柔性触摸屏及其制备方法、显示面板与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性触摸屏及其制备方法以及具有该柔性触摸屏的显示面板。

背景技术：

随着柔性显示的快速发展，柔性触控技术受到越来越多的关注，但是目前小尺寸柔性触摸屏面临着诸多难题。例如使用氧化铟锡(ito)制作图案时，虽然能够保证柔性触摸屏的透过率以及方阻，但是由于氧化铟锡的延展性较差，而柔性触摸屏通常在边缘处需要进行弯曲处理，这种情况下氧化铟锡图案易出现崩开以及桥点脱落等问题。

现有技术中的另一种方案是使用金属网格(metalmesh)代替氧化铟锡制作图案，金属网格图案层通常使用cu/ag/al等材料制作，其金属延展性优于氧化铟锡图案，因此其弯曲半径小于氧化铟锡，是制作柔性触摸屏的良好选择，但是金属网格图案层在制作小尺寸产品时面临触控精度不足等一系列难题。

因此，氧化铟锡作为柔性触摸屏，急需解决边缘难于进行弯曲的困难。

在所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本发明的背景的理解。

技术实现要素：

本发明的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种柔性触摸屏及其制备方法、显示面板，以解决弯曲区域的弯曲问题，且同时提高触控精度。

为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：

根据本发明的一个方面，提供了一种柔性触摸屏，所述柔性触摸屏具有触控区域，所述触控区域包括弯折区域和非弯折区域，所述弯折区域设置于所述触控区域的边缘，所述弯折区域围绕所述非弯折区域的外周设置，其中，所述柔性触摸屏包括基板、氧化铟锡层以及金属网格层，所述氧化铟锡层设置于非弯折区域的所述基板上，所述氧化铟锡层由氧化铟锡材料构成；所述金属网格层设置于弯折区域的所述基板上，所述金属网格层由金属材料构成，所述金属网格层与所述氧化铟锡层电连接。

根据本发明的一实施方式，其中所述金属网格层与所述氧化铟锡层搭接。

根据本发明的一实施方式，其中所述金属网格层和所述氧化铟锡层之间设置有绝缘层，所述绝缘层设置有通孔，所述通孔内设置有导电材料，以电连通所述金属网格层和所述氧化铟锡层。

根据本发明的一实施方式，所述金属网格层由铜、银以及铝三者中的至少一者构成。

根据本发明的一实施方式，其中所述金属网格层由纳米银材料构成。

根据本发明的一实施方式，其中所述弯折区域为封闭环形结构，所述触控区域的边界距离与其相邻的所述非弯折区域的边界的距离为3-8mm。

根据本发明的另一方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括本发明提供的柔性触摸屏。

根据本发明的另一方面，提供一种柔性触摸屏的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：在基板的非弯折区域上制作氧化铟锡层；在基板的弯折区域上制作金属网格层；将所述氧化铟锡层与所述金属网格层电连接。

根据本发明的一实施方式，其中在所述在基板上制作氧化铟锡层的步骤前，在所述基板上制作氧化铟锡桥点层。

根据本发明的一实施方式，其中在所述在基板的弯折区域上制作金属网格层的步骤之前，在所述基板上制作绝缘层。

由上述技术方案可知，本发明的柔性触摸屏及其制备方法、显示面板的优点和积极效果在于：

本发明提供的柔性触控屏，其弯折区域设置有金属网格，非弯折区域设置有氧化铟锡材料，且弯折区域与非弯折区域电连接，非弯折区域可以具有较高的透过率和低方租，弯折区域的金属网格具有很好的韧性，以适应弯曲区域的弯曲，尤其适应小尺寸柔性触控屏的弯曲区域的弯曲。

附图说明

通过结合附图考虑以下对本发明的优选实施例的详细说明，本发明的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本发明的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：

图1是根据一示例性实施方式示出的一种柔性触控屏的结构示意图。

图2是根据一示例性实施方式示出的另一种柔性触控屏的结构示意图。

图3是图1中的柔性触控屏的制备方法的流程图。

图4是图2中的柔性触控屏的制备方法的流程图。

图5是图1中的柔性触摸屏的俯视图。

其中，附图标记说明如下：

101、弯折区域；102、非弯折区域；

103、基板；104、氧化铟锡层；

105、金属网格层；106、氧化铟锡桥点层；

107、绝缘层。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

参照图1和图2，根据本发明的一个方面，提供了一种柔性触摸屏，柔性触摸屏可以具有触控区域，触控区域可以包括弯折区域101和非弯折区域102，弯折区域101可以设置于触控区域的边缘，非弯折区域102可以设置于触控区域的中央区域，弯折区域101可以围绕非弯折区域102的外周设置，其中，柔性触摸屏可以包括基板103、氧化铟锡层104以及金属网格层105，氧化铟锡层104可以设置于非弯折区域102的基板103上，氧化铟锡层104可以由氧化铟锡材料构成；金属网格层105可以设置于弯折区域101的基板103上，金属网格层105可以由金属材料构成，金属网格层105与氧化铟锡层104可以电连接。通过在弯折区域101上设置金属网格层105，可以解决柔性触摸屏的弯曲问题，同时中央区域的氧化铟锡层104可以具有较高的透过率、低方阻，同时保持触控区域具有较高的触控精度。

