一种触摸屏及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域中的触摸屏技术，尤其涉及一种触摸屏及其制作方法。
【背景技术】
[0002]目前，由于触摸屏显示器的迅速发展，其已经逐渐发展成为主流平板显示器。触摸屏(Touch Panel)的像素区域和周边驱动区域的截面图如图1所示，所述触摸屏包括:形成于基板7上的金属连接层4的图案、金属连接层4的图案上方的绝缘层5的图案、绝缘层5的图案上方、且通过绝缘层5的图案的过孔与金属连接层4的图案相连的驱动电极2的图案、绝缘层5的图案上方的感应电极I的图案，以及位于所述驱动电极2的图案和感应电极I的图案上方的保护层6的图案；其中，所述周边驱动区域的保护层6上形成有过孔，使得所述过孔中露出的驱动电极2与外围驱动电路连接；所述像素区域的保护层6上没有过孔，图1中所示该区域的保护层6存在下凹，是因为保护层6的底层(下层)有台阶，所以像素区域的保护层6会有一定的下凹。
[0003]上述触摸屏的制作过程通常为:
[0004]首先，在基板上形成一层金属薄膜，并采用掩膜版形成金属连接层4的图案；
[0005]其次，在形成有金属连接层4的图案的基板7上沉积一层非金属薄膜，并采用掩膜版形成绝缘层5的图案；所述像素区域的绝缘层5上的过孔较小，周边驱动区域的绝缘层5上的过孔较大；
[0006]然后，再在基板上形成一层透明导电材料薄膜，通过掩膜版形成驱动电极2的图案和感应电极I的图案；
[0007]最后，形成一层非金属薄膜，并通过掩膜版进行曝光显影、刻蚀，形成保护层6的图案，这里，对应基板像素区域的掩膜版不透光，仅对应基板周边驱动区域透光。
[0008]可见，现有触摸屏的制作流程中需要四块掩膜版进行图形化处理，所需掩膜版的数量较多，生产成本较高。
【发明内容】
[0009]有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种触摸屏及其制作方法，可减少制备过程中掩膜版的数量，节约成产成本。
[0010]为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的:
[0011]本发明提供一种触摸屏的制作方法，包括:在基板上形成金属连接层的图案、绝缘层的图案、驱动电极的图案、感应电极的图案和保护层的图案；所述绝缘层的图案和所述保护层的图案通过同一块掩膜版形成。
[0012]具体地，所述绝缘层的图案的形成方法为:
[0013]首先，在形成有金属连接层的图案的基板上沉积一层非金属薄膜，并在所述非金属薄膜上涂覆感光材料；
[0014]其次，利用第二掩膜版对所述感光材料进行曝光显影，在对应绝缘层的图案区域形成感光材料的完全去除区；
[0015]其中，通过调整感光材料的厚度和曝光量，令绝缘层上的过孔位置处对应的感光材料完全被曝光。
[0016]具体地，所述感光材料的厚度为:2-3um。
[0017]具体地，所述曝光量的调节方法为:调整曝光光源的扫描速度为100-200mm/s。
[0018]具体地，所述保护层的图案的形成方法为:
[0019]首先，在形成有驱动电极的图案和感应电极的图案的基板上沉积一层非金属薄膜，并在所述非金属薄膜上涂覆感光材料；
[0020]其次，利用所述第二掩膜版对所述感光材料进行曝光显影，在对应周边驱动区域的保护层的图案区域形成感光材料的完全去除区，在对应像素区域的保护层的图案区域形成半保留区；
[0021]其中，通过调节感光材料的厚度和曝光量，实现周边的过孔位置处对应的感光材料完全被曝光，像素区域保护层上的过孔位置处对应的感光材料部分曝光。
[0022]具体地，所述感光材料的厚度为:2-3um。
[0023]具体地，所述曝光量的调节方法为:调整曝光光源的扫描速度为200-300mm/s。
[0024]具体地,所述方法具体包括:
[0025]通过第一掩膜版在基板上形成金属连接层的图案；
[0026]通过第二掩膜版形成绝缘层的图案；
[0027]通过第三掩膜版形成驱动电极的图案和感应电极的图案；
[0028]通过第二掩膜版形成保护层的图案。
[0029]具体地，所述掩膜版对应像素区域绝缘层的过孔部分为半透光。
[0030]本发明还提供一种触摸屏，包括:金属连接层的图案、绝缘层的图案、驱动电极的图案和感应电极的图案、保护层的图案；所述绝缘层的图案和保护层的图案采用上述的方法制作。
[0031]本发明提供的触摸屏及其制作方法，所述方法包括:在基板上形成金属连接层的图案、绝缘层的图案、驱动电极的图案、感应电极的图案和保护层的图案；所述绝缘层的图案和所述保护层的图案通过同一块掩膜版形成。本发明触摸屏的制作过程中由原来的四块掩膜版较少为三块掩膜版，可减少掩膜版的数量，节约成产成本。
【附图说明】
[0032]图1为现有触摸屏的像素区域和周边驱动区域的截面图；
[0033]图2为本发明实施例所述触摸屏的制作方法流程示意图；
[0034]图3为本发明实施例形成金属连接层后的基板结构示意图；
[0035]图4为本发明实施例所述绝缘层的图形化方法示意图；
[0036]图5为本发明实施例形成绝缘层后的基板结构示意图；
[0037]图6为本发明实施例形成驱动电极和感应电极的图案后的基板结构示意图；
[0038]图7为本发明实施例所述保护层的图形化方法示意图；
[0039]图8为本发明另一实施例所述保护层的图形化方法示意图。
[0040]附图标记说明:
[0041]I感应电极；2驱动电极；3半透膜；4金属连接层；5绝缘层；6保护层；7基板；8 ；9第二掩膜版；10感光材料；11感光材料曝光部分。
【具体实施方式】
[0042]本发明的实施例中，所述绝缘层5的图案和保护层6的图案采用同一块掩膜版制作，可节约成产成本。
[0043]下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细说明。其中，各附图中虚线左侧区域为像素区域，虚线右侧为周边驱动区域。
[0044]图2为本发明实施例所述触摸屏的制作方法流程示意图，如图2所示，包括如下步骤:
[0045]步骤201:在基板上形成金属连接层的图案；
[0046]具体的，在基板7上沉积一层金属薄膜，并对所述金属薄膜进行图形化，即:通过第一掩膜版进行曝光显影、刻蚀，形成金属连接层4的图案，如图3所示。
[0047]步骤202:在形成有金属连接层的图案的基板上形成绝缘层5的图案；
[0048]具体的，首先，在形成有金属连接层4的图案的基板7上沉积一层非金属(如氮化硅)薄膜，并在所述非金属薄膜上涂覆感光材料，如:光刻胶或感光树脂；
[0049]这里，以正性光刻胶为例进行说明，即其本身对显影液是不可溶的，经曝光以后变成可溶物质从而暴露基板上曝光区域的结构。相应的，本发明实施中使用的掩膜版的透光区域对应在基板上形成光刻胶完全去除区，掩膜版的不透光区域对应在在基板上形成光刻胶完全保留区。
[0050]其次，如图4所示，利用第二掩膜版9对所述感光材料10进