利于喷洒均匀，避免因为喷洒不均匀造成的蚀刻加工问题。所述传动装置113的行进方向为靠近所述覆膜组件12的一侧，经过蚀刻加工之后的Film产品通过所述传动装置113传送到覆膜组件12中进行覆膜加工。所述缓冲组件13设于所述覆膜组件12以及所述收料组件14之间，所述缓冲组件13包括缓冲转轴131，所述缓冲转轴131的数量范围为3至6。在本实施例中，所述缓冲转轴131的数量为5，该缓冲组件13的设置有利于后续的收料作业。此外，所述覆膜组件12内设有一组除静电装置124，在本实施例中，所述除静电装置124为除静电离子棒。所述待蚀刻加工的Film产品在所述蚀刻组件11中依次要经过药液蚀洗、纯水清洗、脱模以及烘干等工序，由于处于该蚀刻组件11内的Film产品在烘干前的湿度仍较大，因此与滚轮之间产生的静电就相对较小。当处于所述蚀刻组件11内的Film产品经过烘干工序之后，由于湿度急剧下降，导致该Film产品与滚轮之间摩擦时很容易产生相对较高的静电，并且不能在较短的时间内消除，这将可能导致ITO线路被击穿。因此，在本实施例中，我们在所述Film产品刚要进入所述覆膜组件12内的位置处设置一组所述除静电装置124，该除静电装置124为除静电离子棒。该除静电装置124可以有效地消除Film产品与滚轮之间摩擦时所产生的静电，防止Film产品内的ITO电路被击穿。在设置了上述的除静电装置124之后，可以保证所述Film产品在刚进入所述覆膜组件12内时没有静电存在，但是由于该Film产品在后续过程中不可避免地与滚轮之间产生摩擦作用，因此也会继续产生一定量的静电。对于此技术问题，在本实施例中，在所述覆膜组件12内设置一抗静电保护膜123，由于该抗静电保护膜123本身含有部分导电微粒存在，因此可以将大部分的电流都导出，在很大程度上消除了静电。该抗静电保护膜123配合上述除静电装置124，可以最大程度上地对Film产品与滚轮之间摩擦所产生的静电进行消除，从而避免了因为静电堆积放电所造成的对ITO电路的击穿问题。在实际使用过程中，将待加工的Film产品放置于所述传动装置113上，所述蚀刻液喷淋装置110可沿着平行于所述传动装置113的方向上自由移动并且可以在水平方向上作匀速圆周运动，使得喷淋所述待加工Film产品上的蚀刻液更为均匀。当完成了蚀刻作业程序之后，Film产品由所述传动装置113传送到所述覆膜组件12中进行覆膜处理。经过覆膜处理之后的Film产品(如DES线)的表面贴有所述抗静电保护膜123，该抗静电保护膜123将ITO线路全部保护起来，从而保证ITO线路不会因为静电放电而被击穿。以上所述实施例仅表达了本实用新型的首选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。当前第1页1 2 3