根据本发明的一实施方式，其中金属网格层105可以与氧化铟锡层104搭接。例如但不限于，金属网格层105可以与氧化铟锡层104直接接触，以实现电连接，或者根据本发明的一实施方式，其中金属网格层105和氧化铟锡层104之间可以设置有绝缘层107，该绝缘层107可以设置有通孔，并且在该通孔内可以设置有导电材料，以电连通金属网格层105和氧化铟锡层104。只要能够满足金属网格层105和氧化铟锡层104之间电连接，都在本发明的保护范围内。

根据本发明的一实施方式，金属网格层105可以由铜、银以及铝三者中的至少一者构成，但不以此为限，根据实际需要可以选择其他金属材料来构成金属网格层105。例如但不限于，根据本发明的一实施方式，其中金属网格层105还可以由纳米银材料构成，都在本发明的保护范围内。根据本发明的一具体实施方式，其中金属网格层105可以设置为菱形结构，但不以此为限，根据需要还可以设置为其他形状，例如但不限于三角形、五边形、六边形等，都在本发明的保护范围内。根据本发明的一具体实施方式，其中金属网格层105中的每个金属网格单元的尺寸可以根据实际需要选择，都在本发明的保护范围内。

根据本发明的一实施方式，其中弯折区域101可以为封闭环形结构，触控区域的边界距离与其相邻的非弯折区域102的边界的距离可以为3-8mm。根据本发明的一具体实施方式，其中弯折区域101可以为回字形结构，但不以此为限，根据触控区域的需要也可以形成为其他形状，都在本发明的保护范围内。

根据本发明的另一方面，提供一种显示面板，显示面板可以包括本发明提供的柔性触摸屏。

参照图3和图4，根据本发明的另一方面，提供一种柔性触摸屏的制备方法，该制备方法可以包括以下步骤：在非弯折区域102的基板103上可以制作氧化铟锡层104；在弯折区域101的基板103上可以制作金属网格层105；将氧化铟锡层104与金属网格层105电连接。

根据本发明的一实施方式，其中在在非弯折区域102的基板103上制作氧化铟锡层104的步骤前，在非弯折区域102的基板103上可以制作氧化铟锡桥点层106，该氧化铟锡桥点层106可以用于连通氧化铟锡层104彼此远离的不同块。

根据本发明的一实施方式，其中在在弯折区域101的基板103上制作金属网格层105的步骤之前，在弯折区域101的基板103上可以制作绝缘层107。

具体参照图5，该柔性触摸屏的制备方法可以为：(1)首先在基板103上做黑色光阻的涂布和曝光，然后制作氧化铟锡桥点层106，该步骤可以采用的工艺流程有溅射，清洗涂胶，曝光，显影，刻蚀，剥离，清洗；(2)接着在氧化铟锡桥点层106上制作绝缘层107，该步骤可以采用涂胶，曝光，显影的工艺流程；(3)然后在绝缘层107上制作氧化铟锡层104，该步骤的可以采用的工艺流程有清洗涂胶，曝光，显影，刻蚀，剥离，清洗；(4)制作完氧化铟锡层104后，制作金属网格层105，该步骤可以采用溅射，清洗涂胶，曝光，显影，刻蚀，剥离，清洗的工艺流程，制作出金属通道同时，完成边缘弯曲处使用金属网格层105与氧化铟锡层104进行搭接，最后在最上方制作最外层的绝缘层。

参照图4，根据本发明的一具体实施方式提供的柔性触摸屏的制备方法可以包括以下步骤：(1)首先在基板103上做黑色光阻的涂布和曝光，然后制作氧化铟锡层104，可以采用的工艺流程有清洗涂胶，曝光，显影，刻蚀，剥离，清洗；(2)然后在氧化铟锡层104上制作绝缘层107，可以采用涂胶，曝光，显影的工艺流程；(3)制作完绝缘层107后，制作金属网格层105，可以采用溅射，清洗涂胶，曝光，显影，刻蚀，剥离，清洗的工艺流程，制作出金属通道同时，完成边缘弯曲处使用金属网格层105与氧化铟锡层104进行搭接，最后在最上方制作最外层的绝缘层。

所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在上面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本发明的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组件、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明的各方面。